JP4007269B2 - 生体分子の形状転写方法、チップ基板の製造方法及びバイオチップの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、生体分子の形状転写方法、チップ基板の製造方法及びバイオチップの製造方法に関する。さらには、これらの方法により製作された、型、チップ基板、バイオチップ、その他の光学部品等に関する。
【0002】
【背景技術】
基板上にDNAやタンパク質などの生体分子を二次元配列させたバイオチップは、医療分野や環境分野の研究などに用いられる。特に、チップ基板上にタンパク質分子(プロテイン)を二次元配列させたプロテインチップは、診断、医薬品開発、個人判別、生体システムの解析等の用途で開発が進められている。
【0003】
プロテインチップのチップ基板上には種々のプローブ(プロテイン)が並べられ、固定化される。これらのプローブに血液などの試料を接触させると、プローブの構造によって決まる、試料中の特異なターゲット(プロテイン)だけがプローブに結合する。従って、ターゲットとの結合によるプローブの特性変化を、光や電気などの信号に変換して読み取れば、ターゲットであるプロテインの種類を同定したり、プロテインの発現や相互作用を解明したりすることができる。例えば、プローブとして抗体を用いれば、試料中の特定の抗原(例えば、炭素菌、天然痘等の特定ウイルスの抗原)だけがその抗体と反応してプロテインチップに吸着されるので、試料中の特定抗原の有無を検出することができる。また、抗体に吸着された抗原の量又は試料中の抗原の減少量を計測することができる。
【0004】
しかし、実際には、チップ基板上にプローブを整列させることが困難であるという問題点がある。図1に示すように、ターゲット4をプローブ1に吸着させるためには、結合部位2を上に向けてプローブ1を配列させる必要があるが、正しい方向を向いてチップ基板3上に配列されるプローブ1は、チップ基板3上に固定されたプローブ1のうち、実験室レベルでほぼ10%程度に過ぎない。
【0005】
さらに、ランダムな方向を向いたプローブ1の隙間に非特異的なプロテイン5が捕捉されたり、一旦チップ基板3上に固定されたプローブ1が経時的変化や外的要因によってチップ基板3からとれてしまったりすることがある。このため、チップ基板3上に固定される有効なプローブ1の量が少なかった。
よって、プロテインチップには、プローブを正しい方向を向けてチップ基板上に並ばせる「整列化」、必要なプローブだけを選択的に並ばせる「特異性」が必要とされる。
【0006】
【特許文献】
特開2001−181275
【0007】
【発明の開示】
本発明は、上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、生体分子の固定化に優れたチップ基板およびその製造方法、ならびに当該チップ基板を用いたバイオチップなどを提供することにある。
【0008】
本発明にかかる生体分子の形状転写方法は、基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離する第4の工程とからなることを特徴としている。
【0009】
本発明の生体分子の形状転写方法に従って第1〜第4の工程を実施すれば、ナノスケールの生体分子の形状を、薄膜層と支持層とからなる型に転写することができる。
【0010】
本発明の生体分子の形状転写方法のある実施態様においては、前記第1の工程において、前記生体分子を配列させる前に、前記基板上の、前記生体分子を配列させる領域以外の領域に親水処理、疎水処理又は帯電処理を施している。プロテイン等の生体分子は親水性、疎水性、帯電性などの性質を有しているので、所定の領域に基板に親水処理、疎水処理、帯電処理などを施しておくことにより、所望の領域に生体分子を配列させることができ、生体分子の整列化が容易になる。
【0011】
本発明の生体分子の形状転写方法の他の実施態様においては、前記第1の工程において、前記基板上に抗原を2次元配列させ、前記抗原に前記生体分子を結合させることによって前記基板上に前記生体分子を二次元配列させている。抗原は、比較的容易に二次元配列させることができるので、予め基板上に抗原を二次元配列させ、配列した抗原に生体分子を結合させることにより、生体分子を二次元配列させることができる。しかも、生体分子の向きを一定方向に揃えることができる。
【0012】
本発明の生体分子の形状転写方法のさらに他の実施態様においては、前記第2の工程において前記薄膜層の上面を平坦に形成している。薄膜層の上面を平坦に形成しておけば、その上に支持層を形成する際に、薄膜層と支持層の間に隙間が生じにくく、薄膜層及び支持層からなる型の強度が向上し、複製の精度が安定する。
