JP2017514147A - X線検査装置 - Google Patents
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Abstract
Description
X線源と、検査対象のサンプルを支持するためのサンプル支持部と、X線検出器と、を有するキャビネットと、
前記サンプル支持部上の前記キャビネット内の空気入口部を通して、前記キャビネット内に空気を強制的に送り込むように構成されたエアームーバと、
を備え、
前記エアームーバと前記キャビネットは、前記空気入口部から前記サンプル支持部を通して前記サンプル支持部下の前記キャビネットの空気出口部へと、空気を強制的に送り込むように構成されている。
a)サンプル支持部上にサンプルを載置する工程、
b)第1位置決め機構を用いて、第1位置決め機構の第1位置にサンプル支持部を位置決めする工程、
c)近接センサを通る第1軸に直交する面内でサンプル支持部を移動させ、サンプル支持部が当該面内で移動される際の複数の位置においてサンプルの(ある)面のX線源からの距離を記録する工程、
d)記録された複数の距離に基づいてX線源からの第1位置決め機構の最近接安全位置を計算する工程、及び、
e)第1位置決め組立体が計算された最近接安全位置よりもX線源の近くに移動されることを防ぐべく第1位置決め組立体を制御する工程
を備えている。
a)サンプル支持部上にサンプルを載置する工程、
b)第1位置決め機構を用いて、第1位置決め機構の第1位置にサンプル支持部を位置決めする工程、
c)第1位置においてサンプルの(ある)面のX線源からの距離を記録する工程、及び、
d)記録された距離に基づいて倍率計算を実施する工程
を備えている。
図1は、X線撮像システムの基本的な構成要素の概略図である。図1に示されるシステムは、当該システムにおいては静止状態に保持されたX線源10と、可動のサンプル支持部12と、可動の検出器14と、を備えている。X線源10からのX線は、支持部と当該サンプル支持部上に取り付けられた何らかのサンプルとを通過して、検出器14に至る。図1は、検出器14の視野(検出野)に対応するサンプル支持部上の領域16を示している。検出器の視野(検出野)は、検出器14、サンプル支持部12及びX線源10の相対的な位置決めによって、サンプルまたはサンプルの一領域が検出器の視野内に入るように、ユーザによって選択される。検出器は、異なる撮像位置に移動可能であり、異なる投影がサンプル支持部上のサンプルを通してなされ得る。この文脈において、異なる投影とは、X線が異なる方向で支持部上のサンプルを通過することを意味する。
図1において、検出器14は、4つの異なる位置で示されており、支持部上には4つの対応する領域16が存在している。多くの更なる位置が可能であることが、理解される。トモシンセシスシステムでは、撮像されるサンプルの領域の3次元モデルが、多数の投影から構成され得る。実際には、12と720との間の任意の数の投影が用いられる。
半導体ウェハのようなクリーンルーム環境で生産されるサンプルについて検査してモデルを生成するために、前述のようなシステムを用いるには、X線検査システム自身がクリーンルーム標準を満たすことが必要である。
例示的なサンプル位置決め組立体が、図6及び図7を参照して詳細に説明される。
前述のように、良質なトモシンセシスモデルを生成するための要件の1つは、X線源、サンプル及び検出器の相対位置の非常に正確な情報である。特に、画像が適切に組み合わされ得るように、ある撮像位置から次の撮像位置への相対的な位置変化を正確に知ることが必要である。
前述のように、高倍率画像のためには、サンプルをX線源に対して非常に近くにもたらすことが必要である。従って、サンプルの位置をZ方向において信頼性をもって制御することが必要である。また、画像処理及びデータ解釈目的のため、Z方向でのサンプルの位置を知ることも必要である。
A=H×(D1/D2)
C=B−A
IM=H/A=H/(B−C)
IM=H/(B−C)=350(12−2)=35
である。これは、検出器上で35mmの距離として表れている特徴間の距離が、実際の距離1mmの画像である、ということを意味している。
図10乃至図12に図示された近接センサ、すなわちレーザ距離センサ400は、X線源とサンプルとの間の衝突を防止するためにも利用され得る。X線源とサンプルとの間の衝突は、サンプルを修復不能に損傷する可能性があり、また、X線源にも顕著な損傷を引き起こす可能性がある。本実施例では半導体ウェハであるサンプルは、異なる厚みを有し得るので、サンプル支持部の位置についての情報を提供するだけのリニアエンコーダ236からの出力に単純に依存することは、大変高い倍率の画像を得ようとする時の衝突を防ぐという点において、有効でない場合がある。そのような時には、サンプルがX線チューブに非常に近く位置付けられることが要求され、図12の距離Aが大変小さくなる。
