JP2017504183A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017504183A5 JP2017504183A5 JP2016532111A JP2016532111A JP2017504183A5 JP 2017504183 A5 JP2017504183 A5 JP 2017504183A5 JP 2016532111 A JP2016532111 A JP 2016532111A JP 2016532111 A JP2016532111 A JP 2016532111A JP 2017504183 A5 JP2017504183 A5 JP 2017504183A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- functionalizable
- substrate
- item
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 215
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 92
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 90
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 23
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 19
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 16
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 claims description 10
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 claims description 9
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 8
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- -1 5-azidoacetamidylpentyl Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical class O* 0.000 claims description 6
- 150000004905 tetrazines Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 6
- 229920000023 polynucleotide Polymers 0.000 claims description 5
- 239000002157 polynucleotide Substances 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 4
- 230000027455 binding Effects 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N fumaric acid Chemical compound OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001888 polyacrylic acid Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 108091005503 Nucleic proteins Proteins 0.000 claims description 3
- 229920000272 Oligonucleotide Polymers 0.000 claims description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002777 nucleoside Substances 0.000 claims description 3
- 125000003835 nucleoside group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002773 nucleotide Substances 0.000 claims description 3
- 125000003729 nucleotide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 claims description 3
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims 2
- 239000002831 pharmacologic agent Substances 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Description
開示される方法の任意の実施形態において、上記方法は、上記テンプレートを除去した後の上記基材に、シール層を付与する工程をさらに含み得、上記ポリマー層と上記機能化可能な層とを、上記裏当て層と上記シーリング層との間に実質的に密封する。いくつかの実施形態では、上記シーリング層はさらに、開示される任意の実施形態の方法によって調製される第２の基材を含み、この場合、上記基材の機能化可能な層と光硬化性ポリマーの層とは、上記基材の裏当て層間に配置される。いくつかの実施形態では、上記シーリング層は、光学的に透明である。いくつかの方法の実施形態では、上記方法はロール・ツー・ロール法であり得る。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
１つまたはそれより多くの官能基を含む機能化可能な層；
複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含むポリマー層；および
裏当て層、を備える基材。
（項目２）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンが、チャネル、トレンチ、ウェル、ポストまたはそれらの組合せを含む、項目１に記載の基材。
（項目３）
前記機能化可能な層が、前記裏当て層と前記ポリマー層との間に配置されている、項目１または２に記載の基材。
（項目４）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層を貫通して下にある前記機能化可能な層を露出する、項目３に記載の基材。
（項目５）
前記機能化可能な層が、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含み、前記ポリマー層と前記機能化可能な層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層と前記機能化可能な層を貫通して下にある前記裏当て層を露出する、項目４に記載の基材。
（項目６）
前記ポリマー層が、前記裏当て層と前記機能化可能な層との間に配置されている、項目１または２に記載の基材。
（項目７）
前記機能化可能な層が、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含み、前記機能化可能な層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層を貫通して下にある前記ポリマー層を露出する、項目６に記載の基材。
（項目８）
前記機能化可能な層および前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層と前記ポリマー層とを貫通して下にある前記裏当て層を露出する、項目７に記載の基材。
（項目９）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が貫通されて、下にある前記裏当て層を露出する、項目６に記載の基材。
（項目１０）
前記基材が円筒体形状であり、前記裏当て層が前記基材の機能化可能な層またはポリマー層よりも前記円筒体の外表に近い、項目１〜９のいずれか１項に記載の基材。
（項目１１）
前記基材が円筒体形状であり、前記裏当て層が前記基材の機能化可能な層またはポリマー層よりも前記円筒体の内表面に近い、項目１〜９のいずれか１項に記載の基材。
（項目１２）
前記基材がシーリング層をさらに備え、前記ポリマー層と前記機能化可能な層とを前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、項目１〜１１のいずれか１項に記載の基材。
（項目１３）
前記シーリング層が、光学的に透明である、項目１２に記載の基材。
（項目１４）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも１つが、試料流体を収容し得る、項目１〜１３のいずれか１項に記載の基材。
（項目１５）
流体レザーバをさらに備える、項目１〜１４のいずれか１項に記載の基材。
（項目１６）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストである、項目１〜１５のいずれか１項に記載の基材。
（項目１７）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径を有する、項目１６に記載の基材。
（項目１８）
前記ポストが、約３３０ｎｍの平均直径を有する、項目１７に記載の基材。
（項目１９）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均高さを有する、項目１６〜１８のいずれか１項に記載の基材。
（項目２０）
前記ポストが、約３００ｎｍの平均高さを有する、項目１９に記載の基材。
（項目２１）
前記裏当て層が、シリカ、プラスチック、石英、金属、金属酸化物、紙およびそれらの組合せからなる群より選択される材料から作製される、項目１〜２０のいずれか１項に記載の基材。
（項目２２）
前記裏当て層が、可撓性のプラスチック材料から作製される、項目２１に記載の基材。
（項目２３）
前記裏当て層が、一巻の可撓性の薄膜から作製される、項目２１または２２に記載の基材。
（項目２４）
前記機能化可能な層が、反応性シラン層、機能化可能なヒドロゲルまたは機能化可能なポリマーを含む、項目１〜２３のいずれか１項に記載の基材。
（項目２５）
前記機能化可能な層が１つまたはそれより多くの官能基を含む、項目１〜２４のいずれか１項に記載の基材。
（項目２６）
前記官能基が、任意選択的に置換されるアルケン、アジド、任意選択的に置換されるアミン、カルボン酸、任意選択的に置換されるヒドラゾン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジン、チオールおよびそれらの組合せからなる群より選択される、項目２５に記載の基材。
（項目２７）
前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）または（Ｉｂ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
Ｒ １ はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
官能基Ｒ Ａ は、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ ５ は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ ２ ）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
項目１〜２６のいずれか１項に記載の基材。
（項目２８）
前記官能基が、アジドを含む、項目２５〜２７のいずれか１項に記載の基材。
（項目２９）
前記機能化可能な層の官能基が、生体分子に付着される、項目２５〜２８のいずれか１項に記載の基材。
（項目３０）
前記生体分子が、アミノ酸、ヌクレオシド、ヌクレオチド、ペプチド、オリゴヌクレオチド、ポリヌクレオチド、核酸、タンパク質またはそれらの組合せから選択される、項目２９に記載の基材。
（項目３１）
前記生体分子が、ポリヌクレオチドまたは核酸である、項目３０に記載の基材。
（項目３２）
前記ポリマー層が、少なくとも１つの光硬化性ポリマーを含む、項目１〜３１のいずれか１項に記載の基材。
（項目３３）
前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーおよび組合せを含む、項目３２に記載の基材。
（項目３４）
前記裏当て層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３３のいずれか１項に記載の基材。
（項目３５）
前記裏当て層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３４のいずれか１項に記載の基材。
（項目３６）
前記機能化可能な層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３５のいずれか１項に記載の基材。
（項目３７）
前記機能化可能な層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３６のいずれか１項に記載の基材。
（項目３８）
前記ポリマー層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３７のいずれか１項に記載の基材。
（項目３９）
前記ポリマー層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３８のいずれか１項に記載の基材。
（項目４０）
前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つが、ドーパント材料でさらにドープされている、項目１〜３９のいずれか１項に記載の基材。
（項目４１）
前記ドーパント材料が、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料または熱伝導性材料から選択される、項目４０に記載の基材。
（項目４２）