【0013】
本発明の生体分子の形状転写方法のさらに他の実施態様においては、前記第2の工程において前記薄膜層は無機物質をスパッタリング又は蒸着することにより形成され、前記第3の工程において前記支持層は前記薄膜層と同じ無機物質を電鋳することにより形成されている。スパッタリング又は蒸着により薄膜層を形成することで、生体分子形状を精密に象ることができる。一方、薄膜層を十分な強度が得られる厚みまで形成するには成膜プロセス時間が非常に長くなる。そこで、薄膜層をスパッタリングや蒸着によって形成し、その上に支持層を電鋳によって形成することによってトータルの成膜プロセス時間を短くすると共に型の強度を高くすることができる。また、薄膜層と支持層とを同じ無機物質で形成することにより、薄膜層と支持層との間の剥離を防ぐことができる。
【0014】
本発明の生体分子の形状転写方法のさらに他の実施態様においては、前記支持層を電鋳法により形成する際、電鋳に用いる電解液のpHを生体分子のpHにほぼ等しくしている。これにより、電解液による生体分子の変性を防止することができる。
【0015】
本発明の生体分子の形状転写方法のさらに他の実施態様においては、前記薄膜層を構成する無機物質の粒子径を50nm以下にしている。薄膜層を構成する無機物質の粒子径を小さくすることにより、特にその粒子径を50nm以下にすることにより、ナノスケールの生体分子形状を精密に複製することが可能になる。
【0016】
本発明の生体分子の形状転写方法のさらに他の実施態様においては、前記薄膜層の膜厚を200nm以下にしている。但し、薄膜層の膜厚は生体分子の高さよりも大きくする。薄膜層の膜厚が200nm以下であれば、成膜プロセス時間が短くて済む。
【0017】
本発明にかかるチップ基板の製造方法は、基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離して、生体分子形状の凹部を有する型を得る第4の工程と、前記型を用いて前記生体分子形状の複製を有するスタンパを作製する第5の工程と、前記スタンパを用いて生体分子形状の凹部を有する型を複製する第6の工程とからなることを特徴としている。
【0018】
本発明のチップ基板の製造方法に従って第1〜第6の工程を実施すれば、生体分子形状を精密に転写したチップ基板を量産することができる。
【0019】
本発明のチップ基板の製造方法の実施態様においては、前記第1の工程において、生体分子の自己組織化を利用して前記基板上に前記生体分子を二次元配列させている。生体分子の自己組織化を利用して生体分子を基板上に整列させるようにすれば、簡便なプロセスでナノスケールの生体分子を容易に二次元配列させることができ、生体分子の整列化が容易に行える。
【0020】
本発明にかかる第1のバイオチップの製造方法は、基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、前記基板を剥離する第4の工程と、からなることを特徴としている。
【0021】
本発明にかかる第1のバイオチップの製造方法に従って、第1〜4の工程を実施すれば、生体分子が所望の向きに整列して固定されたバイオチップを得ることができる。
【0022】
本発明にかかる第2のバイオチップの製造方法は、基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離して、生体分子形状の凹部を有する型を得る第4の工程と、前記型を用いて前記生体分子形状の複製を有するスタンパを作製する第5の工程と、前記スタンパを用いて生体分子形状の凹部を有する型を複製する第6の工程と、複製された前記型の凹部に所定の生体分子を固定させる第7の工程とからなることを特徴としている。
【0023】
本発明にかかる第2のバイオチップの製造方法に従って第1〜第7の工程を実施すれば、生体分子が所望の向きに整列して固定されたバイオチップを量産することができる。
【0024】
なお、この発明の以上説明した構成要素は、可能な限り任意に組み合わせることができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を、プロテインチップや量子デバイスを複製する場合を例として詳細に説明する。
【0026】
(第1の実施形態)
本発明の第1のプロテインチップの製造工程は、主として(1)原盤プロテインチップの製造工程、(2)複製によるマザースタンパの製造工程、(3)スタンパの製造工程、(4)チップ基板の製造工程、(5)複製プロテインチップの製造工程からなる。