前述のように、X線検出器は、サンプルを通過するX線を捕捉するべくサンプル支持部の下方に位置決めされる。検出器は、前述のように、シリコンフォトダイオードの2次元ピクセルアレイを含むフラットパネル検出器である。
半導体ウェハ20のためのサンプル支持部200は、ウェハの後面に吸引を適用することによって、各半導体ウェハを所定位置に保持する。これは、ウェハに対する損傷を回避する、周知のウェハ取り扱い技術である。図17は、サンプル支持部の平面図であり、サンプル支持部の平面状の上支持面612に形成された複数の同心の凹部ないし溝部610を示す。溝610は、径方向チャネル614によって真空ポート620に接続されている。ウェハが支持面612上に置かれる時、真空がポート620に適用される。これは、ウェハを支持面612に対して堅固に保持する。サンプル支持部の「撮像領域」は、半導体ウェハの一部のX線画像に現れ得る、サンプル支持部の一部である
ここまでに説明されたX線検査システムの様々な特徴は、自動的に互いに同期して動作するように制御され得る。特に、サンプル支持部の位置決めと検出器の位置決めとは、位置検知の構成からの測定によって協調される必要がある。エアームーバ、X線チューブ及びウェハハンドリング機構も、位置決め組立体に対して協調されなければならない。
Claims (24)
- X線源と、検査対象のサンプルを支持するためのサンプル支持部と、X線検出器と、を有するキャビネットと、
前記サンプル支持部上の前記キャビネット内の空気入口部を通して、前記キャビネット内に空気を強制的に送り込むように構成されたエアームーバと、
前記サンプル支持部を前記X線源及び前記X線検出器に対して位置決めするためのサンプル支持部位置決め組立体と、
を備え、
前記エアームーバと前記キャビネットは、前記空気入口部から前記サンプル支持部を通して前記サンプル支持部下の前記キャビネットの空気出口部へと、空気を強制的に送り込むように構成されており、
前記サンプル支持部は、水平面内に延在する上面を有しており、
前記サンプル位置決め組立体は、
前記サンプル支持部を前記水平面に直交する鉛直方向に移動するための鉛直位置決め機構と、
第1水平方向に前記サンプル支持部及び前記鉛直位置決め機構を移動する第1水平位置決め機構と、
を有している
ことを特徴とするX線検査システム。 - 前記サンプル支持部の前記水平面は、第1水平面であり、
当該X線検査システムは、
前記X線源に対して前記X線検出器を位置決めするための検出器位置決め組立体
を更に備えており、
前記検出器位置決め組立体は、
第2水平面内で前記検出器を少なくとも2つの平行でない方向に移動するための水平検出器位置決め機構と、
前記検出器が前記第2水平面から少なくとも2つの平行でない軸回りに傾斜されることを許容するよう構成された検出器傾斜機構と、
を有している
ことを特徴とする請求項1に記載のX線検査システム。 - 前記X線源に固定され、前記X線源と前記サンプル支持部上のサンプルの表面との間の距離の測定値を提供するように構成された近接センサと、
前記近接センサに接続されたコントローラと、
を更に備えたことを特徴とする請求項1または2に記載のX線検査システム。 - 前記サンプル支持部に隣接して位置決めされて前記サンプル支持部の位置または位置変化を検出するように構成された非接触式の位置測定装置を含むサンプル支持部位置検出組立体と、
前記X線検出器及び前記サンプル支持部位置検出組立体に接続された画像プロセッサと、
を更に備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のX線検査システム。 - X線源と、
検査対象のサンプルを支持するためのサンプル支持部と、
X線検出器と、
サンプル支持部をX線源またはX線検出器に対して位置決めするためのサンプル支持部位置決め組立体と、
前記X線源に対して前記X線検出器を位置決めするための検出器位置決め組立体と、
を備え、
サンプル支持部は、水平面内に延在する支持面を有しており、
サンプル位置決め組立体は、サンプル支持部を水平面に直交する鉛直方向に移動するための鉛直位置決め機構と、第1水平方向にサンプル支持部及び鉛直位置決め機構を移動する第1水平位置決め機構と、を有しており、
検出器位置決め組立体は、第2水平面内で前記検出器を少なくとも2つの平行でない方向に移動するための水平検出器位置決め機構と、前記検出器が前記第2水平面から少なくとも2つの平行でない軸回りに傾斜されることを許容するよう構成された検出器傾斜機構と、を有している