前記ドーパント材料が、主として前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の表面上に、または前記表面上にのみに存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４３）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内に存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４４）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内および表面上の両方に存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４５）
前記複数のマイクロスケールパターンもしくは前記ナノスケールパターンまたはそれらの組合せが、室温での機械的エンボス加工によって作製される、項目１〜４４のいずれか１項に記載の基材。
（項目４６）
基材の調製方法であって、
裏当て層と光硬化性ポリマーの層との間に配置された１つまたはそれより多くの官能基を含む機能化可能な層を備える基材を提供する工程；
前記光硬化性ポリマーの層の表面を、マイクロスケールウェルもしくはナノスケールウェル、ポストまたはそれらの組合せを含む、複数のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターン有するテンプレートと接触する工程；
前記テンプレートまたは前記基材に圧力を加える工程であって、前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンを少なくとも前記光硬化性ポリマーの層に転写する工程：を含み、前記接触する工程および前記圧力を加える工程は室温で行なわれ、
前記光硬化性ポリマーにＵＶ光を照射する工程であって、前記光硬化性ポリマーを硬化する工程；ならびに
前記テンプレートを前記基材から分離する工程；を含み、
前記ポリマー層の少なくとも一部分が貫通されて下にある前記機能化可能な層が露出する、基材の調製方法。
（項目４７）
前記ポリマー層および前記機能化可能な層の少なくとも一部分が貫通されて下にある前記裏当て層を露出する、項目４６に記載の方法。
（項目４８）
基材の調製方法であって、
マイクロスケールウェルまたはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せを含む複数のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンを表面上に含むテンプレートを提供する工程；
前記テンプレートの表面上に、１つまたはそれより多くの官能基を含む官能性層を堆積する工程であって、前記マイクロスケールもしくはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せの少なくとも一部分が、前記官能性層を含む、工程；
過剰の機能化可能な層を前記テンプレートの表面から、前記機能化可能な層が前記テンプレートの表面上の一部分のみに存在するように除去する工程；
光硬化性ポリマーの層を有する裏当て層を備える基材を提供する工程であって、前記光硬化性ポリマーの層が前記上面に光硬化性ポリマーの層が配置された裏当て層の上に配置されている、工程；
前記光硬化性ポリマーの層の表面を、前記複数のマイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンおよび機能化可能な層をその上に有する前記テンプレートの表面と接触する工程；
前記テンプレートまたは前記基材に圧力を加える工程であって、前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンを、少なくとも前記光硬化性ポリマーの層に転写する工程；を含み、前記接触する工程および前記圧力を加える工程は室温で行なわれ、
前記光硬化性ポリマーにＵＶ光を照射する工程であって、前記光硬化性ポリマーを硬化する工程；ならびに
前記テンプレートを前記基材から分離する工程；を含み、
前記機能化可能な層の少なくとも一部分が前記ポリマー層に転写される、基材の調製方法。
（項目４９）
前記ポリマー層の少なくとも一部分が貫通されて、前記裏当て層が露出する、項目４８に記載の方法。
（項目５０）
前記基材が裏当て層を備え、前記裏当て層が、前記裏当て層上に配置された光硬化性ポリマーの層を有する、一巻の可撓性ダイシングテープである、項目４８または４９に記載の方法。
（項目５１）
前記テンプレートを除去した後に、前記基材にシーリング層を付与する工程をさらに含み、前記ポリマー層と前記機能化可能な層を、前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、項目４６〜５０のいずれかに記載の方法。
（項目５２）
前記シーリング層が、項目４６〜４９のいずれかに記載の方法によって調製される第２の基材を含み、前記基材の機能化可能な層および光硬化性ポリマーの層が前記基材の裏当て層の間に配置される、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
前記シーリング層が、光学的に透明である、項目５１および５２のいずれかに１項に記載の方法。
（項目５４）
前記基材を円筒体に形成する工程をさらに含む、項目４６〜５３のいずれか１項に記載の方法。
（項目５５）
前記裏当て層が、前記基材の機能化可能な層またはポリマー層より前記円筒体の外表面に近い、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
前記裏当て層が、前記基材の機能化可能な層またはポリマー層より前記円筒体の内表面に近い、項目５４に記載の方法。
（項目５７）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストである、項目４６〜５６のいずれか１項に記載の方法。
（項目５８）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径を有する、項目５７に記載の方法。
（項目５９）
前記ポストが、約３３０ｎｍの平均直径を有する、項目５８に記載の方法。
（項目６０）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均高さを有する、項目５７〜５９のいずれか１項に記載の方法。
（項目６１）
前記ポストが、約３００ｎｍの平均高さを有する、項目６０に記載の方法。
（項目６２）
前記裏当て層が、シリカ、プラスチック、石英、金属、金属酸化物、紙およびそれらの組合せからなる群より選択される材料から作製される、項目４６〜６１のいずれか１項に記載の方法。
（項目６３）
前記裏当て層が、可撓性のプラスチック材料から作製される、項目６２に記載の方法。
（項目６４）
前記裏当て層が、一巻の可撓性膜から作製される、項目６２または６３に記載の方法。
（項目６５）
前記機能化可能な層が、反応性シラン層、機能化可能なヒドロゲルまたは機能化可能なポリマーを含む、項目４６〜６４のいずれか１項に記載の方法。
（項目６６）
前記機能化可能な層が、１つまたはそれより多くの官能基を含む、項目４６〜６５のいずれか１項に記載の方法。
（項目６７）
前記官能基が、任意選択的に置換されるアルケン、アジド、任意選択的に置換されるアミン、カルボン酸、任意選択的に置換されるヒドラゾン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジン、チオールおよびそれらの組合せからなる群より選択される、項目６６に記載の方法。
（項目６８）
前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）または（Ｉｂ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
ここで、Ｒ １ はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
官能基Ｒ Ａ は、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ ５ は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ ２ ）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
項目４６〜６７のいずれか１項に記載の方法。
（項目６９）
前記官能基がアジドを含む、項目６６〜６８のいずれか１項に記載の方法。
（項目７０）
前記機能化可能な層の官能基が生体分子に付着される、項目６６〜６９のいずれか１項に記載の方法。
（項目７１）
前記生体分子が、アミノ酸、ヌクレオシド、ヌクレオチド、ペプチド、オリゴヌクレオチド、ポリヌクレオチド、核酸、タンパク質またはそれらの組合せから選択される、項目７０に記載の方法。
（項目７２）
前記生体分子が、ポリヌクレオチドまたは核酸である、項目７１に記載の方法。
（項目７３）
前記ポリマー層が、少なくとも１つの光硬化性ポリマーを含む、項目４６〜７２のいずれか１項に記載の方法。
（項目７４）
前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーおよび組合せを含むものである、項目７３に記載の方法。
（項目７５）
前記裏当て層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７４のいずれか１項に記載の方法。
（項目７６）
前記裏当て層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７５のいずれか１項に記載の方法。
（項目７７）
前記機能化可能な層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７６のいずれか１項に記載の方法。
（項目７８）
前記機能化可能な層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７７のいずれか１項に記載の方法。
（項目７９）
前記ポリマー層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７８のいずれか１項に記載の方法。
（項目８０）
前記ポリマー層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７９のいずれか１項に記載の方法。
（項目８１）
前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つがさらに、ドーパント材料でドープされている、項目４６〜８０のいずれか１項に記載の方法。
（項目８２）
前記ドーパント材料が、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料または熱伝導性材料から選択される、項目８１に記載の方法。
（項目８３）
前記ドーパント材料が、主に前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の表面上に、または前記表面上のみに存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８４）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内に存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８５）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内および表面上の両方に存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８６）
項目４６または４８に記載の方法の前に、前記裏当て層、前記光硬化性ポリマーの層または前記機能化可能な層の少なくとも１つに、ドーパント材料がドープされる、項目８１〜８５のいずれか１項に記載の方法。
（項目８７）
項目４６または４８に記載の方法によりテンプレートと接触させる前に、前記光硬化性ポリマーの層または前記機能化可能な層の少なくとも一方が、ドーパント材料でドープされる、項目８１〜８６のいずれか１項に記載の方法。
（項目８８）
前記テンプレートのマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層内のドーパント材料に転写される、項目８１〜８７のいずれか１項に記載の方法。
（項目８９）
前記テンプレートのマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層内のドーパント材料に転写される、項目８１〜８７のいずれか１項に記載の方法。
（項目９０）
前記方法が、ロール・ツー・ロール法である、項目４６〜８９のいずれかに記載の方法。
本発明は、例えば以下の項目を提供する。
（項目１）
１つまたはそれより多くの官能基を含む機能化可能な層；
複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含むポリマー層；および
裏当て層、を備える基材。
（項目２）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンが、チャネル、トレンチ、ウェル、ポストまたはそれらの組合せを含む、項目１に記載の基材。
（項目３）
前記機能化可能な層が、前記裏当て層と前記ポリマー層との間に配置されている、項目１または２に記載の基材。
（項目４）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層を貫通して下にある前記機能化可能な層を露出する、項目３に記載の基材。
（項目５）
前記機能化可能な層が、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含み、前記ポリマー層と前記機能化可能な層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層と前記機能化可能な層を貫通して下にある前記裏当て層を露出する、項目４に記載の基材。
（項目６）
前記ポリマー層が、前記裏当て層と前記機能化可能な層との間に配置されている、項目１または２に記載の基材。
（項目７）
前記機能化可能な層が、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含み、前記機能化可能な層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層を貫通して下にある前記ポリマー層を露出する、項目６に記載の基材。
（項目８）