【0027】
(原盤プロテインチップの製造)
図2(a)(b)(c)は原盤プロテインチップ15の製造工程を示す概略図である。まず、図2(a)に示すように、洗浄して乾燥させた、ゴミなどの付着していない清浄な石英ガラス基板等の基板11を準備する。ついで、プローブとなる特定のプロテインと結合する抗原12を選択し、図2(b)に示すように、基板11の表面に抗原12を1層だけ付着させて整列させる。例えば、基板11の表面を処理しておき、抗原12を溶解させた溶液に基板11を浸漬させると、基板11の表面に抗原12が付着して1層だけ整列する。ただし、抗原12は、プロテインチップの用途によっては、必ずしも基板11の表面に整列しなければならないものではない。
【0028】
この後、特異的なプロテインであるプローブ13を溶解させた溶液にこの基板11を浸漬すると、溶液中の特定のプローブ13の結合部位14が抗原12と結合し、図2(c)に示すように、基板11の表面には結合部位14を下にした状態で特定のプローブ13が整列し、原盤プロテインチップ15が得られる。従って、このように予め基板11の表面に抗原12を整列させて付着させておくことにより、特定のプローブ13を整列させた状態で、向きを揃えて基板11の表面に固定することが可能になる。また、抗原12の種類を選択することにより、それに特異的に結合するプローブ13の種類を選択することが可能になる。
【0029】
図2の原盤プロテインチップ15の場合には基板11の全面にプローブ13を付着させたが、基板11の一部領域にだけ選択的にプローブ13を固定したい場合がある。例えば、基板11の表面を複数の領域に区分し、各領域に異なるプロテイン(例えば、炭素菌が排出する特有のタンパク質又は抗原を捕捉するプローブ、天然痘ウイルスが排出する特有のタンパク質又は抗原を捕捉するプローブなど)を固定しておいて複数の抗原を一度に検出したい場合などである。
【0030】
図3(a)(b)(c)は基板1の一部に選択的にプローブ1を固定したい場合の工程を示している。まず、図3(a)に示すように、ゴミなどの付着していない清浄な石英ガラス基板等の基板11を準備する。ついで、図3(b)に示すように、基板11の表面のうち、プローブ1を固定しようとする領域以外の領域dに部分的に親水処理、疎水処理、帯電処理などの前処理を行う。前処理する領域dはパターニングしておいてもよい。前処理を行う方法としては、インクジェット式プリンタによる薬剤塗布、フォトリソグラフィによる被膜形成、レーザー照射や電子ビーム照射等による帯電処理などの方法がある。プローブ13は、帯電、親水性、疎水性などの性質があるので、固定させようとするプローブ13の特性に応じていずれかの前処理を行えば、前処理を行った領域にプローブ13が付着しないようにすることができる。前処理の種類は固定しようとするプロテインの種類によって選択する。例えば、プローブ13が親水性であれば疎水性の処理を行い、プローブ13がプラスに帯電していれば、前処理によりプラスに帯電させる。
【0031】
こうして前処理した基板11の前処理されていない領域には、前記のように抗原12を付着させて1層に整列させておく。
【0032】
この後、プローブ13を溶解させた溶液にこの基板11を浸漬すると、溶液中の特定のプローブ13の結合基14が抗原12に吸着され、基板11に固定される。前処理された領域dには、プローブ13が付着しないので、図3(c)に示すように、プローブ13は前処理されていない領域にのみ部分的に付着してパターン化される。
なお、基板の前処理は、前処理を行った領域にプローブ13が付着するように施すこともできる。
【0033】
図4(a)(b)は、基板11の一部に選択的にプローブ1を固定する別な方法を示している。この方法では、図4(a)に示すように(例えば、図2と同様な方法により)基板11の全面にプローブ13を固定させた後、図4(b)に示すように、後処理で不要なプローブ13を除去している。例えば、イオンビームを基板11に照射してFIB(Focused Ion Beam)法によって不要なプローブ13を物理的に除去する方法、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope)によって不要なプローブ13を物理的に除去する方法などがある。あるいは、不要なプローブ13は、基板11から除去しなくても、レーザー等の電磁波を照射して失活させるだけでもよい。
【0034】
(複製によるマザースタンパの製造)
