JP2017510063A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017510063A5
JP2017510063A5 JP2016550525A JP2016550525A JP2017510063A5 JP 2017510063 A5 JP2017510063 A5 JP 2017510063A5 JP 2016550525 A JP2016550525 A JP 2016550525A JP 2016550525 A JP2016550525 A JP 2016550525A JP 2017510063 A5 JP2017510063 A5 JP 2017510063A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die
inductor
layer
interconnect
package
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016550525A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6440723B2 (ja
JP2017510063A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US14/179,202 external-priority patent/US9245940B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2017510063A publication Critical patent/JP2017510063A/ja
Publication of JP2017510063A5 publication Critical patent/JP2017510063A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6440723B2 publication Critical patent/JP6440723B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (13)

  1. 第1の相互接続および複数の残りの相互接続が実装されたダイと、
    前記ダイ内であって、前記第1の相互接続および前記複数の残りの相互接続の上に配設されたインダクタであって、
    前記ダイに電気的かつ機械的に結合される第1の端子と、
    前記第1の相互接続を通じて前記ダイに電気的かつ機械的に結合される第2の端子と、
    前記複数の残りの相互接続に機械的に結合されるが、前記複数の残りの相互接続に電気的に結合されない前記インダクタの残りの部分と
    を備えるインダクタとを備えた、装置。
  2. 前記第1の相互接続が、アンダーバンプメタライゼーション(UBM)層を通じて前記ダイに電気的に結合された、請求項1に記載の装置。
  3. ウェハレベルパッケージ(WLP)、フリップチップボールグリッドアレイ(FCBGA)パッケージ、およびフリップチップチップスケールパッケージ(FCCSP)のうちの少なくとも1つの中に一体化された、請求項1に記載の装置。
  4. 前記インダクタが前記ダイ上の単一の層内に配設された、請求項1に記載の装置。
  5. 前記インダクタが2次元である、請求項1に記載の装置。
  6. 装置を製造する方法であって、
    第1の相互接続および複数の残りの相互接続が実装されたダイを設けるステップと、
    前記ダイ内であって、前記第1の相互接続および前記複数の残りの相互接続の上にインダクタを配設するステップであって、
    前記インダクタの第1の端子を形成し、前記ダイに前記第1の端子を電気的かつ機械的に結合するステップと、
    前記インダクタの第2の端子を形成し、前記第1の相互接続を通じて前記ダイに前記第2の端子を電気的かつ機械的に結合するステップと、
    前記インダクタの残りの部分を形成し、前記複数の残りの相互接続に前記インダクタの前記残りの部分を機械的に結合するが、前記複数の残りの相互接続に前記インダクタの前記残りの部分を電気的に結合しないステップと
    を含むステップとを含む、方法。
  7. 前記第1の相互接続が、アンダーバンプメタライゼーション(UBM)層を通じて前記ダイに電気的に結合される、請求項6に記載の装置を製造する方法。
  8. ウェハレベルパッケージ(WLP)、フリップチップボールグリッドアレイ(FCBGA)パッケージ、パッケージオンパッケージ(PoP)パッケージ、およびフリップチップチップスケールパッケージ(FCCSP)のうちの少なくとも1つの中に前記装置を一体化するステップをさらに含む、請求項6に記載の装置を製造する方法。
  9. 前記ダイ内に配設された前記インダクタを設けるステップが、前記ダイ上の単一の層内に前記インダクタを配設するステップを含む、請求項6に記載の装置を製造する方法。
  10. 前記インダクタが2次元である、請求項6に記載の装置を製造する方法。
  11. 前記ダイ内に金属層を設けるステップと、
    前記金属層上に銅再分配層を設けるステップと、
    前記銅再分配層上にポリイミド層を設けるステップと、
    前記ポリイミド層上に部分的に配設され、前記銅再分配層上に部分的に配設されるアンダーバンプメタライゼーション(UBM)層を設けるステップとをさらに含む、請求項6に記載の装置を製造する方法。
  12. 前記ダイ内の金属層と、
    前記金属層上の銅再分配層と、
    前記銅再分配層上のポリイミド層と、
    前記ポリイミド層上に部分的に配設され、前記銅再分配層上に部分的に配設されるアンダーバンプメタライゼーション(UBM)層とをさらに備える、請求項1に記載の装置。
  13. データを含むコンピュータ可読媒体であって、前記データが、マシンによってアクセスされるとき、装置を製造するための請求項6から11のいずれか一項に記載の方法に従う動作を前記マシンに実施させる、コンピュータ可読媒体。
JP2016550525A 2014-02-12 2015-02-11 ウェハレベルパッケージ(wlp)のための浮遊ubmボール上のインダクタ設計 Active JP6440723B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/179,202 US9245940B2 (en) 2014-02-12 2014-02-12 Inductor design on floating UBM balls for wafer level package (WLP)
US14/179,202 2014-02-12
PCT/US2015/015450 WO2015123321A1 (en) 2014-02-12 2015-02-11 Inductor design on floating ubm balls for wafer level package (wlp)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017510063A JP2017510063A (ja) 2017-04-06
JP2017510063A5 true JP2017510063A5 (ja) 2018-03-08
JP6440723B2 JP6440723B2 (ja) 2018-12-19