ことを特徴とするX線検査システム。 - 前記X線源に固定され、前記X線源と前記サンプル支持部上のサンプルの表面との間の距離の測定値を提供するように構成された近接センサと、
前記近接センサに接続されたコントローラと、
を更に備えたことを特徴とする請求項5に記載のX線検査システム。 - 前記サンプル支持部に隣接して位置決めされて前記サンプル支持部の位置または位置変化を検出するように構成された非接触式の位置測定装置を含むサンプル支持部位置検出組立体と、
前記X線検出器及び前記サンプル支持部位置検出組立体に接続された画像プロセッサと、
を更に備えたことを特徴とする請求項5または6に記載のX線検査システム。 - 前記X線源と、前記サンプル支持部と、前記サンプル支持部位置決め組立体と、前記X線検出器と、前記検出器位置決め組立体と、を含むキャビネットと、
前記サンプル支持部上の前記キャビネット内の空気入口部を通して、前記キャビネット内に空気を強制的に送り込むように構成されたエアームーバと、
を備え、
前記エアームーバと前記キャビネットは、前記空気入口部から前記サンプル支持部を通して前記サンプル支持部下の前記キャビネットの空気出口部へと、空気を強制的に送り込むように構成されている
ことを特徴とする請求項5乃至7のいずれかに記載のX線検査システム。 - X線源と、
検査対象のサンプルを支持するためのサンプル支持部と、
X線検出器と、
サンプル支持部をX線源またはX線検出器に対して位置決めするためのサンプル支持部位置決め組立体と、
前記サンプル支持部に隣接して位置決めされて前記サンプル支持部の位置または位置変化を検出するように構成された非接触式の位置測定装置を含むサンプル支持部位置検出組立体と、
前記X線検出器及び前記サンプル支持部位置検出組立体に接続された画像プロセッサと、
を備え、
サンプル支持部は、水平面内に延在する支持面を有しており、
サンプル位置決め組立体は、サンプル支持部を水平面に直交する鉛直方向に移動するための鉛直位置決め機構と、第1水平方向にサンプル支持部及び鉛直位置決め機構を移動する第1水平位置決め機構と、を有している
ことを特徴とするX線検査システム。 - 前記X線源に対して前記X線検出器を位置決めするための検出器位置決め組立体
を更に備え
前記検出器位置決め組立体は、第2水平面内で前記検出器を少なくとも2つの平行でない方向に移動するための水平検出器位置決め機構と、前記検出器が前記第2水平面から少なくとも2つの平行でない軸回りに傾斜されることを許容するよう構成された検出器傾斜機構と、を有している
ことを特徴とする請求項9に記載のX線検査システム。 - 前記X線源に固定され、前記X線源と前記サンプル支持部上のサンプルの表面との間の距離の測定値を提供するように構成された近接センサと、
前記近接センサに接続されたコントローラと、
を更に備えたことを特徴とする請求項9または10に記載のX線検査システム。 - 前記X線源と、前記サンプル支持部と、前記サンプル支持部位置決め組立体と、前記X線検出器と、前記サンプル支持部位置検出組立体と、を含むキャビネットと、
前記サンプル支持部上の前記キャビネット内の空気入口部を通して、前記キャビネット内に空気を強制的に送り込むように構成されたエアームーバと、
を備え、
前記エアームーバと前記キャビネットは、前記空気入口部から前記サンプル支持部を通して前記サンプル支持部下の前記キャビネットの空気出口部へと、空気を強制的に送り込むように構成されている
ことを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載のX線検査システム。 - X線源と、
検査対象のサンプルを支持するためのサンプル支持部と、
X線検出器と、
前記X線源に向かう及び離れる第1軸に沿って前記サンプル支持部を移動するための第1位置決め機構を含むサンプル支持部位置決め組立体と、
前記X線源と前記サンプル支持部上のサンプルの表面との間の距離の測定を提供するよう構成され前記X線源に固定された近接センサと、
前記近接センサに接続されたコントローラと、
前記サンプル支持部に隣接して位置決めされて前記サンプル支持部の位置または位置変化を検出するように構成された非接触式の位置測定装置を含むサンプル支持部位置検出組立体と、
前記X線検出器及び前記サンプル支持部位置検出組立体に接続された画像プロセッサと、
を備え、
サンプル支持部は、水平面内に延在する支持面を有している
ことを特徴とするX線検査システム。 - 前記X線源と、前記サンプル支持部と、前記サンプル支持部位置決め組立体と、前記X線検出器と、前記サンプル支持部位置検出組立体と、を含むキャビネットと、