図5(a)(b)(c)(d)はマザースタンパ18の製造工程を説明する図である。上記のようにして原盤プロテインチップ15が作製されたら、これを原盤としてマザースタンパ18を作製する。図5(a)は、上記のようにして製造された原盤プロテインチップ15を示す。この工程においては、図5(b)に示すように、無機物質を、スパッタリング又は真空蒸着によりプローブ13を覆うように基板11の上に堆積させて、表面がフラットな薄膜層16を形成し、ついで、図5(c)に示すように、薄膜層16の上に電鋳法によって無機物質からなる支持層17を形成する。
【0035】
ここで、スパッタリング又は真空蒸着により形成する薄膜層16の材料と電鋳法により形成する支持層17の材料とは、同じ材料を用いると良い。同じ材料を用いることにより、薄膜層16と支持層17との界面における剥離を防止することができる。薄膜層16及び支持層17の材料としては、例えばNi、Cu、Au、Ti、Ag、Zn等の金属材料を用いることができるが、特にNiが好ましい。Niを用いれば、電鋳法によって支持層17を形成する際に内部応力を小さくでき、また硬度が高いのでマザースタンパ18として最適であり、しかも、成膜時の均一性も良好であるためである。また、電鋳法により支持層17を析出させる際の電解液は、プローブ13であるプロテインのpHと同じpHのものを用いるようにすると良い。同じpHのものを用いることにより、支持層17を成形する際に原盤プロテインチップ15に固定されているプローブ13が変性するのを防ぐことができ、プローブ13の形状を精密に複製することができる。
【0036】
また、スパッタリングや真空蒸着による堆積粒子の粒子径を、50nm以下にすることで、隙間無くプローブ13の構造の形をとることができ、転写精度を高くすることができる。支持層17を構成する粒子の粒子径を50nm以下にするためには、スパッタ条件や蒸着の条件を調整する。また、スパッタリング時又は真空蒸着時の基板温度を低温(40℃以下)に抑制すると共に、堆積速度を遅くすることによってエネルギーを抑えることで、プローブ13が失活するのを防ぐことができる。
【0037】
薄膜層16は、プローブ13の高さ(ほぼ数百nm以下)よりも厚くなるように、また表面がフラットになるように形成することが望ましい。薄膜層16の表面をフラットに形成することにより、その上に支持層17を形成する際に、薄膜層16と支持層17の間に隙間が生じることがない。また、薄膜層16及び支持層17の2層からなるマザースタンパ18の強度を向上させることができる。
【0038】
一方、薄膜層16の厚みを200nm以上にすると、スパッタリング又は真空蒸着による薄膜層16の成膜工程の所要時間が長くなるので、薄膜層16の厚みは200nm以下にすると共に、その上にスパッタリングや真空蒸着よりも成膜速度の大きな電鋳法によって支持層17を形成することで、全体としてのプロセス時間を短縮して製造効率を高めつつ、マザースタンパ18の強度を高めることができる。
【0039】
こうして原盤プロテインチップ15の上に薄膜層16と支持層17からなるマザースタンパ18を形成した後、図5(d)に示すように、薄膜層16及び支持層17を一体化させたままで原盤プロテインチップ15から剥離させると、マザースタンパ18が得られる。マザースタンパ18には、プローブ13の形が転写された多数のキャビティ19が形成されている。キャビティ19内に残っているプローブ13は、例えば酸素プラズマを照射してプローブ13を燃焼させることによって完全に除去する。
【0040】
なお、マザースタンパ18は3層以上にしても差し支えないが、プロセスが複雑になると共にマザースタンパ18を作製するためのプロセス時間が長くなるので、上記のように2層としておくのが好ましい。
【0041】
(スタンパの製造)
図6(a)(b)はスタンパ20の製造工程を示す概略図である。マザースタンパ18が作製されると、マザースタンパ18を元にしてマザースタンパ18の逆型であるスタンパ20を製造する。スタンパ20の製造工程においては、図6(a)に示すように、マザースタンパ18を凹型として電鋳法などによりスタンパ20を製作する。図6(b)に示すように、スタンパ20をマザースタンパ18から剥離させると、スタンパ20には、マザースタンパ18のキャビティ19によってプローブ13の複製21が多数形成される。
【0042】
このようにマザースタンパ18を用いて、その逆型であるスタンパ20を作製することにより、原盤プロテインチップ15と同じ型を得ることができ、複製プロテインチップの製造に利用できる。また、マザースタンパ18を用いてスタンパ20を多数製作することにより、1枚の原盤プロテインチップ15から多数のスタンパ20を製作してストックしておくことができ、複製プロテインチップの量産に適し、品質も安定させることができる。