前記機能化可能な層および前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層と前記ポリマー層とを貫通して下にある前記裏当て層を露出する、項目７に記載の基材。
（項目９）
前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が貫通されて、下にある前記裏当て層を露出する、項目６に記載の基材。
（項目１０）
前記基材が円筒体形状であり、前記裏当て層が前記基材の機能化可能な層またはポリマー層よりも前記円筒体の外表に近い、項目１〜９のいずれか１項に記載の基材。
（項目１１）
前記基材が円筒体形状であり、前記裏当て層が前記基材の機能化可能な層またはポリマー層よりも前記円筒体の内表面に近い、項目１〜９のいずれか１項に記載の基材。
（項目１２）
前記基材がシーリング層をさらに備え、前記ポリマー層と前記機能化可能な層とを前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、項目１〜１１のいずれか１項に記載の基材。
（項目１３）
前記シーリング層が、光学的に透明である、項目１２に記載の基材。
（項目１４）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも１つが、試料流体を収容し得る、項目１〜１３のいずれか１項に記載の基材。
（項目１５）
流体レザーバをさらに備える、項目１〜１４のいずれか１項に記載の基材。
（項目１６）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストである、項目１〜１５のいずれか１項に記載の基材。
（項目１７）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径を有する、項目１６に記載の基材。
（項目１８）
前記ポストが、約３３０ｎｍの平均直径を有する、項目１７に記載の基材。
（項目１９）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均高さを有する、項目１６〜１８のいずれか１項に記載の基材。
（項目２０）
前記ポストが、約３００ｎｍの平均高さを有する、項目１９に記載の基材。
（項目２１）
前記裏当て層が、シリカ、プラスチック、石英、金属、金属酸化物、紙およびそれらの組合せからなる群より選択される材料から作製される、項目１〜２０のいずれか１項に記載の基材。
（項目２２）
前記裏当て層が、可撓性のプラスチック材料から作製される、項目２１に記載の基材。
（項目２３）
前記裏当て層が、一巻の可撓性の薄膜から作製される、項目２１または２２に記載の基材。
（項目２４）
前記機能化可能な層が、反応性シラン層、機能化可能なヒドロゲルまたは機能化可能なポリマーを含む、項目１〜２３のいずれか１項に記載の基材。
（項目２５）
前記機能化可能な層が１つまたはそれより多くの官能基を含む、項目１〜２４のいずれか１項に記載の基材。
（項目２６）
前記官能基が、任意選択的に置換されるアルケン、アジド、任意選択的に置換されるアミン、カルボン酸、任意選択的に置換されるヒドラゾン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジン、チオールおよびそれらの組合せからなる群より選択される、項目２５に記載の基材。
（項目２７）
前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）または（Ｉｂ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
Ｒ １ はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
官能基Ｒ Ａ は、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ ５ は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ ２ ）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
項目１〜２６のいずれか１項に記載の基材。
（項目２８）
前記官能基が、アジドを含む、項目２５〜２７のいずれか１項に記載の基材。
（項目２９）
前記機能化可能な層の官能基が、生体分子に付着される、項目２５〜２８のいずれか１項に記載の基材。
（項目３０）
前記生体分子が、アミノ酸、ヌクレオシド、ヌクレオチド、ペプチド、オリゴヌクレオチド、ポリヌクレオチド、核酸、タンパク質またはそれらの組合せから選択される、項目２９に記載の基材。
（項目３１）
前記生体分子が、ポリヌクレオチドまたは核酸である、項目３０に記載の基材。
（項目３２）
前記ポリマー層が、少なくとも１つの光硬化性ポリマーを含む、項目１〜３１のいずれか１項に記載の基材。
（項目３３）
前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーおよび組合せを含む、項目３２に記載の基材。
（項目３４）
前記裏当て層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３３のいずれか１項に記載の基材。
（項目３５）
前記裏当て層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３４のいずれか１項に記載の基材。
（項目３６）
前記機能化可能な層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３５のいずれか１項に記載の基材。
（項目３７）
前記機能化可能な層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３６のいずれか１項に記載の基材。
（項目３８）
前記ポリマー層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目１〜３７のいずれか１項に記載の基材。
（項目３９）
前記ポリマー層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目１〜３８のいずれか１項に記載の基材。
（項目４０）
前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つが、ドーパント材料でさらにドープされている、項目１〜３９のいずれか１項に記載の基材。
（項目４１）
前記ドーパント材料が、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料または熱伝導性材料から選択される、項目４０に記載の基材。
（項目４２）
前記ドーパント材料が、主として前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の表面上に、または前記表面上にのみに存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４３）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内に存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４４）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内および表面上の両方に存在する、項目４０または４１に記載の基材。
（項目４５）
前記複数のマイクロスケールパターンもしくは前記ナノスケールパターンまたはそれらの組合せが、室温での機械的エンボス加工によって作製される、項目１〜４４のいずれか１項に記載の基材。
（項目４６）
基材の調製方法であって、
裏当て層と光硬化性ポリマーの層との間に配置された１つまたはそれより多くの官能基を含む機能化可能な層を備える基材を提供する工程；
前記光硬化性ポリマーの層の表面を、マイクロスケールウェルもしくはナノスケールウェル、ポストまたはそれらの組合せを含む、複数のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターン有するテンプレートと接触する工程；
前記テンプレートまたは前記基材に圧力を加える工程であって、前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンを少なくとも前記光硬化性ポリマーの層に転写する工程：を含み、前記接触する工程および前記圧力を加える工程は室温で行なわれ、
前記光硬化性ポリマーにＵＶ光を照射する工程であって、前記光硬化性ポリマーを硬化する工程；ならびに
前記テンプレートを前記基材から分離する工程；を含み、
前記ポリマー層の少なくとも一部分が貫通されて下にある前記機能化可能な層が露出する、基材の調製方法。
（項目４７）
前記ポリマー層および前記機能化可能な層の少なくとも一部分が貫通されて下にある前記裏当て層を露出する、項目４６に記載の方法。
（項目４８）
基材の調製方法であって、
マイクロスケールウェルまたはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せを含む複数のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンを表面上に含むテンプレートを提供する工程；
前記テンプレートの表面上に、１つまたはそれより多くの官能基を含む官能性層を堆積する工程であって、前記マイクロスケールもしくはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せの少なくとも一部分が、前記官能性層を含む、工程；
過剰の機能化可能な層を前記テンプレートの表面から、前記機能化可能な層が前記テンプレートの表面上の一部分のみに存在するように除去する工程；
光硬化性ポリマーの層を有する裏当て層を備える基材を提供する工程であって、前記光硬化性ポリマーの層が前記上面に光硬化性ポリマーの層が配置された裏当て層の上に配置されている、工程；
前記光硬化性ポリマーの層の表面を、前記複数のマイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンおよび機能化可能な層をその上に有する前記テンプレートの表面と接触する工程；
前記テンプレートまたは前記基材に圧力を加える工程であって、前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンを、少なくとも前記光硬化性ポリマーの層に転写する工程；を含み、前記接触する工程および前記圧力を加える工程は室温で行なわれ、
前記光硬化性ポリマーにＵＶ光を照射する工程であって、前記光硬化性ポリマーを硬化する工程；ならびに
前記テンプレートを前記基材から分離する工程；を含み、
前記機能化可能な層の少なくとも一部分が前記ポリマー層に転写される、基材の調製方法。
（項目４９）
前記ポリマー層の少なくとも一部分が貫通されて、前記裏当て層が露出する、項目４８に記載の方法。
（項目５０）
前記基材が裏当て層を備え、前記裏当て層が、前記裏当て層上に配置された光硬化性ポリマーの層を有する、一巻の可撓性ダイシングテープである、項目４８または４９に記載の方法。
（項目５１）
前記テンプレートを除去した後に、前記基材にシーリング層を付与する工程をさらに含み、前記ポリマー層と前記機能化可能な層を、前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、項目４６〜５０のいずれかに記載の方法。
（項目５２）
前記シーリング層が、項目４６〜４９のいずれかに記載の方法によって調製される第２の基材を含み、前記基材の機能化可能な層および光硬化性ポリマーの層が前記基材の裏当て層の間に配置される、項目５１に記載の方法。
（項目５３）
前記シーリング層が、光学的に透明である、項目５１および５２のいずれかに１項に記載の方法。
（項目５４）
前記基材を円筒体に形成する工程をさらに含む、項目４６〜５３のいずれか１項に記載の方法。
（項目５５）
前記裏当て層が、前記基材の機能化可能な層またはポリマー層より前記円筒体の外表面に近い、項目５４に記載の方法。
（項目５６）
前記裏当て層が、前記基材の機能化可能な層またはポリマー層より前記円筒体の内表面に近い、項目５４に記載の方法。
（項目５７）
前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストである、項目４６〜５６のいずれか１項に記載の方法。
（項目５８）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径を有する、項目５７に記載の方法。
（項目５９）
前記ポストが、約３３０ｎｍの平均直径を有する、項目５８に記載の方法。
（項目６０）
前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均高さを有する、項目５７〜５９のいずれか１項に記載の方法。
（項目６１）
前記ポストが、約３００ｎｍの平均高さを有する、項目６０に記載の方法。
（項目６２）
前記裏当て層が、シリカ、プラスチック、石英、金属、金属酸化物、紙およびそれらの組合せからなる群より選択される材料から作製される、項目４６〜６１のいずれか１項に記載の方法。
（項目６３）
前記裏当て層が、可撓性のプラスチック材料から作製される、項目６２に記載の方法。
（項目６４）
前記裏当て層が、一巻の可撓性膜から作製される、項目６２または６３に記載の方法。
（項目６５）
前記機能化可能な層が、反応性シラン層、機能化可能なヒドロゲルまたは機能化可能なポリマーを含む、項目４６〜６４のいずれか１項に記載の方法。
（項目６６）
前記機能化可能な層が、１つまたはそれより多くの官能基を含む、項目４６〜６５のいずれか１項に記載の方法。
（項目６７）
前記官能基が、任意選択的に置換されるアルケン、アジド、任意選択的に置換されるアミン、カルボン酸、任意選択的に置換されるヒドラゾン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジン、チオールおよびそれらの組合せからなる群より選択される、項目６６に記載の方法。
（項目６８）
前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）または（Ｉｂ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
ここで、Ｒ １ はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
