JP2017514299A - 量子ドット組成物 - Google Patents

量子ドット組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2017514299A
JP2017514299A JP2016558113A JP2016558113A JP2017514299A JP 2017514299 A JP2017514299 A JP 2017514299A JP 2016558113 A JP2016558113 A JP 2016558113A JP 2016558113 A JP2016558113 A JP 2016558113A JP 2017514299 A JP2017514299 A JP 2017514299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
polysiloxane
polymer
quantum dots
pdms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016558113A
Other languages
English (en)
Inventor
ナライネン,アミルカー ピレイ
ナライネン,アミルカー ピレイ
ボー,コン−ドゥアン
ドゥオン クワン グエン,カイ
ドゥオン クワン グエン,カイ
ナーサニ,イマド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanoco Technologies Ltd
Original Assignee
Nanoco Technologies Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanoco Technologies Ltd filed Critical Nanoco Technologies Ltd
Publication of JP2017514299A publication Critical patent/JP2017514299A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • C09K11/025Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/88Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
    • C09K11/881Chalcogenides
    • C09K11/883Chalcogenides with zinc or cadmium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/04Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a quantum effect structure or superlattice, e.g. tunnel junction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/774Exhibiting three-dimensional carrier confinement, e.g. quantum dots
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/778Nanostructure within specified host or matrix material, e.g. nanocomposite films
    • Y10S977/779Possessing nanosized particles, powders, flakes, or clusters other than simple atomic impurity doping
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/949Radiation emitter using nanostructure
    • Y10S977/95Electromagnetic energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

【解決手段】幾つかのシリコン含有表面修飾リガンドを用いて、ポリシロキサンに対する半導体ナノ粒子(量子ドット)の親和性をより高くできることが分かった。ポリシロキサンマトリックス中に分散した量子ドットは、例えば、発光デバイスに使用されて、このようなデバイスの発光スペクトルを変更することができる。【選択図】図1

