JP2017515818A - 水性組成物中のイソチアゾロンの安定化 - Google Patents

水性組成物中のイソチアゾロンの安定化 Download PDF

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Abstract

(a)少なくとも1つの3−イソチアゾロン及び(b)3つのC2−C6ヒドロキシアルキル基を有する少なくとも1つの三級アミンを含み、ヒドロキシアルキル基のうちの少なくとも1つは、二級ヒドロキシル基を有する、水性組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、イソチアゾロン及び三級アミン化合物を含有する金属加工流体を含む水性組成物に関する。
3−イソチアゾロン及びアルカノールアミンを含有する流体組成物が、米国特許第2008/0280792号に開示される。本参照は、3−イソチアゾロンを、ヨウ素含有安定剤またはメルカプトベンゾチアゾールの添加によって安定化する必要があることを開示する。しかしながら、流体中のそのような安定剤の使用は、経済的及び環境的な理由により望ましくない。
本発明によって取り組まれる問題は、3−イソチアゾロン及びアルカノールアミンを含有する改良された水性組成物を提供することである。
本発明は、(a)少なくとも1つの3−イソチアゾロン及び(b)3つのC−Cヒドロキシアルキル基を含む少なくとも1つの三級アミンを含み、ヒドロキシアルキル基は、二級ヒドロキシル基を有する、水性組成物を対象とする。
「MIT」は、2−メチル−3−イソチアゾロンとも呼ばれる2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンである。「CMIT」は、5−クロロ−2−メチル−3−イソチアゾロンとも呼ばれる5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンである。好ましくは、CMITのMITに対する重量比は、少なくとも2:1、好ましくは、少なくとも2.5:1である。好ましくは、CMITのMITに対する重量比は、4:1を超えず、好ましくは、3.5:1を超えない。本発明の1つの好ましい実施形態において、CMIT:MIT比は、約3:1である。「MBIT」は、N−メチル−1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オンである。「OIT」は、2−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オンである。好ましくは、3−イソチアゾロンは、MIT、CMIT/MIT、OIT、MBIT、またはそれらの混合物であり、好ましくは、MIT及び/またはOITである。
本明細書で使用されるとき、文脈が別途明確に示さない限り、指定された定義を有する。用語「消毒薬」は、ある部位で微生物の成長を抑制することか、または成長を制御することが可能な化合物を指し、消毒薬は、殺菌剤、殺真菌薬、及び殺藻剤を含む。用語「微生物」は、例えば、真菌(酵母及びカビ等)、細菌、及び藻類を含む。本明細書を通じて以下の略称が用いられる:ppm=重量百万分率(重量/重量)、mL=ミリリットル、AI=有効成分、すなわち、イソチアゾロンの総量。別途示されない限り、温度は、摂氏度(℃)であり、別途示されない限り、パーセンテージへの言及は、重量パーセント(重量%)であり、量及び比率は、有効成分ベースである。実験が、「室温」で行われていると記載されている場合、これは、20〜25℃の温度を意味する。
水性組成物は、例えば、金属加工流体及び濃縮物、家庭用品(例えば、洗浄剤)、パーソナルケア製品(例えば、クリーム、ローション、ヘアケア製品)、水性塗料用組成物(例えば、ラテックス塗料)、木材処理用組成物、及び布地処理組成物を含む。好ましくは、水性組成物は、金属加工流体または金属加工流体濃縮物である。典型的には、濃縮物は、金属加工流体として使用するために希釈される。好ましくは、濃縮物中の成分(水以外)の濃度は、金属加工流体中の同一の成分の濃度の10〜100倍、好ましくは、10〜25倍である。