官能基Ｒ Ａ は、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ ５ は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ ２ ）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
項目４６〜６７のいずれか１項に記載の方法。
（項目６９）
前記官能基がアジドを含む、項目６６〜６８のいずれか１項に記載の方法。
（項目７０）
前記機能化可能な層の官能基が生体分子に付着される、項目６６〜６９のいずれか１項に記載の方法。
（項目７１）
前記生体分子が、アミノ酸、ヌクレオシド、ヌクレオチド、ペプチド、オリゴヌクレオチド、ポリヌクレオチド、核酸、タンパク質またはそれらの組合せから選択される、項目７０に記載の方法。
（項目７２）
前記生体分子が、ポリヌクレオチドまたは核酸である、項目７１に記載の方法。
（項目７３）
前記ポリマー層が、少なくとも１つの光硬化性ポリマーを含む、項目４６〜７２のいずれか１項に記載の方法。
（項目７４）
前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーおよび組合せを含むものである、項目７３に記載の方法。
（項目７５）
前記裏当て層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７４のいずれか１項に記載の方法。
（項目７６）
前記裏当て層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７５のいずれか１項に記載の方法。
（項目７７）
前記機能化可能な層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７６のいずれか１項に記載の方法。
（項目７８）
前記機能化可能な層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７７のいずれか１項に記載の方法。
（項目７９）
前記ポリマー層が、約１ｍｍを超えない厚さである、項目４６〜７８のいずれか１項に記載の方法。
（項目８０）
前記ポリマー層が、約１００μｍを超えない厚さである、項目４６〜７９のいずれか１項に記載の方法。
（項目８１）
前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つがさらに、ドーパント材料でドープされている、項目４６〜８０のいずれか１項に記載の方法。
（項目８２）
前記ドーパント材料が、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料または熱伝導性材料から選択される、項目８１に記載の方法。
（項目８３）
前記ドーパント材料が、主に前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の表面上に、または前記表面上のみに存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８４）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内に存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８５）
前記ドーパント材料が、前記裏当て層、前記ポリマー層または前記機能化可能な層の体積内および表面上の両方に存在する、項目８１または８２に記載の方法。
（項目８６）
項目４６または４８に記載の方法の前に、前記裏当て層、前記光硬化性ポリマーの層または前記機能化可能な層の少なくとも１つに、ドーパント材料がドープされる、項目８１〜８５のいずれか１項に記載の方法。
（項目８７）
項目４６または４８に記載の方法によりテンプレートと接触させる前に、前記光硬化性ポリマーの層または前記機能化可能な層の少なくとも一方が、ドーパント材料でドープされる、項目８１〜８６のいずれか１項に記載の方法。
（項目８８）
前記テンプレートのマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記ポリマー層内のドーパント材料に転写される、項目８１〜８７のいずれか１項に記載の方法。
（項目８９）
前記テンプレートのマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層内のドーパント材料に転写される、項目８１〜８７のいずれか１項に記載の方法。
（項目９０）
前記方法が、ロール・ツー・ロール法である、項目４６〜８９のいずれかに記載の方法。
Claims (23)
- １つまたはそれより多くの官能基を含む機能化可能な層；
複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含むＵＶ硬化性ポリマー層；および
裏当て層、を備える基材であって、
前記機能化可能な層が、機能化可能なヒドロゲルまたはポリマーを含み、前記機能化可能なヒドロゲルまたはポリマーが、１つまたはそれより多くの官能基を含み、前記１つまたはそれより多くの官能基が、生体分子に付着することができ、
前記ＵＶ硬化性ポリマー層が、少なくとも１つの光硬化性ポリマーを含み、フォトレジストを含まない、基材。 - 前記ＵＶ硬化性ポリマー層が、前記裏当て層と前記機能化可能な層との間に配置されている、請求項１に記載の基材。
- 前記機能化可能な層が、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含み、前記機能化可能な層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンの少なくとも一部分が、前記機能化可能な層を貫通して下にある前記ＵＶ硬化性ポリマー層を露出する、請求項２に記載の基材。
- 前記基材がシーリング層をさらに備え、前記ＵＶ硬化性ポリマー層と前記機能化可能な層とを前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の基材。
- 流体レザーバをさらに備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基材。
- 前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の基材。
- 前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径または平均高さを有する、請求項６に記載の基材。
- 前記裏当て層が、シリカ、プラスチック、石英、金属、金属酸化物、紙およびそれらの組合せからなる群より選択される材料から作製される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の基材。
- 前記機能化可能な層が、反応性シラン層をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の基材。
- 前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
Ｒ１はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
Ｒ Ａは、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ５は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ２）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の基材。 - 前記機能化可能な層が、ポリ（Ｎ−（５−アジドアセトアミジルペンチル）アクリルアミド−コ−アクリルアミド）（ＰＡＺＡＭ）を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の基材。
- 前記基材が、前記機能化可能な層に付着される生体分子をさらに含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基材。
- 前記生体分子が、アミノ酸、ヌクレオシド、ヌクレオチド、ペプチド、オリゴヌクレオチド、ポリヌクレオチド、核酸およびタンパク質、ならびにそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１２に記載の基材。
- 前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーもしくはそれらの組合せを含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基材。
- 前記裏当て層、前記ＵＶ硬化性ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つが、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料および熱伝導性材料、ならびにそれらの組合せからなる群から選択されるドーパント材料をさらに含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の基材。
- 基材の調製方法であって、
マイクロスケールウェルまたはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せを含む複数のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンを表面上に含むテンプレートを提供する工程；
前記テンプレートの表面上に、１つまたはそれより多くの官能基を含む官能性層を堆積する工程であって、前記マイクロスケールもしくはナノスケールウェル、チャネルまたはそれらの組合せの少なくとも一部分が、前記官能性層を含む、工程；
過剰の機能化可能な層を前記テンプレートの表面から、前記機能化可能な層が前記テンプレートの表面上の一部分のみに存在するように除去する工程；
光硬化性ポリマーの層を有する裏当て層を備える基材を提供する工程であって、前記光硬化性ポリマーの層が前記上面に光硬化性ポリマーの層が配置された裏当て層の上に配置されている、工程；
前記光硬化性ポリマーの層の表面を、前記複数のマイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンおよび機能化可能な層をその上に有する前記テンプレートの表面と接触する工程；
前記テンプレートまたは前記基材に圧力を加える工程であって、前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンを、少なくとも前記光硬化性ポリマーの層に転写する工程；を含み、前記接触する工程および前記圧力を加える工程は室温で行なわれ、
前記光硬化性ポリマーにＵＶ光を照射する工程であって、前記光硬化性ポリマーを硬化させて、ＵＶ硬化性ポリマー層を形成する工程；ならびに
前記テンプレートを前記基材から分離する工程；を含み、
前記機能化可能な層の少なくとも一部分が前記ＵＶ硬化性ポリマー層に転写され、
前記機能化可能な層が、機能化可能なヒドロゲルまたはポリマーを含み、前記機能化可能なヒドロゲルまたはポリマーが、１つまたはそれより多くの官能基を含み、前記１つまたはそれより多くの官能基が、生体分子に付着することができる、基材の調製方法。 - 前記ＵＶ硬化性ポリマー層の少なくとも一部分が貫通されて、前記裏当て層が露出する、請求項１６に記載の方法。
- 前記テンプレートを除去した後に、前記基材にシーリング層を付与する工程をさらに含み、前記ＵＶ硬化性ポリマー層と前記機能化可能な層を、前記裏当て層と前記シーリング層との間に実質的に密封する、請求項１６または１７に記載の方法。
- 前記マイクロスケールパターンまたは前記ナノスケールパターンの少なくとも一部分が、ポストであり、前記ポストが、約５００ｎｍ未満の平均直径または平均高さを有する、請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の方法。
- 前記機能化可能な層が、式（Ｉａ）：
を含むポリマーまたはヒドロゲルを含み、
ここで、Ｒ１はＨまたは任意選択的に置換されるアルキルであり；
Ｒ Ａは、アジド、任意選択的に置換されるアミン、任意選択的に置換されるアルケン、任意選択的に置換されるヒドラゾン、カルボン酸、ハロゲン、ヒドロキシ、任意選択的に置換されるテトラゾール、任意選択的に置換されるテトラジンおよびチオールからなる群より選択され；
Ｒ５は、Ｈまたは任意選択的に置換されるアルキルから選択され；
−（ＣＨ２）−ｐの各々は任意選択的に置換されていてもよく；
ｐは１〜５０の範囲の整数であり；
ｎは１〜５０，０００の範囲の整数であり；そして
ｍは１〜１００，０００の範囲の整数である、
請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法。 - 前記機能化可能な層が、ポリ（Ｎ−（５−アジドアセトアミジルペンチル）アクリルアミド−コ−アクリルアミド）（ＰＡＺＡＭ）を含む、請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の方法。
- 前記光硬化性ポリマーが、ウレタン、アクリレート、シリコーン、エポキシ、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、エポキシシリコーン、エポキシ樹脂、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、シルセスキオキサン、アシルオキシシラン、マレイン酸ポリエステル、ビニルエーテル、ビニル基もしくはエチニル基を有するモノマー、またはそのコポリマーおよびそれらの組合せを含むものである、請求項１６〜２１のいずれか１項に記載の方法。
- 前記裏当て層、前記ＵＶ硬化性ポリマー層または前記機能化可能な層の少なくとも１つが、ナノ粒子、量子ドット、結合受容体、リガンド、核酸、前記機能化可能な層の反応性部分、光学フィルター材料、軽量吸収材料、発光材料、光散乱材料、電気伝導性材料および熱伝導性材料、ならびにそれらの組合せからなる群から選択されるドーパント材料をさらに含む、請求項１６〜２２のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201361918582P | 2013-12-19 | 2013-12-19 | |
| US61/918,582 | 2013-12-19 | ||
