JP2017510036A - 封止用積層体、有機発光装置及びこれらの製造方法 - Google Patents
封止用積層体、有機発光装置及びこれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017510036A JP2017510036A JP2016557600A JP2016557600A JP2017510036A JP 2017510036 A JP2017510036 A JP 2017510036A JP 2016557600 A JP2016557600 A JP 2016557600A JP 2016557600 A JP2016557600 A JP 2016557600A JP 2017510036 A JP2017510036 A JP 2017510036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sealing
- layer
- film
- organic light
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims abstract description 249
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 99
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 222
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 68
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 68
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 59
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 59
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 57
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 53
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 24
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 23
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 14
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 170
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical class N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N iridium;2-phenylpyridine Chemical compound [Ir].C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001182 laser chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-M picolinate Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/841—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2581/00—Seals; Sealing equipment; Gaskets
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
- H10K59/8721—Metallic sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
- H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
一実施態様によれば、上記有機発光素子は、フレキシブル(flexible)有機発光素子である。この場合、上記基板がフレキシブル材料を含む。例えば、曲げられる薄膜状のガラス、プラスチック又はフィルム状の基板を使用することができる。
Claims (49)
- 封止フィルムと接着フィルムとを積層するステップ;及び
前記接着フィルムを保護フィルムと貼り合わせるステップを含む封止用積層体の製造方法。 - 前記封止フィルムと接着フィルムとを積層するステップは、封止フィルム上に接着組成物をコーティングした後に硬化して接着フィルムを形成するステップである請求項1に記載の封止用積層体の製造方法。
- 保護フィルムと接着フィルムとを積層するステップ;及び
前記接着フィルムを封止フィルムと貼り合わせるステップを含む封止用積層体の製造方法。 - 前記保護フィルムと接着フィルムとを積層するステップは、保護フィルム上に接着組成物をコーティングした後に硬化して接着フィルムを形成するステップである請求項3に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止フィルムは、無機物フィルムや、支持層及び前記支持層上に備えられた2以上の無機物パターンを含む無機物パターンフィルムや、有機物フィルムや、有機物層と無機物層とが交互に積層された積層構造のフィルムである請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止フィルムは、金属箔や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた2以上の金属パターンを含む金属張フィルムである請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止用積層体をロール状に巻き取るステップをさらに含む請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止用積層体の封止フィルムの接着フィルムと接する面の反対面に高分子層を形成するステップをさらに含む請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の封止用積層体の製造方法。
- 封止フィルム、前記封止フィルムのいずれか一面に備えられた接着フィルム、及び前記接着フィルムの前記封止フィルムが備えられた面の反対面に備えられた保護フィルムを含む封止用積層体のうち前記保護フィルムを切断することなく、前記封止フィルムと前記接着フィルムとをフィルムの厚さ方向に切断することにより、封止層及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含む2以上のパターンユニットを形成するステップ;及び