水性組成物はまた、1つ以上の金属加工添加剤も含有し得、金属加工添加剤は、例えば、本明細書に記載される三級アミン以外のアミン、脂肪酸、界面活性剤、可溶性油、乳化性油、油性剤(例えば、ポリオールエステル等、膜強度を増加するため)、合成潤滑剤(例えば、エチレンオキシド−プロピレンオキシドランダムまたはコポリマー、油溶性ポリアルキレンエーテル等、流体の潤滑性を向上させるため)、乳化剤(例えば、脂肪アミド、脂肪酸の塩、非イオン性界面活性剤等の水中油の湿潤または分散を向上させるため)、極圧剤(例えば、硫化脂肪材料、塩化パラフィン、リン誘導体等、高圧下での潤滑のため)、カップリング剤(例えば、脂肪アルコール等、MWF中の種々の添加剤の溶解度を向上させるため)、腐食抑制剤(例えば、カルボン酸またはホウ酸のアミン塩等、部品またはツールの腐食を抑制するため)、消泡剤(例えば、長鎖脂肪アルコール、シリコーン、シロキサン等、気泡を減少させるため)、金属不活性化剤(例えば、トリアゾール等、新たに露出された金属の腐食から保護)、防曇添加剤(アルキルフェノールアルコキシレート)、及びキレーター(例えば、EDTA、リン酸塩、ポリリン酸塩等、硬水効果を減少させるため)を含む。
三級アミン中のヒドロキシアルキル基は、同一であり得るか、または異なり得る。好ましくは、ヒドロキシアルキル基のうちの2つは、二級ヒドロキシル基を有する。好ましくは、三級アミンは、3つのC−Cヒドロキシアルキル基、好ましくは、3つのC−Cヒドロキシアルキル基、好ましくは、それぞれがCまたはCヒドロキシアルキル基である3つのヒドロキシアルキル基を有する。好ましくは、Cヒドロキシアルキル基は、2−ヒドロキシエチル基である。好ましくは、Cヒドロキシアルキル基は、2−ヒドロキシ−1−プロピル基である。好ましくは、Cヒドロキシアルキル基は、2−ヒドロキシ−1−ブチル基である。特に、好ましいアミンは、N,N−ビス(2−ヒドロキシブチル)−2−アミノエタノール、1−[ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−2−ブタノール、及びトリイソプロパノールアミン(TIPA、CAS No.122−20−3)を含む。
好ましくは、水性組成物は、(有効成分ベースで)少なくとも1ppmの3−イソチアゾロンを含有し、好ましくは、少なくとも3ppm、好ましくは、少なくとも5ppm、好ましくは、少なくとも10ppm、好ましくは、少なくとも50ppm好ましくは、少なくとも100ppm、好ましくは、少なくとも500ppmを含有し、好ましくは、組成物は、6,000ppm未満好ましくは、4,000ppm未満、好ましくは、3,000ppm未満、好ましくは、2,000ppm未満、好ましくは、1,000ppm未満、好ましくは、500ppm未満を含有する。好ましくは、水性組成物は、少なくとも0.1重量%の三級アミンを含有し、好ましくは、少なくとも0.5重量%、好ましくは、少なくとも1重量%、好ましくは、少なくとも2重量%、好ましくは、少なくとも3重量%、好ましくは、少なくとも5重量%を含有し、好ましくは、組成物は、35重量%未満、好ましくは、30重量%未満、好ましくは、25重量%未満、好ましくは、20重量%未満、好ましくは、15重量%未満、好ましくは、10重量%未満を含有する。水性組成物は、好ましくは、少なくとも30重量%の水を含有し、好ましくは、少なくとも40重量%、好ましくは、少なくとも50重量%、好ましくは、少なくとも60重量%、好ましくは、少なくとも70重量%を含有し、好ましくは、99重量%未満の水、好ましくは、97重量%未満、好ましくは、95重量%未満、好ましくは、90重量%未満、好ましくは、80重量%未満を含有する。
好ましくは、水性組成物は、臭素酸、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、またはそれらの塩、及びルカプトベンゾチアゾールを実質的に含まず、すなわち、組成物は、合計0.05%未満のこれらの物質を含有し、好ましくは、0.01%未満、好ましくは、0.005%未満、好ましくは、0.001%未満を含有する。
ヒドロキシル含有量−ヒドロキシル含有量を、ASTM D 4274に基づく手順を用いて、100℃で30分間、ピリジン溶媒中でイミダゾール触媒と共に過剰量の無水フタル酸試薬を用いて、アミンアルコキシレートを誘導体化することによって測定した。フタル酸半エステルの形成後、未反応の無水フタル酸を、加水分解し、Mettler DL−55滴定装置を用いて、1N水酸化ナトリウム試薬で滴定した。半エステルを、水で完全に加水分解した同量の無水フタル酸試薬の試料滴定とブランク滴定との間の差によって定量化した。差をヒドロキシル価(mg KOH/g試料)または%OHとして表す。本研究において分析されるアミンブトキシレート(機能性=3)の場合、分子量は、以下の式で計算される:(3×1700)/%OH。
H−1 NMR−クロロホルム−d中のアミンブトキシレート試料を、5mmのNMR管中で調製した。BRUKER 300MHz NMRでのプロトン実験によってデータを収集した。
モノエタノールアミン(MEA)及びジエタノールアミン(DEA)ブトキシラートの合成