Description

[関連出願の相互参照]
本願は、2014年3月18日に出願された米国仮出願第61/954,860号の利益を主張する。
本発明は概して、発光半導体量子ドット(QD)を含む材料に関する。より具体的には、本発明は、QDを含むシリコーン系ポリマーに関する。
発光ダイオード(LED)は、日常生活においてますます重要になっており、それらは、自動車照明、交通信号、一般照明、液晶ディスプレイ(LCD)のバックライト、ディスプレイスクリーンのような多数の照明形態において主に用いられるものの一つになると予想される。現在、LEDデバイスは、AlGaAs(赤)、AlGaInP(オレンジ−黄−緑)及びAlGaInN(緑−青)のような無機ソリッドステート化合物半導体から作られる。しかしながら、市販のソリッドステート化合物半導体の混合物を用いて、白色光を放射するソリッドステートLEDを作製することはできない。更に、周波数が異なるソリッドステート半導体を混ぜることで「きれいな(pure)」色を生成することも困難である。故に、白色を含む所望の色を生成するための現在における主たる色混合方法は、ソリッドステートLEDの上に配置される蛍光材料の組合せを用いている。これによって、LEDからの光(「一次光」)は、蛍光材料で吸収されて、異なる周波数で再放射される(「二次光」)。つまり、蛍光材料が、一次光を二次光にダウンコンバートする。更に、蛍光体を用いたダウンコンバージョンで得られる白色LEDを使用することで、ソリッドステート赤色−緑色−青色LEDを用いるよりもコストが安くなり、デバイス製造が簡単になる。
ダウンコンバージョン用途に使用される現在の蛍光材料は、UV光又は主に青色光を吸収してより長い波長に変換する。蛍光材料の大半は、現在、三価希土類がドープされた酸化物又はハロリン酸塩を用いている。青色領域、緑色領域及び赤色領域にて放射する蛍光体を、青色又はUV放射半導体デバイスの光と組み合わせることで、白色放射が得られる。例えば、SrGa:Eu2+のような緑色蛍光体及びSrSiEu2+のような赤色蛍光体と青色発光LED、Sr:Eu2+;Mn+2のような黄色蛍光体及び青緑蛍光体とUV発光LEDなどである。白色LEDはまた、黄色蛍光体と青色LEDを組み合わせることで作製可能である。しかしながら、この方法を用いると、LED及び蛍光体の調節機能が欠落するので、色彩管理と演色が不十分となり得る。更に、従来のLED蛍光体技術は、演色に乏しい(即ち、演色評価数(CRI)<75)ダウンコンバージョン材料を用いている。
量子ドット(QD)又はナノ結晶としばしば称される、粒子の大きさが2乃至50nm程度である化合物半導体を活用することに相当な関心が持たれている。これらの材料への商業的な関心は、サイズ調節可能な(size-tunable)電子特性によって非常に高くなっており、当該特性は、光学デバイスや電子デバイスなど非常に多くの商業的用途やその他の用途に活用することができる。発展中の多くの新しい用途の中には、生物学的標識、太陽電池、触媒、生体イメージング、LED、一般空間照明、エレクトロルミネセンスディスプレイがある。
最も研究されている半導体材料には、カルコゲニドII−VI材料、具体的にはZnS、ZnSe、CdS、CdSe及びCdTeがある。CdSeは、スペクトルの可視領域にわたるその調節可能性から、最も注目されている。これらの材料を大規模生産するための再現可能な方法は、「ボトムアップ(bottom up)」技術から発展してきた。当該技術では、粒子は、「湿式(wet)」化学的手法を用いて、アトムバイアトム(atom-by-atom)で、即ち、分子からクラスタ、さらには粒子へと調製される。
両方とも個々の半導体ナノ粒子のサイズに関係している2つの基本的な因子が、それらの特有な特性の原因となっている。第1の因子は、大きな表面積対体積比(surface-to-volume ratio)である。粒子が小さくなるほど、内部における原子数に対する表面の原子数の比は増加する。これによって、表面特性が、材料の全般的な特性において重要な役割を果たすことになる。第2の因子は、半導体ナノ粒子を含む多くの材料では、サイズによって材料の電子特性が変化することである。その上、量子閉じ込め効果によって、粒子のサイズが減少するにつれてバンドギャップは徐々に大きくなる。この効果は、所謂「箱への電子(electron in a box)」の閉じ込めの結果であり、これは、対応するバルク半導体材料で観察されるような連続的なバンドではなく、原子と分子で観察されるものと似た離散的なエネルギーレベルを生じさせる。故に、半導体ナノ粒子では、物理的パラメータのために、第1励起子遷移よりも光子のエネルギーが高い電磁放射の吸収で生じる「電子と正孔」は、対応するマクロ結晶材料中よりも互いにより接近する。更に、クーロン相互作用が無視できない。これにより、ナノ粒子材料の粒子サイズ及び組成に依存しておりバンド幅が狭い放射が引き起こされる。故に、量子ドットは、対応するマクロ結晶材料よりも高い運動エネルギーを有しており、結果として、第1励起子遷移(バンドギャップ)のエネルギーは、粒子の直径が減少すると増加する。
コア半導体ナノ粒子は、外側の有機不動態層を伴う単一の半導体材料からなっており、量子収量が比較的低い傾向がある。これは、電子−正孔再結合が、ナノ粒子表面にある欠陥とダングリングボンドにて起こるからである。欠陥とダングリングボンドは、非放射的電子−正孔再結合を引き起こし得る。量子ドットの無機表面の欠陥とダングリングボンドを除去する方法の一つは、コアの材料よりもバンドギャップが広く、格子不整合が小さい第2の無機材料をコア粒子の表面でエピタキシャルに成長させて、「コア−シェル」粒子を生成することである。コア−シェルナノ粒子は、さもなければ非放射的再結合中心として作用していたであろう表面状態からコアに閉じ込められたキャリアを引き離す。一例としては、CdSeコアの表面に成長したZnSシェルがある。
上記の議論から、今日までに広範に研究されてきたQD材料の多くは、カドミウムイオンを含んでいることは理解されるであろう。しかしながら、カドミウムの使用や、水銀や鉛を用いた材料のようなその他の重金属の使用に関連した多くの環境問題があることから、カドミウムフリーナノ粒子材料を開発する必要がある。特に、カドミウムを用いた現在の材料と同様な単分散性とサイズ調節可能な光ルミネセンススペクトルとを示す、カドミウムを含んでいない量子ドットを作製することが望まれている。更に、商業的必要から、このような材料は、高い収率で、大規模に、できるだけ安く作製されるべきである。
量子ドットを用いた初期の発光デバイスは、コロイド状に生成された量子ドットを、光学的に明澄なLED封入媒体、典型的にはシリコーン又はアクリレートに埋め込んで、その後、それをソリッドステートLEDの上に置くことで作製されてきた。量子ドットの使用は、より一般的な蛍光体を使用する場合よりも幾つかの顕著な利点を潜在的に有している。そのような利点には、放射波長を調節できること、強い吸収特性、低散乱がある(量子ドットが単分散している場合)。
次世代発光デバイスにおける量子ドットの商業的用途では、量子ドットは、LED封入材料に含められる一方で、できるだけ十分に単分散したままであって、量子効率が大きく損なわれないことが好ましい。今日までに開発された方法には、とりわけ現在のLED封入剤の性質が理由で問題がある。量子ドットは、現在のLED封入剤に配合されると凝集して、それによって、量子ドットの光学的性能が低下してしまう。更に、量子ドットがLED封入剤に含められると、酸素が封入剤を通って、量子ドットの表面に移動し得る。これは、光酸化を引き起こして、その結果、量子収量(QY)が低下する。