前記サンプル支持部上の前記キャビネット内の空気入口部を通して、前記キャビネット内に空気を強制的に送り込むように構成されたエアームーバと、
を備え、
前記エアームーバと前記キャビネットは、前記空気入口部から前記サンプル支持部を通して前記サンプル支持部下の前記キャビネットの空気出口部へと、空気を強制的に送り込むように構成されている
ことを特徴とする請求項13に記載のX線検査システム。 - 前記X線源に対して前記X線検出器を位置決めするための検出器位置決め組立体
を更に備え
前記検出器位置決め組立体は、第2水平面内で前記検出器を少なくとも2つの平行でない方向に移動するための水平検出器位置決め機構と、前記検出器が前記第2水平面から少なくとも2つの平行でない軸回りに傾斜されることを許容するよう構成された検出器傾斜機構と、を有している
ことを特徴とする請求項13または14に記載のX線検査システム。 - キャビネットと、
前記キャビネット内のX線源と、
検査対象の半導体ウェハを支持するように構成された、前記キャビネット内のウェハル支持部と、
前記ウェハ支持部を前記X線源に対して位置決めするためのウェハ支持部位置決め組立体と、
前記キャビネット内のX線検出器と、
前記X線検出器を前記X線源に対して位置決めするための検出器位置決め組立体と、
前記キャビネットの外側から前記ウェハ支持部に、及び、前記ウェハ支持部から前記キャビネットの外側に、ウェハを搬送するよう構成されたウェハローディンング・アンローディング組立体と、
前記X線源、前記ウェハ支持部位置決め組立体、前記検出器位置決め組立体、及び、前記ウェハローディンング・アンローディング組立体の動作を制御するよう構成されたコントローラと、
前記コントローラ及び前記検出器に接続され、前記検出器から受け取る画像データを処理するように構成された画像プロセッサと、
を備えたことを特徴とするX線検査システム。 - 前記ウェハ支持部上の空気入口部から前記サンプル支持部下の空気出口部へと前記キャビネットを通して空気を強制的に送り込むように構成された、少なくとも1つのファンフィルタユニット
を更に備えたことを特徴とする請求項16に記載のX線検査システム。 - 前記ウェハ支持部位置決め組立体とは別個の、前記ウェハ支持部の位置を決定するように構成されたウェハ支持部位置検出組立体
を更に備えたことを特徴とする請求項16または17に記載のX線検査システム。 - 前記X線源は、透過ターゲットを有するシールされたX線チューブである
ことを特徴とする請求項16乃至18のいずれかに記載のX線検査システム。 - X線検査システムを用いて半導体ウェハを撮像する方法であって、
a)X線検査システムに空気を通すように構成されたエアームーバを起動する工程と、
b)X線検査システムにウェハをロードする工程と、
c)X線検査システム内の初期撮像位置にウェハを位置決めする工程と、
d)初期撮像位置内で、ウェハの興味対象の領域のX線画像を得る工程と、
e)第2の撮像位置へとウェハを移動させる工程と、
f)第2撮像位置内で、ウェハの興味対象の領域のX線画像を得る工程と、
e)X線検査システムからウェハをアンロードする工程と、
を備えたことを特徴とする方法。 - 得られたX線画像を用いてトモシンセシス計算を実施する工程
を更に備えたことを特徴とする請求項20に記載の半導体ウェハを撮像する方法。 - 前記X線検査システムは、X線源と、当該X線源に対して移動可能なサンプル支持部と、を有しており、
初期撮像位置にウェハを位置決めする前記工程は、ウェハの表面を走査して、X線源とウェハとの間の衝突の発生無しでサンプル支持部がX線源に対してどの程度近くまでもたらされ得るか、を測定する工程を含んでいる
ことを特徴とする請求項20または21に記載の半導体ウェハを撮像する方法。 - 前記X線検査システムは、X線源と、当該X線源に対して移動可能なサンプル支持部と、を有しており、
各撮像位置において非接触式の位置測定装置を用いてX線源に対するサンプル支持部の位置を測定する工程
を更に備えたことを特徴とする請求項20乃至22のいずれかに記載の半導体ウェハを撮像する方法。 - X線チューブを有するX線検査システムを用いてサンプル支持部上に支持されたサンプルを撮像する方法であって、
サンプルとX線チューブとの間の距離を検出する距離センサを用いて、X線チューブにサンプルが接近し過ぎることを防ぐ工程と、
X線チューブを起動して、検出器によってサンプル上の複数の異なる興味対象の領域のX線投影像を記録する工程と、
画像倍率計算において前記距離センサからの入力を利用する工程と、
を備えたことを特徴とする方法。
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