| PCT/US2014/070777 WO2015095291A1 (en) | 2013-12-19 | 2014-12-17 | Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020055517A Division JP7096853B2 (ja) | 2013-12-19 | 2020-03-26 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017504183A JP2017504183A (ja) | 2017-02-02 |
| JP2017504183A5 true JP2017504183A5 (ja) | 2018-02-01 |
| JP6683608B2 JP6683608B2 (ja) | 2020-04-22 |
Family
ID=52293256
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016532111A Active JP6683608B2 (ja) | 2013-12-19 | 2014-12-17 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
| JP2020055517A Active JP7096853B2 (ja) | 2013-12-19 | 2020-03-26 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
| JP2022101879A Active JP7407240B2 (ja) | 2013-12-19 | 2022-06-24 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020055517A Active JP7096853B2 (ja) | 2013-12-19 | 2020-03-26 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
| JP2022101879A Active JP7407240B2 (ja) | 2013-12-19 | 2022-06-24 | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US10682829B2 (ja) |
| EP (2) | EP3084523B1 (ja) |
| JP (3) | JP6683608B2 (ja) |
| CN (2) | CN114089597A (ja) |
| AU (1) | AU2014364898B2 (ja) |
| CA (2) | CA3171807A1 (ja) |
| WO (1) | WO2015095291A1 (ja) |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10682829B2 (en) * | 2013-12-19 | 2020-06-16 | Illumina, Inc. | Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof |
| KR102590448B1 (ko) * | 2014-11-11 | 2023-10-17 | 일루미나 케임브리지 리미티드 | 핵산의 모노클로날 클러스터를 형성시키고 시퀀싱하기 위한 방법 및 어레이 |
| CN107924121B (zh) | 2015-07-07 | 2021-06-08 | 亿明达股份有限公司 | 经由纳米压印的选择性表面图案化 |
| WO2017015018A1 (en) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | Illumina, Inc. | Polymer sheets for sequencing applications |
| US20190030530A1 (en) * | 2016-02-02 | 2019-01-31 | Okinawa Institute Of Science And Technology School Corporation | Micro- and nanocontact printing with aminosilanes: patterning surfaces of microfluidic devices for multi- plexed bioassays |
| EP3458913B1 (en) * | 2016-05-18 | 2020-12-23 | Illumina, Inc. | Self assembled patterning using patterned hydrophobic surfaces |
| DE102016109693B4 (de) * | 2016-05-25 | 2022-10-27 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Trennen von Halbleiterdies von einem Halbleitersubstrat und Halbleitersubstratanordnung |
| RU2748273C9 (ru) | 2016-09-27 | 2021-07-28 | Иллюмина, Инк. | Подложка с наноотпечатком |
| CN106501520A (zh) * | 2016-10-18 | 2017-03-15 | 成都市亿泰科技有限公司 | 一种基于微流体毛细结构的毒品检测试纸及其制备方法 |
| WO2018119053A1 (en) * | 2016-12-22 | 2018-06-28 | Illumina, Inc. | Arrays including a resin film and a patterned polymer layer |
| PT3558510T (pt) * | 2016-12-22 | 2023-01-30 | Illumina Inc | Matriz que inclui iniciador de sequenciação e entidade não sequenciável |
| MX2019006753A (es) | 2016-12-22 | 2020-01-30 | Illumina Inc | Paquete de celda de flujo y metodo para fabricar el mismo. |
| EP3559745B1 (en) * | 2016-12-22 | 2024-02-14 | Illumina, Inc. | Imprinting apparatus |
| US11261085B2 (en) | 2017-05-03 | 2022-03-01 | Nanotech Security Corp. | Methods for micro and nano fabrication by selective template removal |
| CA3014989C (en) * | 2017-05-03 | 2020-03-24 | Nanotech Security Corp. | Methods for micro and nano fabrication by selective template removal |
| US10503457B2 (en) | 2017-05-05 | 2019-12-10 | Nvidia Corporation | Method and apparatus for rendering perspective-correct images for a tilted multi-display environment |
| JP6846516B2 (ja) * | 2017-06-09 | 2021-03-24 | 三井化学株式会社 | 微細凹凸パターン付き基板の製造方法、樹脂組成物および積層体 |
| DE102017217179A1 (de) | 2017-09-27 | 2019-03-28 | Disco Corporation | Mikrofluidisches System oder mikrofluidische Einrichtung und Verfahren zum Herstellen eines mikrofluidischen Systems oder einer mikrofluidischen Einrichtung |
| KR102091622B1 (ko) * | 2017-10-10 | 2020-03-20 | 삼육대학교산학협력단 | 양자점-중합체 합성물의 패턴화 방법 및 패턴화된 양자점-중합체 합성물을 포함하는 기판 |
| US10344328B2 (en) | 2017-11-17 | 2019-07-09 | Ultima Genomics, Inc. | Methods for biological sample processing and analysis |
| US11499962B2 (en) | 2017-11-17 | 2022-11-15 | Ultima Genomics, Inc. | Methods and systems for analyte detection and analysis |
| KR102313291B1 (ko) * | 2017-12-21 | 2021-10-15 | 일루미나, 인코포레이티드 | 하이드로겔 코팅을 가진 플로우 셀 |
| IL271394B2 (en) * | 2017-12-22 | 2023-12-01 | Illumina Inc | Catalysts |
| US10512911B1 (en) | 2018-12-07 | 2019-12-24 | Ultima Genomics, Inc. | Implementing barriers for controlled environments during sample processing and detection |
| WO2020141056A1 (en) | 2018-12-31 | 2020-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Method for predicting resist deformation |
| US10900078B2 (en) | 2019-03-14 | 2021-01-26 | Ultima Genomics, Inc. | Methods, devices, and systems for analyte detection and analysis |
| US10852518B1 (en) | 2019-03-14 | 2020-12-01 | Ultima Genomics, Inc. | Methods, devices, and systems for analyte detection and analysis |
| US11118223B2 (en) | 2019-03-14 | 2021-09-14 | Ultima Genomics, Inc. | Methods, devices, and systems for analyte detection and analysis |
| US10830703B1 (en) | 2019-03-14 | 2020-11-10 | Ultima Genomics, Inc. | Methods, devices, and systems for analyte detection and analysis |
| NL2023679B1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-04-13 | Illumina Inc | System and method for patterning flow cell substrates |
| CN110596950A (zh) | 2019-10-29 | 2019-12-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种量子点彩色滤光层及其制作方法、显示面板及装置 |
| EP3839625A1 (fr) | 2019-12-18 | 2021-06-23 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger et composant obtenu selon ce procede |
| US20240011975A1 (en) * | 2020-09-15 | 2024-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Nanopatterned Films with Patterned Surface Chemistry |
| WO2022144626A1 (en) | 2020-12-31 | 2022-07-07 | 3M Innovative Properties Company | Nanopatterned films with patterned surface chemistry |
| WO2024025806A1 (en) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | Illumina, Inc. | Motion feedback using patterned flowcells |
Family Cites Families (125)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8822228D0 (en) | 1988-09-21 | 1988-10-26 | Southern E M | Support-bound oligonucleotides |
| US5077210A (en) * | 1989-01-13 | 1991-12-31 | Eigler Frances S | Immobilization of active agents on substrates with a silane and heterobifunctional crosslinking agent |
| US6346413B1 (en) | 1989-06-07 | 2002-02-12 | Affymetrix, Inc. | Polymer arrays |
| US5800992A (en) | 1989-06-07 | 1998-09-01 | Fodor; Stephen P.A. | Method of detecting nucleic acids |