QDへの酸素の移動の問題に対処する方法の一つは、ポリマーのような、酸素透過性が低い媒体にQDを含めることであった。QDを含むポリマーを使用して、発光デバイスに組み込むことができるフィルムやビーズを作ることができる。しかしながら、QDは、全てのポリマーシステムとは共存できない。特に、共存できないポリマーシステムは、QDと反応して、QDのQYを減少させる。また。QDは、多くのポリマーシステム中にて凝集して、QYの低下を引き起こす傾向がある。今日まで、メタアクリレートのようなアクレートモノマーを基礎とするポリマーは、QDと最も共存できることが分かっている。しかしながら、アクレートシステムの大半は、酸素に対してある程度の透過性があり、そのことから、理想的とは言えない。また、アクリレートモノマーは、高温、紫外線、酸化によって劣化する。
量子ドット(QD)は、大抵の場合、現在のLED封入剤に配合されると凝集する。これは、量子ドットの光学性能を低下させる。封入剤を通って量子ドットの表面に移動する酸素は、量子ドットの光酸化を引き起こし、その結果、量子収率(QY)が減少する。ほとんどのアクレートポリマーシステムは、酸素に対して少なくともある程度の透過性を有している。更に、アクレートポリマーは、高温で、また、紫外線や酸化剤に曝されると、劣化する傾向がある。
ポリシロキサン(無機のシリコン系ポリマー)は、熱、UV放射、酸化に対して優れた抵抗性を有している。ポリシロキサンの例としては、ポリジメチルシロキサン(PDMS)がある。アクリレートやエポキシのような幾つかの官能基がポリジメチルシロキサンに含められてよく、可撓性をもたらして、所望の多くの特性を有する架橋膜を作製することができる。残念なことに、QDは、一般的に大抵のポリシロキサンにあまり分散しない。その結果、QDが分散したポリシロキサンを用いて作られた膜やその他の構造のQYは、理想的なQYよりも小さい。
幾つかのシリコン含有表面修飾リガンドを使用して、ポリシロキサンに対してより親和性があるQDを作製できることが分かった。QDが分散したポリシロキサンマトリックスは、例えば、発光デバイスに使用されて、当該デバイスの放射スペクトルが変更されてよい。
図1は、本発明の実施形態に基づいてポリアルキルシロキサン修飾QDを作製するプロセスの概略図である。
図2は、表面リガンドが加えられていない場合(左上のバイアル)と、表面リガンドが加えられた場合(右上のバイアル)とにおける粘性ポリジメチルシロキサン樹脂中の量子ドットの写真と、窒素下で24時間50℃で硬化させた後のそれらに対応する膜の写真である。
図3は、本発明の実施形態に基づいて表面リガンドを用いた、低粘性ポリジメチルシロキサン中に分散したQDと、表面リガンドを用いていない、低粘性ポリジメチルシロキサン中に分散したQDとを示している。
図4は、処理されていない膜(破線)と、C2245−ポリジメチル−シロキサン処理されたQD/ポリジメチルシロキサン膜(実線)のスペクトルを示す。
ポリシロキサンと称される無機シリコン系ポリマーは、熱、UV放射、酸化に対して優れた耐性を有していることから、高性能コーティングに頻繁に使用されている。ポリシロキサンの一例には、ポリジメチルシロキサン(48686 ミシガン ミッドランド ウエスト ザルツブルグ ロード 2200 ダウ コーニング コーポレーションのSYLGARD(登録商標)184として市販されているPDMS)がある。アクリレートやエポキシのような幾つかの官能基がポリジメチルシロキサンに含められてよく、可撓性をもたらして、所望の多くの特性(例えば、ハイソリッド/低揮発性有機化合物、優れた耐候性、優れた耐腐食性)を有する架橋膜を作製することができる。ポリシロキサンは、従来の有機コーティングに対する費用効率の高い代替物をもたらし得る。残念なことに、QDは、一般的に大抵のポリシロキサンにあまり分散しない。これは、QDによく使用される従来技術の表面リガンドは、一般的にポリシロキサンとの親和性がないからである。その結果、QDが分散したポリシロキサンを用いて作られた膜やその他の構造におけるQYは、理想的なQYよりも小さい。
シリコン含有表面修飾リガンドを使用して、ポリシロキサンとのQDの親和性をより高くできることが分かった。シリコン含有表面修飾リガンドは、構造1乃至3で示されてよい。
(1)R−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH
(2)R−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH−R
(3)−(Si(R)−O)−(Si(R)−O)
ここで、R、R、R、R、Rは脂肪族基であり、末端官能基はあってもなくてもよい。例えばR、R、R、R、Rの1又は複数は、QDの表面と化学的に結合する官能基と置換されてよい。このような官能基の例には、チオール、カルボキシレート及びアミンがある。幾つかの実施形態では、R乃至Rの何れも、置換又は非置換(−CH鎖であってよい。単位の繰り返し数nは、例えば、2乃至30、2乃至20、2乃至10、又は2乃至5であってよい。
好適なシリコン含有表面修飾リガンドの例には、HOOC−(CH10−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH−C 及び HOOC−C1837−PDMS(ゲレスト社 ペンシルベニア モリスビルから入手可能)がある。構造1乃至3に従うその他のシリコン含有表面修飾リガンドは、当業者によく知られている技術によって合成できる。例えば、脂肪族アルコールを用いてカルボキシル化ポリシロキサンのエステル化がなされて、脂肪族置換ポリシロキサンが得られてよい。CH(CH2)−CHOH、tert−ブタノールやイソボルネオールのようなアルコールが使用されて、表面修飾リガンドとして有用な様々な脂肪族置換ポリシロキサンが得られてよい。下記の実施例1は、カルボキシル基末端PDMSとラウリルアルコールの間のエステル化反応によるこのようなリガンドの調製について説明している。
図1は、本明細書で説明されている、ポリシロキサンを用いたQD膜を調製する手順を図示している。図1に示された手順によれば、上記のようにして調製されたポリシロキサンリガンドが、容器に加えられる(101)。ポリシロキサンリガンドは、典型的には液体であって、何もない容器に又は適切な溶媒に加えられる。容器は、例えばバイアルやフラスコであってよい。Nのような不活性ガスで容器をパージするのが有益であろう。その後、QDが容器に加えられる(102)。本発明は、特定の種類のQDに限定されない。しかしながら、これらの感応度に起因して、カドミウムフリーQDは、本明細書に記載の方法から特に利益を得る。カドミウムフリーQDの例には、CFQD(登録商標)を用いてナノコ テクノロジーズ リミテッドから売られている、In、P、Zn及びSの合金を用いたQDがある。
当業者であれば、多くの場合において、コアQD、コア/シェル型QD、コア/マルチシェル型QD、ドープされたQD、傾斜QDの最終無機表面原子の配位は通常不完全であって、反応性が高く、十分に配位していない原子は、粒子の表面にて「ダングリングボンド」として作用して、粒子の凝集を引き起こすことは理解できるであろう。この問題は、通常、保護有機基(「キャッピング剤」)で「ベアな(bare)」表面原子を不動態化する(キャッピングする)ことで克服される。キャッピング剤は、ナノ粒子が調製される溶媒であってよく、或いは、QDが調製される溶媒中の反応混合物に加えられてよい。この種のリガンドには、ホスフィン(トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、t−ブチルホスフィン等)、ホスフィンオキシド(トリオクチルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド等)、アルキルホスフォン酸、アルキル−アミン(ヘキサデシルアミン、オクチルアミン等)、アリール−アミン、ピリジン、長鎖脂肪酸やチオフェンなどの単座リガンドや多座リガンドがあるが、これらに限定されない。