Family

ID=52596604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016550525A Active JP6440723B2 (ja) 2014-02-12 2015-02-11 ウェハレベルパッケージ(wlp)のための浮遊ubmボール上のインダクタ設計

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9245940B2 (ja)
EP (1) EP3105788A1 (ja)
JP (1) JP6440723B2 (ja)
KR (1) KR102389227B1 (ja)
CN (1) CN106030790B (ja)
BR (1) BR112016019464A2 (ja)
WO (1) WO2015123321A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210210449A1 (en) * 2020-01-03 2021-07-08 Qualcomm Incorporated Thermal compression flip chip bump
CN112366154A (zh) * 2020-11-06 2021-02-12 深圳市Tcl高新技术开发有限公司 芯片转移方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6710433B2 (en) * 2000-11-15 2004-03-23 Skyworks Solutions, Inc. Leadless chip carrier with embedded inductor
JP3558595B2 (ja) * 2000-12-22 2004-08-25 松下電器産業株式会社 半導体チップ,半導体チップ群及びマルチチップモジュール
JP3871609B2 (ja) * 2002-05-27 2007-01-24 松下電器産業株式会社 半導体装置及びその製造方法
US6762495B1 (en) * 2003-01-30 2004-07-13 Qualcomm Incorporated Area array package with non-electrically connected solder balls
JP3983199B2 (ja) * 2003-05-26 2007-09-26 沖電気工業株式会社 半導体装置及びその製造方法
US7619296B2 (en) * 2005-02-03 2009-11-17 Nec Electronics Corporation Circuit board and semiconductor device
US8717137B2 (en) 2006-05-31 2014-05-06 Broadcom Corporation On-chip inductor using redistribution layer and dual-layer passivation
JP2008205422A (ja) * 2006-07-03 2008-09-04 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2008124363A (ja) * 2006-11-15 2008-05-29 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP4492621B2 (ja) * 2007-02-13 2010-06-30 カシオ計算機株式会社 半導体装置およびその製造方法
TWI397158B (zh) * 2007-02-13 2013-05-21 Teramikros Inc 混有磁性體粉末之半導體裝置及其製造方法
JP2008210828A (ja) * 2007-02-23 2008-09-11 Casio Comput Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP5103032B2 (ja) * 2007-03-01 2012-12-19 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP5536388B2 (ja) 2009-08-06 2014-07-02 株式会社テラプローブ 半導体装置およびその製造方法
US8471358B2 (en) 2010-06-01 2013-06-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. 3D inductor and transformer
US8710658B2 (en) 2011-11-18 2014-04-29 Cambridge Silicon Radio Limited Under bump passive components in wafer level packaging
US9000876B2 (en) 2012-03-13 2015-04-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Inductor for post passivation interconnect

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11626388B2 (en) Interconnect structure with redundant electrical connectors and associated systems and methods
US11152344B2 (en) Integrated circuit package and methods of forming same
US9412678B2 (en) Structure and method for 3D IC package
Lau Overview and outlook of three-dimensional integrated circuit packaging, three-dimensional Si integration, and three-dimensional integrated circuit integration
US9412675B2 (en) Interconnect structure with improved conductive properties and associated systems and methods
US20150206866A1 (en) Semiconductor Package and Methods of Forming Same
US9831214B2 (en) Semiconductor device packages, packaging methods, and packaged semiconductor devices
US20150200182A1 (en) Packaging Methods for Semiconductor Devices, Packaged Semiconductor Devices, and Design Methods Thereof
EP3035383A1 (en) Semiconductor package assembly
TWI565022B (zh) 具有以面對面組態互連之記憶體晶粒及邏輯晶粒之封裝
JP2017506001A5 (ja)
JP2017534177A5 (ja)
JP2016513872A5 (ja)
JP2017507495A5 (ja)
US20110244675A1 (en) Structure and method of forming pillar bumps with controllable shape and size
JP2016518730A5 (ja)
US20190312016A1 (en) Fan out packaging pop mechanical attach method
US20150228556A1 (en) Integrated device comprising via with side barrier layer traversing encapsulation layer
JP2017510063A5 (ja)
US9905539B2 (en) Interconnect structures with intermetallic palladium joints and associated systems and methods
US20160284668A1 (en) Semiconductor package structure and method for manufacturing the same
Na et al. TSV MEOL (Mid End of Line) and packaging technology of mobile 3D-IC stacking
US20140138815A1 (en) Server processing module
Chen et al. Parameter study to the interposer stress analysis of fine pitch 3-D stack package
US11676932B2 (en) Semiconductor interconnect structures with narrowed portions, and associated systems and methods