| DE3924454A1 (de) | 1989-07-24 | 1991-02-07 | Cornelis P Prof Dr Hollenberg | Die anwendung von dna und dna-technologie fuer die konstruktion von netzwerken zur verwendung in der chip-konstruktion und chip-produktion (dna chips) |
| AU669489B2 (en) | 1991-09-18 | 1996-06-13 | Affymax Technologies N.V. | Method of synthesizing diverse collections of oligomers |
| US6017696A (en) * | 1993-11-01 | 2000-01-25 | Nanogen, Inc. | Methods for electronic stringency control for molecular biological analysis and diagnostics |
| ATE293011T1 (de) | 1991-11-22 | 2005-04-15 | Affymetrix Inc A Delaware Corp | Kombinatorische strategien für die polymersynthese |
| EP0675966B1 (en) | 1992-02-19 | 2004-10-06 | The Public Health Research Institute Of The City Of New York, Inc. | Novel oligonucleotide arrays and their use for sorting, isolating, sequencing, and manipulating nucleic acids |
| US5583211A (en) | 1992-10-29 | 1996-12-10 | Beckman Instruments, Inc. | Surface activated organic polymers useful for location - specific attachment of nucleic acids, peptides, proteins and oligosaccharides |
| US5472672A (en) | 1993-10-22 | 1995-12-05 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Apparatus and method for polymer synthesis using arrays |
| JPH09507121A (ja) | 1993-10-26 | 1997-07-22 | アフィマックス テクノロジーズ ナームロゼ ベノートスハップ | 生物学的チップ上の核酸プローブアレー |
| US6156501A (en) | 1993-10-26 | 2000-12-05 | Affymetrix, Inc. | Arrays of modified nucleic acid probes and methods of use |
| US5429807A (en) | 1993-10-28 | 1995-07-04 | Beckman Instruments, Inc. | Method and apparatus for creating biopolymer arrays on a solid support surface |
| US7172864B1 (en) | 1993-11-01 | 2007-02-06 | Nanogen | Methods for electronically-controlled enzymatic reactions |
| US5807522A (en) | 1994-06-17 | 1998-09-15 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Methods for fabricating microarrays of biological samples |
| US5641658A (en) | 1994-08-03 | 1997-06-24 | Mosaic Technologies, Inc. | Method for performing amplification of nucleic acid with two primers bound to a single solid support |
| US5556752A (en) | 1994-10-24 | 1996-09-17 | Affymetrix, Inc. | Surface-bound, unimolecular, double-stranded DNA |
| US5624711A (en) | 1995-04-27 | 1997-04-29 | Affymax Technologies, N.V. | Derivatization of solid supports and methods for oligomer synthesis |
| US5545531A (en) | 1995-06-07 | 1996-08-13 | Affymax Technologies N.V. | Methods for making a device for concurrently processing multiple biological chip assays |
| EP0852004B1 (en) | 1995-10-11 | 2011-01-19 | Luminex Corporation | Multiplexed analysis of clinical specimens |
| US5658734A (en) | 1995-10-17 | 1997-08-19 | International Business Machines Corporation | Process for synthesizing chemical compounds |
| US6458530B1 (en) | 1996-04-04 | 2002-10-01 | Affymetrix Inc. | Selecting tag nucleic acids |
| SE9602545L (sv) * | 1996-06-25 | 1997-12-26 | Michael Mecklenburg | Metod för att diskriminera komplexa biologiska prover |
| US6297006B1 (en) | 1997-01-16 | 2001-10-02 | Hyseq, Inc. | Methods for sequencing repetitive sequences and for determining the order of sequence subfragments |
| AU6846798A (en) | 1997-04-01 | 1998-10-22 | Glaxo Group Limited | Method of nucleic acid sequencing |
| US6465178B2 (en) | 1997-09-30 | 2002-10-15 | Surmodics, Inc. | Target molecule attachment to surfaces |
| US6485944B1 (en) | 1997-10-10 | 2002-11-26 | President And Fellows Of Harvard College | Replica amplification of nucleic acid arrays |
| US6087102A (en) | 1998-01-07 | 2000-07-11 | Clontech Laboratories, Inc. | Polymeric arrays and methods for their use in binding assays |
| US6287776B1 (en) | 1998-02-02 | 2001-09-11 | Signature Bioscience, Inc. | Method for detecting and classifying nucleic acid hybridization |
| JP3944996B2 (ja) | 1998-03-05 | 2007-07-18 | 株式会社日立製作所 | Ｄｎａプローブアレー |
| US6031078A (en) | 1998-06-16 | 2000-02-29 | Millennium Pharmaceuticals, Inc. | MTbx protein and nucleic acid molecules and uses therefor |
| US6682942B1 (en) * | 1998-07-14 | 2004-01-27 | Zyomyx, Inc. | Microdevices for screening biomolecules |
| AR021833A1 (es) | 1998-09-30 | 2002-08-07 | Applied Research Systems | Metodos de amplificacion y secuenciacion de acido nucleico |
| US6277628B1 (en) | 1998-10-02 | 2001-08-21 | Incyte Genomics, Inc. | Linear microarrays |
| US6391937B1 (en) | 1998-11-25 | 2002-05-21 | Motorola, Inc. | Polyacrylamide hydrogels and hydrogel arrays made from polyacrylamide reactive prepolymers |
| AU4476900A (en) | 1999-04-20 | 2000-11-02 | Illumina, Inc. | Detection of nucleic acid reactions on bead arrays |
| US6355431B1 (en) | 1999-04-20 | 2002-03-12 | Illumina, Inc. | Detection of nucleic acid amplification reactions using bead arrays |
| US6372813B1 (en) | 1999-06-25 | 2002-04-16 | Motorola | Methods and compositions for attachment of biomolecules to solid supports, hydrogels, and hydrogel arrays |
| US6664061B2 (en) | 1999-06-25 | 2003-12-16 | Amersham Biosciences Ab | Use and evaluation of a [2+2] photoaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix |
| US6921638B2 (en) * | 1999-06-25 | 2005-07-26 | Amersham Biosciences Ab | Hydrogel-based microarray signal amplification methods and devices therefor |
| US7501245B2 (en) * | 1999-06-28 | 2009-03-10 | Helicos Biosciences Corp. | Methods and apparatuses for analyzing polynucleotide sequences |
| US6770441B2 (en) | 2000-02-10 | 2004-08-03 | Illumina, Inc. | Array compositions and methods of making same |
| AU2001241723A1 (en) | 2000-02-25 | 2001-09-03 | Affymetrix, Inc. | Methods for multi-stage solid phase amplification of nucleic acids |
| CN1191925C (zh) * | 2000-06-09 | 2005-03-09 | 3M创新有限公司 | 带有压花图象接受表面的保密层压片结构 |
| AU2001279244A1 (en) | 2000-08-09 | 2002-02-18 | Motorola, Inc. | The use and evaluation of a (2+2) photocycloaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix |
| EP1330306A2 (en) * | 2000-10-10 | 2003-07-30 | BioTrove, Inc. | Apparatus for assay, synthesis and storage, and methods of manufacture, use, and manipulation thereof |
| AR031640A1 (es) | 2000-12-08 | 2003-09-24 | Applied Research Systems | Amplificacion isotermica de acidos nucleicos en un soporte solido |
| JP2002184719A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン形成方法 |
| US20060207877A1 (en) * | 2001-01-30 | 2006-09-21 | Walter Schmidt | Microfluidic device with various surface properties fabricated in multilayer body by plasma etching |