QDが、本明細書に開示されているシリコン含有表面修飾リガンドと混合されると、これらのリガンドは、2つの一般的モードのうちの一つでQDの表面に付着する。シリコン含有表面修飾リガンドがQD表面に付着し得る第1のモードは、リガンド交換によるものであり、これによって、シリコン含有表面修飾リガンドは、QD表面に既に存在するキャッピング剤分子の幾つかと置き換わる。このモードの付着は、チオールのような表面結合種を含むシリコン含有表面修飾リガンドについて好ましい。第2のモードは、QD表面に既に存在するキャッピング剤分子によって形成されたシース内にて、シリコン含有表面修飾リガンドがインターカレーションすることによるものである。
シリコン含有表面修飾リガンドを用いてQDの表面が修飾されると、QDはシリコン含有ポリマーと混合される(103)。好適なシリコン含有ポリマーの例には、ダウコーニングから得られるSYLGARD184のようなPDMSがある。架橋剤及び/又は硬化剤が加えられて、混合物が十分に混ぜられてよい。その後、ポリマー/QD混合物が使用されて、膜、ビーズ、又はその他のポリマーを用いた形状が作製されてよい(104)。膜又はビーズを形成する方法は、当業者には明らかであろう。例えば、スピンコーティング、ドロップコーティング、蒸発コーティング、印刷、ドクターブレード法などが使用できる。膜は、例えば50℃に昇温されて、さもなければ当該分野で知られているように硬化する。
下記の実施例に示されているように、QDがシリコン含有リガンドで修飾される場合、QDは、シリコーン中にてより容易に分散して、良好でより均一な膜が得られる。
<実施例1:脂肪族基末端(aliphatic-terminated)ポリジメチルシロキサン表面リガンドの合成>
モノカルボキシル基末端PDMS(10g、6.67mmol)を、冷却塔と攪拌機が装備された三つ口丸底フラスコに加えた。その後、ラウリルアルコール(1.49g、8mmol)を窒素下でフラスコに加えて、混合物をジクロロメタン(DCM、180mL)に溶解させた。その後、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCCI)(1.376g,6.67mmol)及びピロリジノピリジン(99.8mg、0.667mmol)を加えて、混合物を窒素下で一晩撹拌した。その後、混合物を50℃の水槽を用いて還流させて、その後、脱イオン水で洗浄した(3×250mL)。その後、有機相をNaSOで乾燥させて、低圧下でDCMを除去した。そのようにして得られた液体をメタノールで洗浄し、その後、ヘキサンに再溶解させた後、ヘキサン溶液中の不溶部分を濾過して除去した。最後に、真空下でヘキサンを除去して、6.89gの透明な液体を得た。
<実施例2:QDがPDMS樹脂中にある膜>
In、P、Zn、及びSを含んでいるコアと、ZnSを用いたシェルとを有する赤色発光コア/シェル型QDを、米国特許第7,867,556号に開示されているようにして調製した。当該特許の全体は、引用を以て本明細書の一部となる。表面リガンドを加えない場合と加えた場合について、QDを入れた粘性PDMS樹脂(SYLGARD184、ダウコーニング)と、窒素下で24時間50℃で硬化したそれらに対応する膜とを目視比較した。その結果、上記のエステル化反応で得られた表面リガンド(C2245−PDMS)は、PDMS樹脂及び膜中における赤色量子ドットの分散を明らかに改善していた。
図3は、表面リガンドを加えていない場合における低粘性の未官能化(unfunctionalized)PDMS中における赤色QDの不十分で非一様な分散(A−C)と、液状の官能化ポリシロキサンで処理した後の赤色QDの一様な分散(D)と、官能化ポリシロキサンの使用が未官能化ポリシロキサン中における分散を改善することを見せている、低粘性の未官能化PDMS中の一様な分散(D)とを示す。(A)QDを乾燥させてPDMSと混合した。(B)QDを乾燥させて、PDMSのトルエン溶液を加えて混合した。(C)QDのトルエン分散液をトルエン中の低粘性PDMSと混合させた(50℃に加熱したが分散は改善しなかった)。(D)QDトルエン分散液を、4−6mol%メルカプトプロピル メチルシロキサン−ジメチルシロキサン コポリマーと混合して、50℃で窒素下で48乃至60時間加熱して、真空を用いてトルエンを除去した後における、メルカプト官能化シリコーン中における赤色QDの分散は良好であった。(E)(D)を希釈して、低粘性未官能化PDMSと混合した場合に得られたQD溶液は透明であった。
図4は、LABSPHERE(登録商標)積分球(ラブスフェア社 03260 ニューハンプシャー ノースサットン シェーカーストリート 231)を用いて得られた、そのままのカドミウムフリーQD/架橋PDMS(SYLGARD 184)膜のスペクトル(破線)と、C2245−PDMS処理されたカドミウムフリーQD/架橋PDMS(SYLGARD 184)膜のスペクトル(実線)とを示す。C2245−PDMS処理されたカドミウムフリーQD膜における、励起ピーク領域に対する放射ピーク領域の比は、そのままのカドミウムフリーQD膜のものよりも大きいことは明らかであり、このことは、処理されたカドミウムフリー量子ドットが、PDMS中によりよく分散した事実と一致している。カドミウムフリーQD/架橋PDMS膜におけるそのままの場合のQE(破線)と、C2245−PDMS処理された場合のQE(実線)とは夫々、38%と52%であった。
表1:シリコーンオイル又は膜中のそのままの赤色QDと表面リガンド処理された赤色QDの量子収量(PDMS中のQD(約12mg/1mL樹脂))
Figure 2017514299
注:HOOCC1021−PDMS−Cは、ABCR GmbH(ドイツ国、カールスルーエ 76187)から得られるモノカルボキシル基末端ポリジメチルポリシロキサン(HOOC−(CH10−Si(CH−O−((Si)−O)−Si(CH−C、粘性=20cps)の略記である。C1837−PDMSは、オクタデシル基末端ポリジメチルシロキサン(ABCR)の略記である。C2245−PDMSは、HOOCC1021−PDMS−Cとラウリルアルコールのエステル化反応から得られたリガンドの略記である。MPMS−PDMSは、4乃至6mol%メルカプトプロピル メチルシロキサン−ジメチルシロキサン コポリマー(ABCR GmbHから入手)の略記である。QD/PDMS膜は、典型的な方法で、窒素雰囲気中にて50℃で24時間硬化された。
本明細書に開示されている実施形態は、以下の利点をもたらす。それらは、ディスプレイ及び照明用途に用いられるものであり、同等な性能と新しい特性を有するQD/ポリマー膜を又はシリコーンオイルのQD分散液を調製する代替的な方法をもたらす。QDポリシロキサン膜は、モノマーとしてラウリルメタクリレート(LMA)を、架橋剤としてトリメチロールプロパントリメタクリレート(TMPTM)を用いて調製された膜と同程度の可撓性を有しており、ポリシロキサン膜のマトリックスは、熱、UV、腐食、酸化に対してより安定している。メタクリレート及びポリウレタンから得られる従来の重合体材料と比較して、ポリポリシロキサンの実績率(solid content)は高く、VOCは低く、毒性は低いことから、環境と健康に関する問題は少ない。
本発明の特定の実施形態が示されて説明されたが、それらは、本特許の範囲を制限することを意図していないことが理解されるはずである。当業者であれば、添付の特許請求の範囲で文言上及び均等物として保護される本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更と変形がなされてよいことは理解できるであろう。