アルコキシ化反応の全てを、磁気駆動の羽根車、圧力トランスデューサ、ジャケット戻りライン熱電対、及び冗長反応器熱電対を備える、ジャケット式のバッフル付9Lのステンレス鋼オートクレーブ反応器内で行った。MOD−Vデジタル制御システムによって動作する制御弁を介して、蒸気及び冷却水の混合物を反応器ジャケットに導入して、温度制御を達成した。ブチレンオキシド(BO)を、スケール上に位置する指定供給タンクに投入した。動作温度(セットポイントの±5℃)及び圧力(16〜85psia)の制約内で、自動流量制御弁を通して供給タンク低部出口から反応器へBOを計量供給した。これらの実行は、2つのBO等価物を有するMEA及び1つのBO等価物を有するDEAのブトキシラートを対象とした。
モノエタノールアミン及びジエタノールアミンを、Aldrichから入手した。DowブチレンオキシドをFreeport Market Development Plantから入手した。
MEAジブトキシラート(N,N−ビス(2−ヒドロキシブチル)−2−アミノエタノール)の調製
この実行は、110℃の供給温度及び110℃の消化温度を用いて、触媒(アミン自己触媒)を添加せずに、モノエノールアミン(MEA)のブトキシラート(2BO)を対象とした。MEA(901.7g)を、9Lの反応器に投入した。反応器を窒素で加圧し、換気(7回)して、大気酸素を除去した。その後、反応器を、周囲温度で16〜20psiaへ窒素で加圧した。反応器の内容物を110℃で撹拌して加熱し、その後、BO(合計2180g)を、30psiaの動作圧力をもたらす110℃で4時間にわたって反応器内へ計量供給した。BO供給が完了した後、反応器の内容物を、110℃でさらに10時間(一晩)撹拌して、未反応のオキシドを消費した(消化)。反応器を、約100℃まで冷却し、その後、窒素を1時間散布して、あらゆる未反応のブチレンオキシドを除去した。その後、反応器を60℃まで冷却し、排出して、3056.1gの生成物を得た。反応生成物の試料を、ヒドロキシル滴定によって分析した(202MWまたはMEA+2.0BOに相当する25.228%OH)。プロトンNMR分光法は、2.1の推定BO:MEAモル比を提供した。
DEAモノブトキシラート(1−[ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−2−ブタノール)の調製
この実行は、110℃の供給温度及び110℃の消化温度を用いて、触媒(アミン自己触媒)を添加せずに、ジエタノールアミン(DEA)のブトキシラート(1BO)を対象とした。DEA(1960.2g)を、9Lの反応器に投入した。反応器を窒素で加圧し、その後、換気(7回)して、大気酸素を除去した。その後、反応器を、周囲温度で16〜20psiaへ窒素で加圧した。反応器の内容物を110℃で撹拌して加熱し、その後、BO(合計1395g)を、25〜30psiaの動作圧力をもたらす110℃で2時間半にわたって反応器内へ計量供給した。BO供給が完了した後、反応器の内容物を、110℃でさらに17時間(一晩)撹拌して、未反応のオキシドを消費した(消化)。反応器を、約100℃まで冷却し、その後、窒素を1時間散布して、あらゆる未反応のブチレンオキシドを除去した。その後、反応器を60℃まで冷却し、排出して、3161.4gの生成物を得た。反応生成物の試料を、ヒドロキシル滴定によって分析した(179MWまたはDEA+1.0BOに相当する28.494%OH)。プロトンNMR分光法は、1.0の推定BO:DEAモル比を提供した。
モデル金属加工流体(MWF)試料の調製
モデルMWF試料を、分析スケールを用いて成分を秤量することによって調製した。40グラムの各モデルMWF濃縮物試料を作製した。
40グラムのブランク試料(殺生物剤なし)を以下の通りに調製した。
16.38gの無菌ミリポア水(dH0)
18.8gのプロピレングリコール
2.46gの1M HCl
2.36gのアミン
NaOHを使用して、最終pHを9.95〜10に導いた。
以下のアミンを使用して、試料を作製した。
A.1−[ビス(ヒドロキシルエチル)アミノ]−2−ブタノール
B.平均5個のEO単位を有するジエトキシル化された8−メチルノニルアミン
C.ビス(2−ヒドロキシエチル)イソデシルオキシプロピルアミン
D.N,N−ビス(2−ヒドロキシブチル)−2−アミノエタノール
E.トリエタノールアミン
F.2−アミノエタノール
G.TIPA
H.3−アミノ−4−オクタノール
I.AMP 95(2‐アミノ‐2‐メチルプロパン‐1‐オール)