| DE10117663B4 (de) * | 2001-04-09 | 2004-09-02 | Samsung SDI Co., Ltd., Suwon | Verfahren zur Herstellung von Matrixanordnungen auf Basis verschiedenartiger organischer leitfähiger Materialien |
| DE60202240T2 (de) * | 2001-05-21 | 2005-12-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Vorrichtung zur Durchführung biochemischer Analysen und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| EP1467945A2 (en) * | 2002-01-18 | 2004-10-20 | Avery Dennison Corporation | Covered microchamber structures |
| DE10392199T5 (de) * | 2002-01-18 | 2005-01-05 | Avery Dennison Corp., Pasadena | Folie mit Mikroarchitektur |
| US20040002090A1 (en) | 2002-03-05 | 2004-01-01 | Pascal Mayer | Methods for detecting genome-wide sequence variations associated with a phenotype |
| US20040258885A1 (en) * | 2002-09-05 | 2004-12-23 | Kreutter Nathan P. | Etched dielectric film in microfluidic devices |
| WO2004086471A1 (en) | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Uv nanoimprint lithography process using elementwise embossed stamp and selectively additive pressurization |
| JP4007269B2 (ja) | 2003-07-29 | 2007-11-14 | オムロン株式会社 | 生体分子の形状転写方法、チップ基板の製造方法及びバイオチップの製造方法 |
| ES2383689T3 (es) | 2003-09-23 | 2012-06-25 | University Of North Carolina At Chapel Hill | Perfluoropoliéteres fotocurables para su uso como materiales novedosos en dispositivos microfluídicos |
| US20050121782A1 (en) | 2003-12-05 | 2005-06-09 | Koichiro Nakamura | Selectively adherent substrate and method for producing the same |
| JP2005208044A (ja) | 2003-12-25 | 2005-08-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 生体関連物質選択付着性基板 |
| US20110059865A1 (en) | 2004-01-07 | 2011-03-10 | Mark Edward Brennan Smith | Modified Molecular Arrays |
| US7597814B2 (en) * | 2004-03-23 | 2009-10-06 | Hewlett Packard Development Company, L.P. | Structure formed with template having nanoscale features |
| US20060021533A1 (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-02 | Jeans Albert H | Imprint stamp |
| US7459197B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-12-02 | Lucent Technologies Inc. | Reversibly adaptive rough micro- and nano-structures |
| EP1839059A1 (en) * | 2004-12-20 | 2007-10-03 | Kalinex | Use of sequence specific polymers in chemical detection |
| EP1700680A1 (en) | 2005-03-09 | 2006-09-13 | EPFL Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne | Easy release fluoropolymer molds for micro- and nano-pattern replication |
| JP4534817B2 (ja) * | 2005-03-16 | 2010-09-01 | 住友ベークライト株式会社 | 蛋白質の検出方法及びペプチドの検出方法 |
| WO2006112709A2 (en) * | 2005-04-18 | 2006-10-26 | Dsm Ip Assets B.V. | Biochip and process for the production of a biochip |
| US7331655B2 (en) * | 2005-05-19 | 2008-02-19 | Xerox Corporation | Fluid coupler and a device arranged with the same |
| CN101283042A (zh) * | 2005-08-09 | 2008-10-08 | 查珀尔希尔北卡罗来纳大学 | 制造微流体器件的方法和材料 |
| US7482280B2 (en) * | 2005-08-15 | 2009-01-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for forming a lithography pattern |
| US8011916B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-09-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Mold, imprint apparatus, and process for producing structure |
| US8084116B2 (en) * | 2005-09-30 | 2011-12-27 | Alcatel Lucent | Surfaces physically transformable by environmental changes |
| GB0522310D0 (en) | 2005-11-01 | 2005-12-07 | Solexa Ltd | Methods of preparing libraries of template polynucleotides |
| US8277928B2 (en) * | 2005-11-08 | 2012-10-02 | Surmodics, Inc. | Ultra-thin photo-polymer coatings and uses thereof |
| CA2631248C (en) * | 2005-11-28 | 2016-01-12 | Pacific Biosciences Of California, Inc. | Uniform surfaces for hybrid material substrates and methods for making and using same |
| WO2007081876A2 (en) * | 2006-01-04 | 2007-07-19 | Liquidia Technologies, Inc. | Nanostructured surfaces for biomedical/biomaterial applications and processes thereof |
| DE102006029032A1 (de) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Poly-An Gesellschaft zur Herstellung von Polymeren für spezielle Anwendungen und Analytik mbH | Vorrichtung, Verfahren und Kit zum Nachweis von Analyten in einer Probe |
| EP2021503A1 (en) | 2006-03-17 | 2009-02-11 | Solexa Ltd. | Isothermal methods for creating clonal single molecule arrays |
| CA2648149A1 (en) | 2006-03-31 | 2007-11-01 | Solexa, Inc. | Systems and devices for sequence by synthesis analysis |
| US8764996B2 (en) * | 2006-10-18 | 2014-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Methods of patterning a material on polymeric substrates |
| US8128393B2 (en) * | 2006-12-04 | 2012-03-06 | Liquidia Technologies, Inc. | Methods and materials for fabricating laminate nanomolds and nanoparticles therefrom |
| WO2008127455A2 (en) * | 2006-12-05 | 2008-10-23 | Liquidia Technologies, Inc. | Nanoarrays and methods and materials for fabricating same |
| US20080233280A1 (en) * | 2007-03-22 | 2008-09-25 | Graciela Beatriz Blanchet | Method to form a pattern of functional material on a substrate by treating a surface of a stamp |
| US8597630B2 (en) * | 2007-04-19 | 2013-12-03 | University Of Massachusetts | Thermal-responsive polymer networks, compositions, and methods and applications related thereto |
| US20100111770A1 (en) * | 2007-06-07 | 2010-05-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Microfluidic Chip and Method of Fabricating The Same |
| WO2009020550A2 (en) * | 2007-08-03 | 2009-02-12 | University Of Massachusetts Medical School | Composites for biomedical applications |
| WO2009033056A1 (en) * | 2007-09-06 | 2009-03-12 | Bioscale, Inc. | Reusable detection surfaces and methods of using same |
| US20090243584A1 (en) * | 2008-03-25 | 2009-10-01 | Guigen Zhang | Fabrication of microstructures integrated with nanopillars along with their applications as electrodes in sensors |
| US8334217B2 (en) * | 2008-06-09 | 2012-12-18 | Rolith Inc. | Material deposition over template |
| TWI376568B (en) * | 2008-06-12 | 2012-11-11 | Univ Nat Cheng Kung | Method for manufacturing roller mold |
| US20100053623A1 (en) * | 2008-08-27 | 2010-03-04 | Sunghoon Kwon | Membrane and fabrication method thereof |
| US9315663B2 (en) * | 2008-09-26 | 2016-04-19 | Mikro Systems, Inc. | Systems, devices, and/or methods for manufacturing castings |
| EP2391725A4 (en) * | 2009-01-30 | 2013-01-02 | Us Health | METHOD AND SYSTEMS FOR CLEANING TRANSMITTING AND / OR MANIPULATING NUCLEIC ACIDS |
| CN102316823B (zh) * | 2009-02-11 | 2016-06-08 | 新加坡南洋理工大学 | 多层外科用假体 |