Claims (20)

  1. 半導体材料を含む少なくとも一つの量子ドットと、
    前記量子ドットの表面に配置されており、ポリシロキサンを含む表面リガンドと、
    を備える組成物。
  2. 前記ポリシロキサンは、
    R−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH
    R−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH−R、及び
    R−(Si(R)−O)−(Si(R)−O)
    からなる群から選択された式を有しており、
    n及びmは整数であり、R、R、R、R、及びRは脂肪族基である、請求項1に記載の組成物。
  3. シリコーンポリマーを更に含む、請求項1に記載の組成物。
  4. 前記シリコーンポリマーは、ポリシロキサンである、請求項3に記載の組成物。
  5. 前記量子ドットは、カドミウムフリー量子ドットである、請求項1に記載の組成物。
  6. R、R、R、R、及びRの少なくとも一つは、前記量子ドットの表面に化学的に結合している官能基で置換されている、請求項2に記載の組成物。
  7. 前記官能基は、チオール、カルボキシレート及びアミンからなる群から選択される、請求項6に記載の組成物。
  8. R乃至Rの少なくとも一つは、置換された(−CH鎖を含む、請求項2に記載の組成物。
  9. R乃至Rの少なくとも一つは、未置換の(−CH鎖を含む、請求項2に記載の組成物。
  10. 単位の繰り返し数nは、2乃至30である、請求項2に記載の組成物。
  11. 前記表面リガンドは、化学式:HOOC−(CH10−Si(CH−O−(Si(CH−O)−Si(CH−Cを有する化合物を含む、請求項1に記載の組成物。
  12. 前記表面リガンドは、化学式:HOOC−C1837−PDMSを有する化合物を含んでおり、ここで、PDMSは、ポリジメチルシロキサンである、請求項1に記載の組成物。
  13. 前記量子ドットは、ホスフィン、ホスフィンオキシド、アルキルホスフォン酸、アルキル−アミン、アリール−アミン、ピリジン、長鎖脂肪酸、及びチオフェンからなる群から選択されたキャッピング剤を含む、請求項1に記載の組成物。
  14. 組成物に封入された発光ダイオード(LED)を備える発光デバイスにおいて、前記組成物は、
    半導体材料を含む少なくとも一つの量子ドットと、
    前記量子ドットの表面に配置されており、ポリシロキサンを含む表面リガンドと、
    を備えている、発光デバイス。
  15. 組成物が分散したシリコーンポリマーを含むポリマー膜において、前記組成物は、
    半導体材料を含む少なくとも一つの量子ドットと、
    前記量子ドットの表面に配置されており、ポリシロキサンを含む表面リガンドと、
    を備えている、ポリマー膜。
  16. 前記シリコーンポリマーはポリシロキサンを含む、請求項15に記載のポリマー膜。
  17. 組成物が分散したシリコーンポリマーを含むポリマービーズにおいて、前記組成物は、
    半導体材料を含む少なくとも一つの量子ドットと、
    前記量子ドットの表面に配置されており、ポリシロキサンを含む表面リガンドと、
    を備えている、ポリマービーズ。
  18. 前記シリコーンポリマーはポリシロキサンを含む、請求項17に記載のポリマービーズ。
  19. 前記シリコーンポリマーは本質的にポリシロキサンからなる、請求項17に記載のポリマービーズ。
  20. 前記ポリシロキサンはポリジメチルシロキサンである、請求項19に記載のポリマービーズ。
JP2016558113A 2014-03-18 2015-03-18 量子ドット組成物 Pending JP2017514299A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201461954860P 2014-03-18 2014-03-18
US61/954,860 2014-03-18
PCT/IB2015/000935 WO2015140642A2 (en) 2014-03-18 2015-03-18 Quantum dot compositions