【0043】
(チップ基板の製造)
図7(a)(b)(c)(d)はチップ基板26の製造工程を示す概略図である。スタンパ20が作製されたら、このスタンパ20を用いて複製プロテインチップ用のチップ基板26を作製する。チップ基板26の製造工程においては、まず図7(a)に示すように、スタンパ20の複製21を下にして複製21の先端を固定化分子22(修飾分子とも言う。)の層に接触させ、各複製21の先端に局所的に固定化分子22を付着させても良い。固定化分子22とは、プローブ13の結合部位と反対側の部位と特異的に結合する分子であって、NTA誘導体、ビオチン、アビジンなどが挙げられる。
【0044】
ついで、図7(b)に示すように、未硬化の紫外線硬化型樹脂24を塗布されたガラス基板23に、先端に固定化分子22を保持した複製21を押し付け、紫外線硬化型樹脂24に複製21の形状を転写させる。この後、図7(c)に示すように、ガラス基板23を通して紫外線硬化型樹脂24に紫外線(UV)を照射して紫外線硬化型樹脂24を硬化させ、ガラス基板23の上に紫外線硬化型樹脂24からなる表面層25を形成する。ついで、スタンパ20を剥離させると、図7(d)に示すように、ガラス基板23の上に表面層25が形成されたチップ基板26が得られる。チップ基板26の表面層25には、複製21の反転形状、すなわちプローブ13の反転形状を有する多数のトラップ27が凹設されており、各トラップ27の底には固定化分子22が残されている。なお、固定化分子22は、必ずしも用いなくて良い。
【0045】
(複製プロテインチップの作製)
図8(a)(b)は複製プロテインチップ30を作製する工程を示す概略図である。上記のようにしてチップ基板26を作製した後、図8(a)に示すように、チップ基板26表面のトラップ27以外の領域rに親水処理、疎水処理、帯電処理などの前処理を行う。前処理を行う方法としては、インクジェット式プリンタによる薬剤塗布、フォトリソグラフィによる被膜形成、レーザー照射や電子ビーム照射等による帯電処理などの方法がある。プローブ13は帯電、親水性、疎水性などの性質があるので、固定させようとするプローブ13の特性に応じていずれかの前処理を行えば、トラップ27以外にプローブ13が固定されないようにすることができる。なお、図8(a)の工程は、省略しても良い。
【0046】
ついで、プローブ13を溶解させた溶液にこのチップ基板26を浸漬すると、図8(b)に示すように、トラップ27と形状の一致する特定のプローブ13(特異性のプロテイン)だけが選択的にトラップ27内に捕捉され、固定化分子22によってチップ基板26に固定される。例えば、プローブ13の結合部位と反対側の端にHis-Tagを付けておき、トラップ27の底に固定化分子22としてNTA誘導体を付着させていると、図9に示すように、His-Tag28とNTA誘導体29のNi2+とが結合し、プローブ13をトラップ27内に固定させることができる。ここで述べたHis-Tag28は、遺伝子操作技術を用いてプローブ13に付けることができ、その付ける場所も任意性が高く、簡便で、プローブ13の失活を抑えることもできる。また、トラップ27以外の領域には、前処理を施しているので、トラップ27以外の箇所にプローブ13が固定されるのを防ぐことができる。このようにして、図8(b)のような複製プロテインチップ30が製作される。
【0047】
図10は上記のようにして製作された複製プロテインチップ30の拡大断面図である。この複製プロテインチップ30にあっては、ガラス基板23の上に樹脂製の表面層25を形成してチップ基板26が構成されており、表面層25には多数の整列したトラップ27が凹設されている。各トラップ27の底には固定化分子22が存在しており、各トラップ27には形状の合致した特異性のプローブ13がはまり込み、固定化分子22によってトラップ27内に固定されている。複製プロテインチップ30の表面に捉えられている各プローブ13は、いずれも結合部位14が上面を向いているので、プローブ13の結合部位14によって所定のターゲット32を効率よく吸着させることができる。なお、領域rに施されていた前処理は残っていてもよく、除去されていてもよい。
【0048】
(第2の実施形態)
本発明の第2のプロテインチップの製造工程は、主として(1)原盤プロテインチップの製造工程、(2)薄膜層および支持層からなるプロテインチップ基板の形成工程からなる。
【0049】
