JP2017508271A - 半導体ナノワイヤの製造方法および半導体ナノワイヤを含む構造 - Google Patents
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Abstract
Description
テンプレート内の開口とシード表面との間に基板上を横方向に延びる細長いトンネルを画定するナノワイヤ・テンプレートを形成するステップであって、シード表面が、トンネルに露出され、最大で約2x104nm2の面積を有する、形成するステップと、
前記開口を介して、テンプレート内でシード表面から半導体ナノワイヤを選択的に成長させるステップとを含む。
シード領域および絶縁層に接触するマスキング層を形成するステップであって、それによって、マスキング層および絶縁層がナノワイヤ・テンプレートを提供する、形成するステップと、
マスキング層内に開口を画定して、テンプレート内の前記開口を提供するステップと、
前記開口を介して、前記トンネルを形成するためにシード領域の一部を除去するステップであって、それによって、シード領域の残りの部分が前記シード表面を提供する、除去するステップとを含む。
そのような具現化された方法は、セミコンダクタ・オン・インシュレータ(semiconductor-on-insulator)(XOI)ウェハに容易に適用され得る。これらの基板は、厚い半導体ハンドル・ウェハ(handle wafer)の上に重なる絶縁酸化物層上に薄い半導体素子層を有する。素子層は、ここでテンプレート形成用のシード領域を画定するために予めパターニングされる可能性があり、または方法は、シード領域を形成するためのパターニング・ステップを含む可能性がある。特に、そのような方法は基板の絶縁層の上に重なるシード層(例えば、XOIウェハの素子層)をパターニングして前記シード領域を形成し、シード領域の周りの絶縁層を露出させるステップを含み得る。
Claims (19)
- 基板上に半導体ナノワイヤを製造するための方法であって、
テンプレート内の開口とシード表面との間に前記基板上を横方向に延びる細長いトンネルを画定するナノワイヤ・テンプレートを形成するステップであって、前記シード表面が、前記トンネルに露出され、最大で約2x104nm2の面積を有する、前記形成するステップと、
前記開口を介して、前記テンプレート内で前記シード表面から前記半導体ナノワイヤを選択的に成長させるステップとを含む、方法。 - 前記シード表面の前記面積が、約104nm2以下である、請求項1に記載の方法。
- 前記シード表面の前記面積が、前記ナノワイヤの成長が前記シード表面上の単一の核形成点から進むようなものである、請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記シード表面が、最大で約100nmの横幅と、最大で約100nmの、前記横幅と垂直な縦幅とを有する、請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。
- 前記シード表面が、前記トンネルの一端をふさぐ、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
- 前記シード表面が、前記トンネルの長手方向軸に実質的に垂直である、請求項5に記載の方法。
- 前記シード表面が、単結晶半導体表面である、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法。
- 前記シード表面が、アモルファス半導体、多結晶半導体、金属、および金属半導体合金のうちの1つの表面である、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記細長いトンネルが、前記細長いトンネルから延びる、前記テンプレートによって画定された1つまたは複数の分岐を有する、請求項1ないし8のいずれかに記載の方法。
- 前記基板が、絶縁層がシード領域の周りに露出されるように前記絶縁層の上に重なり、前記絶縁層と接触する、前記テンプレートの内部の形状の前記シード領域を含み、前記方法が、
前記シード領域および前記絶縁層に接触するマスキング層を形成するステップであって、それによって、前記マスキング層および前記絶縁層が前記ナノワイヤ・テンプレートを提供する、前記形成するステップと、
前記マスキング層内に開口を画定して、前記テンプレート内の前記開口を提供するステップと、
前記開口を介して、前記トンネルを形成するために前記シード領域の一部を除去するステップであって、それによって、前記シード領域の残りの部分が前記シード表面を提供する、前記除去するステップとを含む、請求項1ないし9のいずれかに記載の方法。 - 前記基板の前記絶縁層の上に重なるシード層をパターニングして前記シード領域を形成し、前記シード領域の周りの前記絶縁層を露出させるステップをさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記基板が、前記シード層を提供する半導体層を有するセミコンダクタ・オン・インシュレータ・ウェハを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記基板が、シード層を含み、前記方法が、
前記シード層をパターニングして前記シード層の表面から突出するシード領域を形成するステップと、
前記シード領域が前記トンネルの一端をふさぎ、前記シード表面を提供するように前記シード層上に前記ナノワイヤ・テンプレートを形成するステップとを含む、請求項1ないし9のいずれか一項に記載の方法。 - 前記シード領域が、シリコン、ゲルマニウム、およびそれらの合金のうちの1つを含む、請求項10ないし13のいずれか一項に記載の方法。
- 有機金属気相堆積、マイグレーション・エンハンスト・エピタキシ、およびハイドライド気相エピタキシのうちの1つによって前記ナノワイヤを選択的に成長させるステップを含む、請求項1ないし14のいずれかに記載の方法。
- 前記ナノワイヤが、化合物半導体材料を含む、請求項1ないし15のいずれかに記載の方法。
- 基板上に半導体ナノワイヤを製造するための方法であって、実質的に、添付の図面を参照して上で説明された通りである、方法。
- 基板上に複数の半導体ナノワイヤを製造するための方法であって、請求項1ないし17のいずれかに記載の方法によって各ナノワイヤを製造するステップを含み、前記ナノワイヤ・テンプレートが、前記基板上に垂直方向に積み重ねられる、方法。
- 半導体ナノワイヤおよび基板を含む構造であって、請求項1ないし18のいずれか一項に記載の方法によって得られる、構造。
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