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018202807A Division JP2019061246A (ja) 2014-03-18 2018-10-29 量子ドット組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017514299A true JP2017514299A (ja) 2017-06-01

Family

ID=53719794

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016558113A Pending JP2017514299A (ja) 2014-03-18 2015-03-18 量子ドット組成物
JP2018202807A Pending JP2019061246A (ja) 2014-03-18 2018-10-29 量子ドット組成物

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018202807A Pending JP2019061246A (ja) 2014-03-18 2018-10-29 量子ドット組成物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9663710B2 (ja)
EP (1) EP3119851B1 (ja)
JP (2) JP2017514299A (ja)
KR (2) KR102056786B1 (ja)
CN (2) CN106103647A (ja)
TW (1) TWI586760B (ja)
WO (1) WO2015140642A2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020068365A (ja) * 2018-10-26 2020-04-30 住友化学株式会社 組成物、フィルム、積層構造体、発光装置及びディスプレイ
WO2021241071A1 (ja) * 2020-05-25 2021-12-02 信越化学工業株式会社 量子ドット含有重合体とその製造方法
WO2022124127A1 (ja) * 2020-12-07 2022-06-16 信越化学工業株式会社 量子ドットの表面処理方法及び表面処理装置
US11377591B2 (en) 2018-03-26 2022-07-05 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid composition, photoelectric conversion element production method, and photoelectric conversion element
WO2024075585A1 (ja) * 2022-10-05 2024-04-11 信越化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、パターン形成方法及び発光素子
WO2024075580A1 (ja) * 2022-10-05 2024-04-11 信越化学工業株式会社 量子ドット含有組成物とその製造方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017110060A (ja) * 2015-12-15 2017-06-22 シャープ株式会社 発光性構造体およびそれを用いた発光装置
CN108603105A (zh) * 2016-02-12 2018-09-28 纳米技术有限公司 高度稳定的含量子点聚合物膜
KR102601102B1 (ko) 2016-08-09 2023-11-10 삼성전자주식회사 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 및 이를 포함하는 소자
JP7043727B2 (ja) * 2017-01-31 2022-03-30 大日本印刷株式会社 光波長変換シートの劣化評価方法、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
CN111183193B (zh) 2017-10-27 2022-12-20 三星Sdi株式会社 包含量子点的组成物、量子点与像素的制造方法以及彩色滤光器
TWI798343B (zh) * 2018-03-12 2023-04-11 美商陶氏有機矽公司 可固化聚矽氧組成物及其經固化產物
CN108441221B (zh) * 2018-05-10 2021-06-01 河北工业大学 一种与封装硅胶高兼容核壳量子点材料及其制备方法
KR102154018B1 (ko) * 2018-05-29 2020-09-09 주식회사 신아티앤씨 실록산 수지 바인더 및 InP계 양자점을 포함하는 디스플레이용 양자점 필름 및 그 제조방법
EP3643765A1 (en) 2018-10-22 2020-04-29 SABIC Global Technologies B.V. Stable quantum dot compositions
CN111378431A (zh) * 2018-12-29 2020-07-07 Tcl集团股份有限公司 一种量子点膜及其制备方法与应用
KR102296792B1 (ko) 2019-02-01 2021-08-31 삼성에스디아이 주식회사 무용매형 경화성 조성물, 이를 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법
KR20200099930A (ko) 2019-02-15 2020-08-25 삼성전자주식회사 전계 발광 소자와 이를 포함한 표시 장치
KR102360987B1 (ko) 2019-04-24 2022-02-08 삼성에스디아이 주식회사 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치
CN110165037B (zh) * 2019-05-08 2024-09-20 华南理工大学 一种半固化基材的量子点led器件及其制备方法
WO2021002131A1 (ja) * 2019-07-01 2021-01-07 富士フイルム株式会社 半導体膜、光電変換素子、イメージセンサおよび半導体膜の製造方法
KR102504790B1 (ko) 2019-07-26 2023-02-27 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치
KR20210149956A (ko) * 2020-06-02 2021-12-10 삼성디스플레이 주식회사 양자점 조성물, 발광 소자 및 이의 제조 방법
CN114574187B (zh) * 2020-11-30 2024-03-05 北京京东方技术开发有限公司 纳米粒子、纳米粒子层图案化的方法及相关应用
EP4183825A1 (en) 2021-11-23 2023-05-24 SHPP Global Technologies B.V. Thermoplastic film compositions having improved blue led light stability
EP4183812A1 (en) 2021-11-23 2023-05-24 SHPP Global Technologies B.V. Thermoplastic compositions having improved transmission and haze properties