まず、第1の実施形態と同様の工程に従って原盤プロテインチップ15を作製する。さらに、第1の実施形態と同様の工程に従って、薄膜層16および支持層17を形成する。その後、プローブ13を薄膜層16及び支持層17の側に残すようにして基板11のみを剥離すると、薄膜層16および支持層17からなるプロテインチップ基板にプローブ13が固定されたプロテインチップが得られる。プローブ13に抗原12が付着している場合には、この抗原12は除去する。
【0050】
第2の実施形態では、第1の実施形態と比較して量産性には優れないが、プロテインが所望の向きに整列して固定されたプロテインチップを得ることができる。
【0051】
(第3の実施形態)
第1の実施形態において、複製プロテインチップの作製途中で作製されるマザースタンパ18は、量子ドットやフォトニック結晶等の量子デバイスとしても用いることができる。量子デバイスとして用いる場合には、マザースタンパ18を作製するために、抗原12を用いることなく、生体分子(プロテイン)の自己組織化を利用して、プローブをチップ基板上に二次元配列させるようにしてもよい。二次元配列するプロテインとしては、フェリチン、カタラーゼ、シャベロニン、SRCa2+ATP分解酵素、チューブリン、ストレプトアビジン、ロドプシンなどがある。その他、必ずしもプロテインを用いる必要はない。
【0052】
例えば、図11(a)に示すように、基板11の表面に原子、分子、結晶などのナノスケールの構造体31を配列した後、この構造体31の上からスパッタリングや真空蒸着によって無機物質を堆積させて薄膜層16を形成する。ついで、図11(b)に示すように、この薄膜層16の上に電鋳法により同じ無機物質により支持層17を形成する。ここで、薄膜層16を構成する無機物質の粒子径を、例えば50nm以下とすると、ナノスケールの構造体31の形状を緻密に転写することができる。ついで、構造体31と基板11を剥離させると、図11(c)に示すように、薄膜層16と支持層17からなるマザースタンパ18が得られ、マザースタンパ18の下面には構造体31の反転形状をしたキャビティ19が形成される。
【0053】
この後、図12(a)に示すように、マザースタンパ18を用いて樹脂や金属材料などを成形することにより、図12(b)に示すように、基板33の上にナノスケール構造体31の複製物32を形成することができる。このようにして形成された複製物32は、量子ドット、量子細線、量子井戸などに応用することができる。また、フォトニック結晶にも応用することができる。
【0054】
図14(a)(b)(c)は本発明に従った量子デバイスの製造方法を示す概略図である。図14(a)に示すナノスタンパ37は、第1の実施形態におけるマザースタンパ18と同様にして製作されたものであり、ナノスタンパ37の下面には生体分子を原型とするナノスケールの窪み38(キャビティ19)が形成されている。また、単一電子トランジスタ等の場合には、電子線リソグラフィなどで部分的に細線構造を得るための窪み39を形成しておく。図14(b)に示すように、基板40の上面に半導体層41を形成し、半導体層41の上に未硬化の樹脂42を塗布し、上からナノスタンパ37で押圧し、窪み38及び窪み39で樹脂42を成形する。ついで、樹脂42を硬化させた後、ナノスタンパ37を剥離すると、図14(b)に示すように、半導体層41の上に樹脂42によるドット状及び細線状のパターンが形成される。この樹脂42によるパターンをマスクとして半導体層41をイオンエッチングして半導体層41をパターニングした後、樹脂42を除去すると、半導体層41による量子ドット43と細線44が得られる。
【0055】
本発明に従って、量子デバイスを作製すれば、プロテイン等の生体分子の二次元配列を原型としてナノスケールの量子ドット等を形成しているので、量子ドット等のサイズの均一性が高い。また、プロテインの自己組織化を利用すれば、生体分子の整列化が容易である。さらに、スタンパ(複製)方式であるので、ナノスタンパ37を用いて繰り返し量子ドット等を作製でき、量子デバイスを量産することが可能になる。
【0056】
また、このようにして均一なサイズの量子ドットを作製することができるようになれば、上記のように量子ドットレーザーの実用化を進めることができる。また、単一電子トランジスタでは、量子ドットのサイズを均一にすることで、個々の単一電子トランジスタのゲート電圧やバイアス電圧などの電圧値を均一にすることが可能になる。
【0057】
(第4の実施形態)
