JP2017210687A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017160459A JP6521003B2 (ja) | 2017-08-23 | 2017-08-23 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017160459A JP6521003B2 (ja) | 2017-08-23 | 2017-08-23 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013145781A Division JP6197423B2 (ja) | 2013-07-11 | 2013-07-11 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017210687A JP2017210687A (ja) | 2017-11-30 |
| JP2017210687A5 true JP2017210687A5 (enExample) | 2018-02-22 |
| JP6521003B2 JP6521003B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=60474610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017160459A Active JP6521003B2 (ja) | 2017-08-23 | 2017-08-23 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6521003B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019180836A1 (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | シャープ株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
| CN113388809B (zh) * | 2021-06-21 | 2022-07-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜版 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003332057A (ja) * | 2002-05-16 | 2003-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置 |
| US6897164B2 (en) * | 2002-02-14 | 2005-05-24 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
| JP2005042147A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク |
| JP5228586B2 (ja) * | 2008-04-09 | 2013-07-03 | 株式会社Ｓｕｍｃｏ | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
| JP5899585B2 (ja) * | 2011-11-04 | 2016-04-06 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスクの製造方法 |
| CN105296929B (zh) * | 2012-01-12 | 2018-06-08 | 大日本印刷株式会社 | 拼版蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
| JP6078747B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-02-15 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着マスクの製造方法及びレーザ加工装置 |
-
2017
- 2017-08-23 JP JP2017160459A patent/JP6521003B2/ja active Active
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