前記パターンユニットが互いに離隔するように前記パターンユニットの間のサイドフィルムを除去するステップを含む封止用積層体の製造方法。 - 前記封止用積層体の製造方法は、前記パターンユニットの封止層が備えられた側に2以上のパターンユニットの封止層をすべて覆うようにキャリアフィルムを貼り付けるステップをさらに含む請求項9に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記キャリアフィルムの貼り付け後に、前記パターンユニットの個数が有機発光素子を含む装置内に含まれる有機発光素子の個数と同じ個数になるように裁断するステップをさらに含む請求項9又は請求項10に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止フィルムは、無機物フィルムや、支持層及び前記支持層上に備えられた2以上の無機物パターンを含む無機物パターンフィルムや、有機物フィルムや、有機物層と無機物層とが交互に積層された積層構造のフィルムである請求項9又は請求項10に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止フィルムは、金属箔や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた2以上の金属パターンを含む金属張フィルムである請求項12に記載の封止用積層体の製造方法。
- 前記封止用積層体は、封止フィルムの接着フィルムと接する面の反対面に備えられた高分子層を含み、前記高分子層が、前記封止フィルム及び前記接着フィルムと共にフィルムの厚さ方向に切断されるものである請求項9又は請求項10に記載の封止用積層体の製造方法。
- 封止層、及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含み、互いに離隔配置された2以上のパターンユニット;前記パターンユニットの接着層側に備えられ、2以上のパターンユニットの接着層をすべて覆う保護フィルムを含む封止用積層体の前記パターンユニット側を有機発光ユニットとの貼り合わせのための装置のステージ又はトレイに固定させた状態で、前記保護フィルムを除去するステップ;及び
前記封止用積層体の接着層側に、基板及び前記基板に備えられた2以上の有機発光ユニットを含む有機発光素子を、各パターンユニットと各有機発光ユニットとが対応するように貼り合わせるステップを含む有機発光装置の製造方法。 - 封止層、及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含み、互いに離隔配置された2以上のパターンユニット;前記パターンユニットの接着層側に備えられ、2以上のパターンユニットの接着層をすべて覆う保護フィルム;及び前記パターンユニットの封止層側に備えられ、2以上のパターンユニットの封止層をすべて覆うキャリアフィルムを含む封止用積層体から、前記保護フィルムを除去するステップ;及び
前記封止用積層体の接着層側に、基板及び前記基板に備えられた2以上の有機発光ユニットを含む有機発光素子を、各パターンユニットと各有機発光ユニットとが対応するように貼り合わせるステップを含む有機発光装置の製造方法。 - 前記封止用積層体と前記有機発光素子との貼り合わせは、前記封止用積層体の各パターンユニットが各有機発光ユニットを覆うように行われるものである請求項15又は請求項16に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記封止用積層体から前記キャリアフィルムを除去するステップをさらに含む請求項16に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記パターンユニットは、前記封止層の接着層と接する面の反対面に備えられた高分子層をさらに含むものである請求項15又は請求項16に記載の有機発光装置の製造方法。
- 封止フィルム;
前記封止フィルムのいずれか一面に備えられた接着フィルム;及び
前記接着フィルムの前記封止フィルムが備えられた面の反対面に備えられた保護フィルムを含む封止用積層体。 - 前記封止用積層体は、ロール状に巻き取られたものである請求項20に記載の積層体。
- 前記封止用積層体は、前記封止フィルムの前記接着フィルムと接する面の反対面に備えられた高分子層をさらに含むものである請求項20に記載の封止用積層体。
- 前記封止フィルムは、金属箔や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた2以上の金属パターンを含む金属張フィルムである請求項20に記載の積層体。
- 前記各金属パターンは、1つの有機発光ユニットを覆う金属シーリングパターン及び1つの有機発光ユニットで電極を外部電源に連結するためのプリント回路パターンを含むものである請求項23に記載の積層体。
- 前記接着フィルムは、シーリング材料を含むものである請求項20に記載の積層体。
- 封止層、及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含み、互いに離隔配置された2以上のパターンユニット;及び
前記パターンユニットの接着層側に備えられ、2以上のパターンユニットの接着層をすべて覆う保護フィルムを含む封止用積層体。 - 前記封止用積層体は、前記パターンユニットの封止層側に備えられ、2以上のパターンユニットの封止層をすべて覆うキャリアフィルムをさらに含むものである請求項26に記載の封止用積層体。
- 前記封止用積層体は、ロール状に巻き取られたものである請求項26又は請求項27に記載の封止用積層体。
- 前記パターンユニットは、前記封止層の前記接着層に接する面の反対面に備えられた高分子層をさらに含むものである請求項26又は請求項27に記載の封止用積層体。
- 前記封止層は、金属箔層や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた金属パターンを含む金属張層である請求項26又は請求項27に記載の積層体。
- 前記各金属パターンのそれぞれは、1つの有機発光ユニットを覆う金属シーリングパターン及び1つの有機発光ユニットで電極を外部電源に連結するためのプリント回路パターンを含むものである請求項30に記載の積層体。
- 前記接着層は、シーリング材料を含むものである請求項26又は請求項27に記載の積層体。
- 封止層;及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含み、互いに離隔配置されたパターンユニット2以上;
前記パターンユニットの接着層側に備えられた有機発光素子であって、前記有機発光素子は、基板及び前記基板に備えられた2以上の有機発光ユニットを含み、前記各有機発光ユニットは、前記パターンユニットのそれぞれに対応するように備えられたものである有機発光素子;及び
前記パターンユニットの封止層側に備えられ、2以上のパターンユニットの封止層をすべて覆うキャリアフィルムを含む有機発光装置。 - 前記封止層は、無機物層や、支持層及び前記支持層上に備えられた無機物パターンを含む無機物パターン層や、有機物層や、有機物層と無機物層とが交互に積層された積層構造である請求項33に記載の有機発光装置。
- 前記封止層は、金属箔層や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた金属パターンを含む金属張層である請求項33に記載の有機発光装置。
- 前記各金属パターンのそれぞれは、1つの有機発光ユニットを覆う金属シーリングパターン及び1つの有機発光ユニットで電極を外部電源に連結するためのプリント回路パターンを含むものである請求項35に記載の有機発光装置。
- 前記接着層は、シーリング材料を含むものである請求項33に記載の有機発光装置。
- 封止層;及び前記封止層のいずれか一面に備えられた接着層を含み、互いに離隔配置されたパターンユニット2以上;及び
前記パターンユニットの接着層側に備えられた有機発光素子であって、前記有機発光素子は、基板及び前記基板に備えられた2以上の有機発光ユニットを含み、前記各有機発光ユニットは、前記パターンユニットのそれぞれに対応するように備えられたものである有機発光素子を含む有機発光装置。 - 前記封止層は、無機物層や、支持層及び前記支持層上に備えられた無機物パターンを含む無機物パターン層や、有機物層や、有機物層と無機物層とが交互に積層された積層構造である請求項38に記載の有機発光装置。