図15は疾患診断用のプロテインチップを示す斜視図である。このプロテインチップ45には、拡大して模式的に示すように異なる種類のプローブ13a、13b、13cを固定した複数の領域46a、46b、46cが区分して設けられている。例えば、領域46aは炭素菌を検出するための領域であって、そこに固定されているプローブ13aは、炭素菌に由来するタンパク質や抗原等のターゲットに結合する特異性のプロテインとなっている。同様に、領域46bは天然痘ウイルスを検出するための領域であって、そこに固定されているプローブ13bは、天然痘ウイルスに由来するタンパク質や抗原等のターゲットに結合する特異性のプロテインとなっている。また、領域46cはインフルエンザウイルスを検出するための領域であって、そこに固定されているプローブ13cは、インフルエンザウイルスに由来するタンパク質や抗原等のターゲットに結合する特異性のプロテインとなっている。
【0058】
このプロテインチップ45に検査試料となる血液を滴下すると、そこに含まれるターゲット47(血液中のプロテイン)は、そのターゲット47と結合する特異性のプローブの結合部位に結合する。例えば、血液中に天然痘ウイルスに由来するターゲット47が含まれていたとすると、このターゲット47はプローブ13bに結合する。
【0059】
各プローブ13a、13b、13cは、ターゲットを吸着する前後で特性変化が現れるので、プロテインチップ45に血液を滴下した後、図16に示すように、プロテインチップ45に光を照射し、プローブ13a、13b、13cで反射した光を受光する。そして、この光を解析することによって、いずれのプローブ13a、13b、13cに光学的な変化が現れているのか、あるいは、その変化量はどの程度であるのかを検出する。例えば、プローブ13bに変化が現れているのであれば、天然痘ウイルスに由来するターゲットが血液中に含まれていると判断され、その血液を採取された人は天然痘に罹患している可能性があると判断される。
【0060】
【発明の効果】
本発明によれば、生体分子の固定化に優れたチップ基板、当該チップ基板を用いたバイオチップ、量子デバイスなどを量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のプロテインチップにおいて、チップ基板上にプローブが配列されている様子を説明する概略図である。
【図2】(a)(b)(c)は、本発明の第1実施形態にかかる原盤プロテインチップの製造工程を示す概略図である。
【図3】(a)(b)(c)は、原盤プロテインチップの製造工程において、基板の一部に選択的にプローブを固定する方法を示す概略図である。
【図4】(a)(b)は、原盤プロテインチップの製造工程において、基板の一部に選択的にプローブを固定する別な方法を示す概略図である。
【図5】(a)(b)(c)(d)は、本発明の第1実施形態にかかるマザースタンパの製造工程を説明する概略図である。
【図6】(a)(b)は、本発明の第1実施形態にかかるスタンパの製造工程を示す概略図である。
【図7】(a)(b)(c)(d)は、本発明の第1実施形態にかかるチップ基板の製造工程を示す概略図である。
【図8】(a)(b)は、本発明の第1実施形態にかかる複製プロテインチップの作製工程を示す概略図である。
【図9】固定化分子によってプローブの結合部位と反対側の端がチップ基板に固定されている様子を説明する模式図である。
【図10】本発明にかかる複製プロテインチップの拡大断面図である。
【図11】(a)(b)(c)は、本発明の別な実施形態において、原子、分子、結晶などのナノスケールの構造体からマザースタンパを作製する工程を示す概略図である。
【図12】(a)(b)は、同上のマザースタンパを用いて基板上にナノスケール構造体の複製物を製作する工程を示す概略図である。
【図13】基板上に形成された量子ドットを示す斜視図である。
【図14】(a)(b)(c)は、本発明にかかる量子デバイスの作製方法を説明する概略図である。
【図15】疾患診断用のプロテインチップを示す斜視図である。
【図16】ターゲットを吸着する前後におけるプローブの変化を検出する方法を説明する図である。
【符号の説明】
11 基板
12 抗原
13 プローブ
14 結合部位
15 原盤プロテインチップ
16 薄膜層
17 支持層
18 マザースタンパ
19 キャビティ
20 スタンパ
21 複製
22 固定化分子
23 ガラス基板
25 表面層
26 チップ基板
27 トラップ
30 複製プロテインチップ
31 構造体
32 ナノスケール構造体の複製物
33 基板
Claims (16)
- 基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、
前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、