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005071039A1 (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Kyocera Corporation 波長変換器、発光装置、波長変換器の製造方法および発光装置の製造方法
JP2007196224A (ja) * 2006-01-20 2007-08-09 Samsung Electro Mech Co Ltd シロキサン系分散剤およびこれを含むナノ粒子ペースト組成物
JP2007524119A (ja) * 2004-01-15 2007-08-23 ナノシス・インコーポレイテッド ナノ結晶をドーピングしたマトリックス
JP2009120437A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Niigata Univ シロキサンをグラフト化したシリカ及び高透明シリコーン組成物並びに該組成物で封止した発光半導体装置
US20090281265A1 (en) * 2008-05-08 2009-11-12 Samsung Electronics Co, Ltd Nanocrystal-polydimethylsiloxane composite and preparation method thereof
JP2009544805A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ナノシス・インク. ナノ結晶でドープしたマトリックス
JP2012031375A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd ナノ複合材及びこれを含む発光素子パッケージ
JP2012509604A (ja) * 2008-11-19 2012-04-19 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 半導体ナノ粒子を用いた発光デバイス、関連材料及び方法
JP2012525467A (ja) * 2009-05-01 2012-10-22 ナノシス・インク. ナノ構造の分散のための官能基を有するマトリックス
JP2013505346A (ja) * 2009-09-23 2013-02-14 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 添加物を含み、カプセル化された半導体ナノ粒子ベース材料
US20130099213A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor nanocrystal-polymer composite, method of preparing the same, and composite film and optoelectronic device including the same
WO2013082516A1 (en) * 2011-11-30 2013-06-06 University Of Washington Through Its Center For Commercialization Surface-passivated silicon quantum dot phosphors
WO2013093631A2 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Nanoco Technologies, Inc. Surface modified nanoparticles
WO2013109526A2 (en) * 2012-01-16 2013-07-25 Osram Sylvania Inc. Silicone-grafted core-shell particles, polymer matrix, and led containing same
WO2013114254A2 (en) * 2012-02-03 2013-08-08 Koninklijke Philips N.V. Novel materials and methods for dispersing nano particles in matrices with high quantum yields and stability
WO2013191964A1 (en) * 2012-06-22 2013-12-27 Nanosys, Inc. Silicone ligands for stabilizing quantum dot films
US20140022779A1 (en) * 2011-04-01 2014-01-23 Kai Su White light emitting device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7385003B1 (en) * 2005-10-03 2008-06-10 Sandia Corporation In-situ formation of nanoparticles within a silicon-based matrix
GB0522027D0 (en) 2005-10-28 2005-12-07 Nanoco Technologies Ltd Controlled preparation of nanoparticle materials
KR101167733B1 (ko) * 2005-11-16 2012-07-23 삼성전기주식회사 캡핑 리간드가 표면에 결합되어 있는 나노입자용 분산제, 이를 이용한 나노입자의 분산방법 및 이를 포함하는 나노입자 박막
GB0916700D0 (en) * 2009-09-23 2009-11-04 Nanoco Technologies Ltd Semiconductor nanoparticle-based materials
JP5909985B2 (ja) * 2011-10-17 2016-04-27 ソニー株式会社 電池および電池の製造方法ならびに電池パック、電子機器、電動車両、蓄電装置および電力システム
WO2015101777A1 (en) * 2014-01-06 2015-07-09 Nanoco Technologies Ltd Surface-modified nanoparticles