- 前記封止層は、金属箔層や、絶縁層及び前記絶縁層の少なくとも一面に備えられた金属パターンを含む金属張層である請求項38に記載の有機発光装置。
- 前記各金属パターンのそれぞれは、1つの有機発光ユニットを覆う金属シーリングパターン及び1つの有機発光ユニットで電極を外部電源に連結するためのプリント回路パターンを含むものである請求項40に記載の有機発光装置。
- 前記接着層は、シーリング材料を含むものである請求項38に記載の有機発光装置。
- 前記有機発光ユニットは、前記基板に隣接する第1電極、前記第1電極に対向して備えられた第2電極、前記第1電極と前記第2電極との間に備えられた1層以上の有機物層を含むものである請求項33又は請求項38に記載の有機発光装置。
- 前記基板と前記第1電極との間に備えられた光散乱層をさらに含むものである請求項43に記載の有機発光装置。
- 前記光散乱層は、平坦層を含むものである請求項44に記載の有機発光装置。
- 前記基板の第1電極が備えられる面と対向する面に光散乱層をさらに含むものである請求項43に記載の有機発光装置。
- 前記有機発光素子は、フレキシブル(flexible)有機発光素子である請求項33又は請求項38に記載の有機発光装置。
- 請求項33又は請求項38に記載の有機発光装置を含むディスプレイ装置。
- 請求項33又は請求項38に記載の有機発光装置を含む照明装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20140033656 | 2014-03-21 | ||
KR10-2014-0033656 | 2014-03-21 | ||
PCT/KR2015/002844 WO2015142149A1 (ko) | 2014-03-21 | 2015-03-23 | 봉지용 적층체, 유기발광장치 및 이들의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017510036A true JP2017510036A (ja) | 2017-04-06 |
JP6343026B2 JP6343026B2 (ja) | 2018-06-13 |
Family
ID=54145001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016557600A Active JP6343026B2 (ja) | 2014-03-21 | 2015-03-23 | 封止用積層体、有機発光装置及びこれらの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10177341B2 (ja) |
EP (1) | EP3121006B1 (ja) |
JP (1) | JP6343026B2 (ja) |
KR (1) | KR101717472B1 (ja) |
CN (1) | CN106103095B (ja) |
TW (1) | TWI652162B (ja) |
WO (1) | WO2015142149A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017182892A (ja) | 2016-03-28 | 2017-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 発光素子、発光装置、及び電子機器 |
CN105977170B (zh) * | 2016-07-01 | 2018-06-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 布线保护膜层的贴附方法及布线结构、显示面板 |
KR102636749B1 (ko) * | 2016-11-28 | 2024-02-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광소자를 이용한 조명장치 및 그 제조방법 |
US10520780B2 (en) * | 2016-12-21 | 2019-12-31 | Southwall Technologies Inc. | Electroactive device provided with a trilayer bus bar |
KR102439084B1 (ko) * | 2017-08-29 | 2022-09-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조 방법 |
CN107731749B (zh) * | 2017-11-27 | 2020-02-07 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种封装薄膜及其制备方法和一种oled显示装置 |
CN111684584A (zh) * | 2018-02-01 | 2020-09-18 | 康宁股份有限公司 | 用于卷形式的电子封装和其他应用的单一化基材 |
CN108336250B (zh) * | 2018-03-26 | 2021-03-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种贴膜装置 |
KR102656235B1 (ko) * | 2018-08-17 | 2024-04-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 열전도도가 높은 봉지 기판을 포함하는 디스플레이 장치 |
CN109616588B (zh) * | 2018-12-06 | 2020-10-30 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种发光器件的封装结构、封装方法和显示装置 |
CN109817693B (zh) * | 2019-03-22 | 2020-12-04 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 阵列基板及其制备方法和显示装置 |
KR20200114055A (ko) * | 2019-03-27 | 2020-10-07 | 주식회사 엘지화학 | 투명 발광소자 디스플레이 |
KR102698623B1 (ko) | 2019-10-10 | 2024-08-26 | (주)이녹스첨단소재 | 복합시트 제조용 컬링 제어 시스템, 이를 이용한 복합시트 제조방법 및 유기전자장치용 봉지재의 제조방법 |
KR20210079898A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
KR102384121B1 (ko) * | 2020-02-25 | 2022-04-07 | 한국기계연구원 | 리튬-금속 복합 전극 제조시스템 및 이를 이용한 복합 전극 제조방법 |
CN112366281B (zh) * | 2020-11-09 | 2023-04-07 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 一种封装盖板及其制造方法、显示板面、显示装置 |