前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、
前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離する第4の工程と、
からなることを特徴とする、生体分子の形状転写方法。 - 前記第1の工程において、前記生体分子を配列させる前に、前記基板上の、前記生体分子を配列させる領域以外の領域に親水処理、疎水処理又は帯電処理を施しておくことを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記第1の工程において、前記基板上に抗原を2次元配列させ、前記抗原に前記生体分子を結合させることによって前記基板上に前記生体分子を二次元配列させることを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記第2の工程において前記薄膜層の上面が平坦に形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記第2の工程において前記薄膜層は無機物質をスパッタリング又は蒸着することにより形成され、前記第3の工程において前記支持層は前記薄膜層と同じ無機物質を電鋳することにより形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記第3の工程において、電鋳に用いる電解液のpHを生体分子のpHにほぼ等しくすることを特徴とする、請求項5に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記薄膜層を構成する無機物質の粒子径が50nm以下であることを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 前記薄膜層の膜厚が200nm以下であることを特徴とする、請求項1に記載の生体分子の形状転写方法。
- 生体分子形状の凹部を有するチップ基板の製造方法であって、
基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、
前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、
前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、
前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離して、生体分子形状の凹部を有する型を得る第4の工程と、
前記型を用いて前記生体分子形状の複製を有するスタンパを作製する第5の工程と、
前記スタンパを用いて生体分子形状の凹部を有する型を複製する第6の工程と、
からなることを特徴とする、チップ基板の製造方法。 - 前記第1の工程において、生体分子の自己組織化を利用して前記基板上に前記生体分子を二次元配列させることを特徴とする、請求項9に記載のチップ基板の製造方法。
- 基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、
前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、
前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、
前記基板を剥離する第4の工程と、
からなることを特徴とする、バイオチップの製造方法。 - 基板上に生体分子を二次元配列させる第1の工程と、
前記生体分子上に無機物質からなる薄膜層を形成する第2の工程と、
前記薄膜層の上に支持層を形成する第3の工程と、
前記薄膜層及び前記支持層を前記生体分子から剥離して、生体分子形状の凹部を有する型を得る第4の工程と、
前記型を用いて前記生体分子形状の複製を有するスタンパを作製する第5の工程と、
前記スタンパを用いて生体分子形状の凹部を有する型を複製する第6の工程と、
複製された前記型の凹部に所定の生体分子を固定させる第7の工程と、
からなることを特徴とする、バイオチップの製造方法。 - 請求項1〜8に記載の生体分子の形状転写方法により製造された型。
- 請求項9又は10に記載のチップ基板の製造方法により製造されたチップ基板。
- 請求項9又は10に記載のチップ基板の製造方法により製造されたスタンパ。
- 請求項11又は12に記載のバイオチップの製造方法により製造されたバイオチップ。
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