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007524119A (ja) * 2004-01-15 2007-08-23 ナノシス・インコーポレイテッド ナノ結晶をドーピングしたマトリックス
WO2005071039A1 (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Kyocera Corporation 波長変換器、発光装置、波長変換器の製造方法および発光装置の製造方法
JP2007196224A (ja) * 2006-01-20 2007-08-09 Samsung Electro Mech Co Ltd シロキサン系分散剤およびこれを含むナノ粒子ペースト組成物
JP2009544805A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ナノシス・インク. ナノ結晶でドープしたマトリックス
JP2009120437A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Niigata Univ シロキサンをグラフト化したシリカ及び高透明シリコーン組成物並びに該組成物で封止した発光半導体装置
US20090281265A1 (en) * 2008-05-08 2009-11-12 Samsung Electronics Co, Ltd Nanocrystal-polydimethylsiloxane composite and preparation method thereof
JP2012509604A (ja) * 2008-11-19 2012-04-19 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 半導体ナノ粒子を用いた発光デバイス、関連材料及び方法
JP2012525467A (ja) * 2009-05-01 2012-10-22 ナノシス・インク. ナノ構造の分散のための官能基を有するマトリックス
JP2013505346A (ja) * 2009-09-23 2013-02-14 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 添加物を含み、カプセル化された半導体ナノ粒子ベース材料
JP2012031375A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd ナノ複合材及びこれを含む発光素子パッケージ
US20140022779A1 (en) * 2011-04-01 2014-01-23 Kai Su White light emitting device
US20130099213A1 (en) * 2011-10-21 2013-04-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor nanocrystal-polymer composite, method of preparing the same, and composite film and optoelectronic device including the same
WO2013082516A1 (en) * 2011-11-30 2013-06-06 University Of Washington Through Its Center For Commercialization Surface-passivated silicon quantum dot phosphors
WO2013093631A2 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Nanoco Technologies, Inc. Surface modified nanoparticles
WO2013109526A2 (en) * 2012-01-16 2013-07-25 Osram Sylvania Inc. Silicone-grafted core-shell particles, polymer matrix, and led containing same
WO2013114254A2 (en) * 2012-02-03 2013-08-08 Koninklijke Philips N.V. Novel materials and methods for dispersing nano particles in matrices with high quantum yields and stability
WO2013191964A1 (en) * 2012-06-22 2013-12-27 Nanosys, Inc. Silicone ligands for stabilizing quantum dot films

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PENG TAO, ET AL.: ""Transparent luminescent silicone nanocomposites filled with bimodal PDMS-brush-grafted CdSe quantu", JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, JPN5015011440, 11 October 2012 (2012-10-11), pages 86 - 94, ISSN: 0003675717 *

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11377591B2 (en) 2018-03-26 2022-07-05 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid composition, photoelectric conversion element production method, and photoelectric conversion element
JP2020068365A (ja) * 2018-10-26 2020-04-30 住友化学株式会社 組成物、フィルム、積層構造体、発光装置及びディスプレイ
JP7179581B2 (ja) 2018-10-26 2022-11-29 住友化学株式会社 組成物、フィルム、積層構造体、発光装置及びディスプレイ
WO2021241071A1 (ja) * 2020-05-25 2021-12-02 信越化学工業株式会社 量子ドット含有重合体とその製造方法
JP2021185399A (ja) * 2020-05-25 2021-12-09 信越化学工業株式会社 量子ドット含有重合体とその製造方法
JP7321972B2 (ja) 2020-05-25 2023-08-07 信越化学工業株式会社 量子ドット含有重合体とその製造方法
WO2022124127A1 (ja) * 2020-12-07 2022-06-16 信越化学工業株式会社 量子ドットの表面処理方法及び表面処理装置
JP2022090446A (ja) * 2020-12-07 2022-06-17 信越化学工業株式会社 量子ドットの表面処理方法及び表面処理装置
JP7355724B2 (ja) 2020-12-07 2023-10-03 信越化学工業株式会社 量子ドットの表面処理方法及び表面処理装置
WO2024075585A1 (ja) * 2022-10-05 2024-04-11 信越化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、パターン形成方法及び発光素子
WO2024075580A1 (ja) * 2022-10-05 2024-04-11 信越化学工業株式会社 量子ドット含有組成物とその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101961232B1 (ko) 2019-03-22
WO2015140642A2 (en) 2015-09-24
EP3119851A2 (en) 2017-01-25
KR102056786B1 (ko) 2020-01-22
CN106103647A (zh) 2016-11-09
US9663710B2 (en) 2017-05-30
KR20190020845A (ko) 2019-03-04
JP2019061246A (ja) 2019-04-18
TWI586760B (zh) 2017-06-11
TW201540783A (zh) 2015-11-01
CN111423875A (zh) 2020-07-17
EP3119851B1 (en) 2018-08-29
US20150267106A1 (en) 2015-09-24
KR20160135763A (ko) 2016-11-28
WO2015140642A3 (en) 2015-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI586760B (zh) 量子點組合物
US10014452B2 (en) Semiconductor nanoparticle-based light-emitting devices and associated materials and methods
KR101448127B1 (ko) 봉지된 반도체 나노 입자 기반 물질
US8847197B2 (en) Semiconductor nanoparticle-based materials
TWI608076B (zh) 以金屬硫醇聚合物穩定化的量子點
JP2014523634A (ja) 発光ダイオード、オプトエレクトロニクスディスプレイ等に使用される半導体ナノ粒子ベース材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161114

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171107

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180313

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180703