CN114390423B (zh) * | 2021-09-02 | 2023-09-26 | 苏州清听声学科技有限公司 | 一种定向发声屏绝缘层压印制作方法 |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000058271A (ja) * | 1998-06-02 | 2000-02-25 | Tdk Corp | 有機elディスプレイ |
US20060003474A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Eastman Kodak Company | Roll-to-sheet manufacture of OLED materials |
JP2006086084A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Tohoku Pioneer Corp | 自発光パネルの製造方法 |
JP2007103093A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 有機電界発光素子 |
JP2007194115A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Fujifilm Corp | 機能素子 |
JP2008234929A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 有機el表示装置 |
JP2009004274A (ja) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 面発光体及び面発光体の製造方法 |
JP2009123645A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
WO2010024006A1 (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | シャープ株式会社 | 有機エレクトロルミネセンスパネル、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ、有機エレクトロルミネセンス照明、及び、それらの製造方法 |
JP2011044360A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 発光装置 |
KR20110029769A (ko) * | 2009-09-16 | 2011-03-23 | 주식회사 엘지화학 | 유기 발광 표시 장치 봉지용 조성물, 접착 필름, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR20120004943A (ko) * | 2010-07-07 | 2012-01-13 | 주식회사 엘지화학 | 봉지 구조를 포함하는 유기 발광 소자 |
KR20130014111A (ko) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP2013115008A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Fujifilm Corp | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、有機電界発光装置、及び有機電界発光装置の製造方法 |
KR20130072651A (ko) * | 2011-12-22 | 2013-07-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치의 봉지방법 |
KR20130134919A (ko) * | 2012-05-31 | 2013-12-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법 |
JP2014116115A (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Hitachi Ltd | 有機el封止装置、封止ロールフィルム製作装置及び有機el封止システム |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7026436B2 (en) * | 2002-11-26 | 2006-04-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Low temperature polyimide adhesive compositions and methods relating thereto |
KR20040053947A (ko) | 2002-12-16 | 2004-06-25 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
US7365442B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-04-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulation of thin-film electronic devices |
US8034209B2 (en) * | 2007-06-29 | 2011-10-11 | E Ink Corporation | Electro-optic displays, and materials and methods for production thereof |
TWI468296B (zh) | 2008-08-12 | 2015-01-11 | 3M Innovative Properties Co | 適用於腐蝕敏感層之黏著劑 |
JP2012085253A (ja) * | 2010-03-25 | 2012-04-26 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 表面実装型の水晶デバイス及び水晶デバイスの製造方法 |
US8143530B1 (en) * | 2010-09-17 | 2012-03-27 | Endicott Interconnect Technologies, Inc. | Liquid crystal polymer layer for encapsulation and improved hermiticity of circuitized substrates |
KR101951755B1 (ko) | 2012-07-27 | 2019-02-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조 방법 |
CN103345084B (zh) * | 2013-07-03 | 2015-12-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示器的制备方法和柔性显示器 |
-
2015
- 2015-03-23 TW TW104109229A patent/TWI652162B/zh active
- 2015-03-23 CN CN201580015337.2A patent/CN106103095B/zh active Active
- 2015-03-23 WO PCT/KR2015/002844 patent/WO2015142149A1/ko active Application Filing
- 2015-03-23 JP JP2016557600A patent/JP6343026B2/ja active Active