殺生物剤を投与した試料を調製するために、dHOの量を調整して、添加した殺生物剤を補正した。NaOHを使用して、有効な殺生物剤を添加する前にpHを9.95〜10に導いた。以下の処方を使用した。
MIT
16.28gのdH
2.32gのアミン
2.4gの1M HCl
18.8gのプロピレングリコール
0.2gのKORDEK LX 5000殺生物剤(約2500ppmのMIT投与)
OIT
16.35gのdH
2.32gのアミン
2.4gの1M HCl
18.8gのプロピレングリコール
0.13gのSKANE M8殺生物剤(約1500ppmのOIT投与)
MBIT
12.48gのdH
2.32gのアミン
2.4gの1M HCl
18.8gのプロピレングリコール
4gのROCIMA 551S殺生物剤(約3700ppmのMBIT投与)
タンク側希釈でのCMIT/MIT
19.39gのdH
0.058gのアミン
0.06gの1M HCl
0.47gのプロピレングリコール
0.024gのKATHON CC殺生物剤(合計約18ppmのCMIT及びMIT投与)
安定性試験
殺生物剤を投与したMWF試料の有効レベルを、高圧液体クロマトグラフィ(HPLC)によって時間0で分析した。その後、試料を、ボルテックスし、室温で熟成した試料と40℃で熟成した試料とに分割した。毎週、一定分量の熟成した試料の残りの有効レベルを、HPLCによって評価した。連続2週間の間、有効成分が発見されなかった試料は、分析を止めた。以下の表は、それぞれ試験した殺生物剤を有する各アミンに対する結果を、示された時間での残りの有効成分の重量%として表示する。太字の値は、許容可能なレベルの安定性を表す。アミンA、D、及びGは、請求項1の範囲内であり、その他は比較である。
Figure 2017515818
Figure 2017515818
これらの結果は、極めて高いアミン:イソチアゾロンの比率でさえも、アミンA、D、及びGは、室温及び40℃の両方で、他のアミンより良好な安定性を提供することを実証する。
Figure 2017515818
Figure 2017515818
Figure 2017515818
Figure 2017515818

Claims (9)

  1. (a)少なくとも1つの3−イソチアゾロン及び(b)3つのC−Cヒドロキシアルキル基を含む少なくとも1つの三級アミンを含み、前記ヒドロキシアルキル基のうちの少なくとも1つは、二級ヒドロキシル基を有する、水性組成物。
  2. 前記少なくとも1つの3−イソチアゾロンは、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、N−メチル−1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン、2−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される、請求項1に記載の水性組成物。
  3. 前記少なくとも1つの三級アミンは、3つのC−Cヒドロキシアルキル基を含む、請求項2に記載の水性組成物。
  4. 前記水性組成物は、金属加工流体または金属加工流体濃縮物である、請求項3に記載の水性組成物。
  5. 前記三級アミンは、0.1重量%〜25重量%のレベルで存在し、前記3−イソチアゾロンは、3〜6000ppmのレベルで存在する、請求項4に記載の水性組成物。
  6. 金属加工流体を生産する方法であって、(a)少なくとも1つの3−イソチアゾロン及び(b)3つのC−Cヒドロキシアルキル基を含む少なくとも1つの三級アミンを、金属加工流体としての使用に適した水性組成物中で組み合わせることを含み、前記ヒドロキシアルキル基のうちの少なくとも1つは、二級ヒドロキシル基を有する、前記方法。
  7. 前記少なくとも1つの3−イソチアゾロンは、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、N−メチル−1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン、2−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、及びそれらの組み合わせから成る群から選択される、請求項6に記載の方法。
  8. 前記少なくとも1つの三級アミンは、3つのC−Cヒドロキシアルキル基を含む、請求項7に記載の方法。
  9. 前記三級アミンは、0.1〜25重量%のレベルで存在し、前記3−イソチアゾロンは、3〜6000ppmのレベルで存在する、請求項8に記載の方法。
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