| FR2943344B1 (fr) * | 2009-03-18 | 2011-04-15 | Commissariat Energie Atomique | Nouveaux composes silanes porteurs d'une chaine carbonee cyclique comprenant une fonction alcyne pour fonctionnaliser des supports solides et immobiliser sur ces supports des molecules biologiques |
| US8163834B2 (en) * | 2009-03-18 | 2012-04-24 | Dublin City University | Photoresponsive ionogel |
| JP5518538B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2014-06-11 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 |
| WO2010117102A1 (ko) * | 2009-04-09 | 2010-10-14 | 서강대학교 산학협력단 | 콜로이드 입자들을 단결정들로 정렬하는 방법 |
| EP2284252A1 (en) * | 2009-08-13 | 2011-02-16 | Sony DADC Austria AG | Surface-structured device for life-science applications |
| US9465296B2 (en) | 2010-01-12 | 2016-10-11 | Rolith, Inc. | Nanopatterning method and apparatus |
| US20130003070A1 (en) * | 2010-03-31 | 2013-01-03 | Kaneka Corporation | Structure, chip for localized surface plasmon resonance sensor, localized surface plasmon resonance sensor, and fabricating methods therefor |
| JP5868958B2 (ja) * | 2010-05-05 | 2016-02-24 | エシコン・エルエルシーEthicon, LLC | 自己保持縫合材用の表面組織構成及びそれを形成するための方法 |
| JP5464058B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2014-04-09 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法 |
| JP5616309B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2014-10-29 | アークレイ株式会社 | デバイス及びその製造方法 |
| WO2012077324A1 (ja) | 2010-12-07 | 2012-06-14 | パナソニック株式会社 | バイオチップおよびこれを用いたアレイ基板 |
| CN102169086B (zh) * | 2010-12-31 | 2013-01-09 | 清华大学 | 用于单分子检测的分子载体 |
| US8951781B2 (en) | 2011-01-10 | 2015-02-10 | Illumina, Inc. | Systems, methods, and apparatuses to image a sample for biological or chemical analysis |
| CN103459583B (zh) * | 2011-03-08 | 2015-11-25 | 公立大学法人大阪府立大学 | 传感器、传感器的制造方法及聚合物层 |
| EP2718465B1 (en) * | 2011-06-09 | 2022-04-13 | Illumina, Inc. | Method of making an analyte array |
| CN103649187A (zh) * | 2011-07-18 | 2014-03-19 | 赛尔格有限责任公司 | 表面改性聚合材料、改性官能化聚合物、功能聚合物和方法 |
| KR101344340B1 (ko) * | 2011-08-12 | 2013-12-24 | 포항공과대학교 산학협력단 | 멤브레인과 그 제조 방법 |
| CA2856163C (en) * | 2011-10-28 | 2019-05-07 | Illumina, Inc. | Microarray fabrication system and method |
| CA2758622A1 (en) * | 2011-11-17 | 2013-05-17 | Allan R. MANNINEN | Coextruded laser weld enabled polymer film or filament and fabrics made therefrom |
| US9266260B2 (en) * | 2011-12-20 | 2016-02-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Precision continuous stamp casting method for roll-based soft lithography |
| DE102012103174B3 (de) * | 2012-04-12 | 2013-09-19 | Technische Universität Ilmenau | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Formkörpers |
| US9012022B2 (en) * | 2012-06-08 | 2015-04-21 | Illumina, Inc. | Polymer coatings |
| US8895249B2 (en) * | 2012-06-15 | 2014-11-25 | Illumina, Inc. | Kinetic exclusion amplification of nucleic acid libraries |
| JP6386700B2 (ja) * | 2012-07-04 | 2018-09-05 | キヤノン株式会社 | 構造体、光学部材、反射防止膜、撥水性膜、質量分析用基板、位相板、構造体の製造方法、及び反射防止膜の製造方法 |
| US9512422B2 (en) * | 2013-02-26 | 2016-12-06 | Illumina, Inc. | Gel patterned surfaces |
| AU2014284584B2 (en) | 2013-07-01 | 2019-08-01 | Illumina, Inc. | Catalyst-free surface functionalization and polymer grafting |
| US10006085B2 (en) * | 2013-11-04 | 2018-06-26 | The Regents Of The University Of California | Nanostructured arrays on flexible polymer films |
| US10682829B2 (en) * | 2013-12-19 | 2020-06-16 | Illumina, Inc. | Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof |
| CN107090023B (zh) | 2017-03-23 | 2020-06-05 | 桂林八加一药业股份有限公司 | 一种选择性tnfr1拮抗肽sn10及其在类风湿性关节炎中的应用 |
-
2014
- 2014-12-17 US US15/025,866 patent/US10682829B2/en active Active
- 2014-12-17 AU AU2014364898A patent/AU2014364898B2/en active Active
- 2014-12-17 JP JP2016532111A patent/JP6683608B2/ja active Active
- 2014-12-17 CN CN202110878609.9A patent/CN114089597A/zh active Pending
- 2014-12-17 CA CA3171807A patent/CA3171807A1/en active Pending
- 2014-12-17 EP EP14824694.5A patent/EP3084523B1/en active Active
- 2014-12-17 EP EP19183860.6A patent/EP3572875A1/en active Pending
- 2014-12-17 WO PCT/US2014/070777 patent/WO2015095291A1/en active Application Filing
- 2014-12-17 CA CA2928598A patent/CA2928598C/en active Active
- 2014-12-17 CN CN201480064276.4A patent/CN105874385B/zh active Active
-
2020
- 2020-03-26 JP JP2020055517A patent/JP7096853B2/ja active Active
- 2020-05-21 US US16/880,809 patent/US11110683B2/en active Active
-
2021
- 2021-08-23 US US17/409,649 patent/US20210379858A1/en active Pending
-
2022
- 2022-06-24 JP JP2022101879A patent/JP7407240B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2017504183A5 (ja) | ||
| JP7407240B2 (ja) | ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法 | |
| US9744715B2 (en) | Method for producing patterned materials | |
| EP2936549A1 (en) | Methods of using nanostructured transfer tape and articles made therefrom | |
| EP2934896A1 (en) | Patterned structured transfer tape | |
| US20130327392A1 (en) | Chemically Linked Colloidal Crystals and Methods Related Thereto | |
| TW201027251A (en) | Methods and processes for modifying polymer material surface interactions | |
| Park et al. | Fabrication and applications of stimuli‐responsive micro/nanopillar arrays | |
| US20110076448A1 (en) | Methods for Patterning Substrates Using Heterogeneous Stamps and Stencils and Methods of Making the Stamps and Stencils | |
| KR20190099279A (ko) | 임프린팅 장치 | |
| CN109600996B (zh) | 基于聚有机硅氧烷的印模、其制造方法、其用于印刷工艺的用途以及利用其的压印方法 | |
| JP7063682B2 (ja) | 流体デバイス用複合部材およびその製造方法 | |
| KR20240017849A (ko) | 플로우 셀 및 이의 제조 방법 | |
| JP6526706B2 (ja) | 改質されたエラストマー表面 | |
| WO2013059762A1 (en) | Universal nonopatternable interfacial bonding | |
| US11975478B2 (en) | Flow cells | |
| KR102264385B1 (ko) | 입자 정렬을 이용한 코팅 방법 | |
| KR101507757B1 (ko) | 미세패턴된 친수성 고분자 기판 상에 선택적으로 소수성 코팅층을 형성하는 방법 및 이에 의해 형성된 소수성 코팅층을 가지는 미세패턴된 친수성 고분자 기판 | |
| Lee et al. | Multilayer transfer printing on microreservoir-patterned substrate employing hydrophilic composite mold for selective immobilization of biomolecules | |
| US20220195129A1 (en) | Method for producing microparticles | |
| TWI571381B (zh) | 保護貼片及其製造方法 | |
| KR101372285B1 (ko) | 폴리에틸렌 글라이콜을 이용한 나노구조물의 표면 개질 및 이를 이용한 나노플루이딕 장치의 제작 | |
| Taylor | Surface Chemical and Morphological Modifications to Silicone Elastomers for the Rational Control of Nucleation, Adhesion, and Thin Film Formation | |
| TW202335738A (zh) | 流體槽及其製造方法 | |
| Goswami | Chip electrochromatographic systems: Novel vertically aligned carbon nanotube and silica monoliths based separations |