- 2015-03-23 KR KR1020150040310A patent/KR101717472B1/ko active IP Right Grant
- 2015-03-23 EP EP15764126.7A patent/EP3121006B1/en active Active
- 2015-03-23 US US15/127,709 patent/US10177341B2/en active Active
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000058271A (ja) * | 1998-06-02 | 2000-02-25 | Tdk Corp | 有機elディスプレイ |
US20060003474A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Eastman Kodak Company | Roll-to-sheet manufacture of OLED materials |
JP2006086084A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Tohoku Pioneer Corp | 自発光パネルの製造方法 |
JP2007103093A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 有機電界発光素子 |
JP2007194115A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Fujifilm Corp | 機能素子 |
JP2008234929A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 有機el表示装置 |
JP2009004274A (ja) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 面発光体及び面発光体の製造方法 |
JP2009123645A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
WO2010024006A1 (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | シャープ株式会社 | 有機エレクトロルミネセンスパネル、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ、有機エレクトロルミネセンス照明、及び、それらの製造方法 |
JP2011044360A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 発光装置 |
KR20110029769A (ko) * | 2009-09-16 | 2011-03-23 | 주식회사 엘지화학 | 유기 발광 표시 장치 봉지용 조성물, 접착 필름, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR20120004943A (ko) * | 2010-07-07 | 2012-01-13 | 주식회사 엘지화학 | 봉지 구조를 포함하는 유기 발광 소자 |
KR20130014111A (ko) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP2013115008A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Fujifilm Corp | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、有機電界発光装置、及び有機電界発光装置の製造方法 |
KR20130072651A (ko) * | 2011-12-22 | 2013-07-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치의 봉지방법 |
KR20130134919A (ko) * | 2012-05-31 | 2013-12-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법 |
JP2014116115A (ja) * | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Hitachi Ltd | 有機el封止装置、封止ロールフィルム製作装置及び有機el封止システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI652162B (zh) | 2019-03-01 |
KR20150110424A (ko) | 2015-10-02 |
EP3121006A4 (en) | 2018-07-11 |
WO2015142149A1 (ko) | 2015-09-24 |
KR101717472B1 (ko) | 2017-03-17 |
JP6343026B2 (ja) | 2018-06-13 |
CN106103095A (zh) | 2016-11-09 |
EP3121006A1 (en) | 2017-01-25 |
US20170222182A1 (en) | 2017-08-03 |
TW201600327A (zh) | 2016-01-01 |
US10177341B2 (en) | 2019-01-08 |
EP3121006B1 (en) | 2020-07-01 |
CN106103095B (zh) | 2018-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6343026B2 (ja) | 封止用積層体、有機発光装置及びこれらの製造方法 | |
JP6336569B2 (ja) | 有機発光素子およびその製造方法 | |
JP6417330B2 (ja) | フレキシブル基板を含む有機発光素子およびその製造方法 | |
KR101866296B1 (ko) | 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 | |
KR101947381B1 (ko) | 플렉서블 기판의 제조방법 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법 | |
JP6487436B2 (ja) | 有機物マスクを含む積層体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法 | |
KR20150035262A (ko) | 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 | |
KR20150024189A (ko) | 플렉서블 기판의 제조방법 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법 | |
KR20150037025A (ko) | 플렉서블 기판을 포함하는 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170815 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180424 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6343026 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |