JP2016108578A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016108578A5
JP2016108578A5 JP2014244261A JP2014244261A JP2016108578A5 JP 2016108578 A5 JP2016108578 A5 JP 2016108578A5 JP 2014244261 A JP2014244261 A JP 2014244261A JP 2014244261 A JP2014244261 A JP 2014244261A JP 2016108578 A5 JP2016108578 A5 JP 2016108578A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
vapor deposition
alignment mark
deposition mask
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014244261A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6375906B2 (ja
JP2016108578A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2014244261A priority Critical patent/JP6375906B2/ja
Priority claimed from JP2014244261A external-priority patent/JP6375906B2/ja
Publication of JP2016108578A publication Critical patent/JP2016108578A/ja
Publication of JP2016108578A5 publication Critical patent/JP2016108578A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6375906B2 publication Critical patent/JP6375906B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2014244261A 2014-12-02 2014-12-02 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法 Active JP6375906B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014244261A JP6375906B2 (ja) 2014-12-02 2014-12-02 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014244261A JP6375906B2 (ja) 2014-12-02 2014-12-02 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016108578A JP2016108578A (ja) 2016-06-20
JP2016108578A5 true JP2016108578A5 (enExample) 2018-03-15
JP6375906B2 JP6375906B2 (ja) 2018-08-22

Family

ID=56121998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014244261A Active JP6375906B2 (ja) 2014-12-02 2014-12-02 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6375906B2 (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6891449B2 (ja) * 2016-10-27 2021-06-18 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、及び有機elディスプレイの製造方法
CN106637074B (zh) * 2017-01-09 2019-02-22 昆山国显光电有限公司 蒸镀掩膜板、oled基板及测量蒸镀像素偏位的方法
JP7406719B2 (ja) 2019-01-29 2023-12-28 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及びその製造方法、蒸着マスク装置及びその製造方法、中間体、蒸着方法、並びに有機el表示装置の製造方法
CN111485194A (zh) * 2019-01-29 2020-08-04 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、中间体、蒸镀方法及有机el显示装置的制造方法
CN111876726B (zh) * 2020-08-04 2022-12-20 京东方科技集团股份有限公司 金属掩膜板和蒸镀方法,显示面板和显示装置
CN117894728B (zh) * 2023-12-19 2024-11-08 北京子牛亦东科技有限公司 一种晶圆键合对准方法、装置及晶圆键合方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2889062B2 (ja) * 1991-10-24 1999-05-10 松下電器産業株式会社 X線マスクおよびその製造方法
JPH05188579A (ja) * 1992-01-08 1993-07-30 Seiko Epson Corp フォトマスク、及び、半導体装置の製造方法
JP3446943B2 (ja) * 1998-09-21 2003-09-16 大日本印刷株式会社 描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク
JP2010106358A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Canon Inc 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
CN105336855B (zh) * 2012-01-12 2020-08-04 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模装置准备体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016108578A5 (enExample)
USD789697S1 (en) Film with embossing pattern
USD720140S1 (en) Substrate with camouflage pattern
JP2015109252A5 (enExample)
JP2015195106A5 (ja) 表示装置の製造方法、及び表示装置用マザー基板
JP2016136508A5 (ja) 二次電池
TW201614086A (en) Vapor deposition mask manufacturing method and organic semiconductor element manufacturing method
JP2016072471A5 (enExample)
JP2018059211A5 (enExample)
JP2013247367A5 (enExample)
JP2016174148A5 (enExample)
JP2014179457A5 (enExample)
JP2018181668A5 (enExample)
EP2863446A3 (en) Flexible organic light emitting diode display and manufacturing method thereof
JP2014036110A5 (enExample)
JP2014072415A5 (ja) 発光装置およびその製造方法
JP2013002887A5 (ja) 放射線検出パネル、放射線撮影装置および放射線検出装置の製造方法
WO2018110849A3 (ko) 차광막이 형성되어 있는 도파관 및 이의 제조방법
JP2016119454A5 (enExample)
JP2015156471A5 (enExample)
USD772069S1 (en) Film for making packages
JP2017181146A5 (enExample)
USD843737S1 (en) Sieve box sheet with a surface pattern
JP2015035438A5 (enExample)
JP2018117020A5 (enExample)