JP2016108578A5 - - Google Patents

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Claims (20)

樹脂マスクの一方の面側に金属マスクが積層された蒸着マスクであって、
前記金属マスクには、アライメント光の反射光によって検出されるアライメントマークが設けられ、
前記蒸着マスクを平面視したときの前記アライメントマークの外縁を起点としたときに、前記樹脂マスクの他方の面側には、前記起点と重なる位置から前記樹脂マスクの外周方向に向かって位置する反射層が設けられ、
前記反射層の表面における前記アライメント光の反射率、前記アライメントマークの表面、及び前記樹脂マスクの表面における前記アライメント光の反射率よりも高い
蒸着マスク。
A vapor deposition mask in which a metal mask is laminated on one surface side of a resin mask,
The metal mask is provided with an alignment mark detected by reflected light of alignment light,
When the outer edge of the alignment mark when the vapor deposition mask is viewed in plan is a starting point, the other surface side of the resin mask is reflected from the position overlapping the starting point toward the outer peripheral direction of the resin mask. Layers are provided,
Reflectance of the alignment light on the surface of the reflective layer is higher than the reflectance of the alignment light on the surface of the alignment mark, and the surface of the resin mask,
Deposition mask.
前記樹脂マスクが、前記金属マスクの表面を露出させることなく、前記アライメントマークのみを露出させるためのアライメントマーク用開口部を有する、
請求項1に記載の蒸着マスク。
The resin mask has an alignment mark opening for exposing only the alignment mark without exposing the surface of the metal mask .
The vapor deposition mask of Claim 1.
前記アライメントマーク用開口部を断面視したときの内壁面の形状が、前記樹脂マスクの一方の面側から、前記樹脂マスクの他方の面側に向かって広がりをもつ形状を呈している、  The shape of the inner wall surface when the alignment mark opening is viewed in cross-section exhibits a shape that expands from one surface side of the resin mask toward the other surface side of the resin mask.
請求項2に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of Claim 2.
前記アライメントマーク用開口部の内壁面に前記反射層が設けられている、  The reflective layer is provided on the inner wall surface of the alignment mark opening,
請求項3に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of Claim 3.
前記アライメントマーク用開口部を断面視したときの向かい合う内壁面の形状が、略平行である、  The shape of the facing inner wall surface when the alignment mark opening is viewed in cross-section is substantially parallel,
請求項2に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of Claim 2.
前記樹脂マスクの前記反射層と重なる領域が、前記樹脂マスクの他方の面側から前記樹脂マスクの一方の面側に向かって薄肉化されている、  The region of the resin mask that overlaps the reflective layer is thinned from the other surface side of the resin mask toward the one surface side of the resin mask.
請求項1、2、5の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1, 2, and 5.
前記反射層が、さらに、前記樹脂マスクの薄肉化されていない領域とも重なる、  The reflective layer further overlaps with an unthinned region of the resin mask;
請求項6に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of Claim 6.
前記アライメントマークが複数あり、  There are a plurality of the alignment marks,
前記蒸着マスクを平面視したときに、1つの前記反射層は、複数の前記アライメントマークを一括して囲むように位置している、  When the vapor deposition mask is viewed in plan, one of the reflective layers is positioned so as to collectively surround the plurality of alignment marks.
請求項1乃至7の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 7.
樹脂マスクの一方の面側に金属マスクが積層された蒸着マスクであって、  A vapor deposition mask in which a metal mask is laminated on one surface side of a resin mask,
前記金属マスクには、アライメント光の反射光によって検出されるアライメントマークが設けられ、  The metal mask is provided with an alignment mark detected by reflected light of alignment light,
前記樹脂マスクは、前記アライメントマークを露出させるためのアライメントマーク用開口部を有し、  The resin mask has an alignment mark opening for exposing the alignment mark,
前記蒸着マスクを平面視したときの、前記アライメントマーク用開口部の前記樹脂マスクの一方の面側における開口の大きさは、前記アライメントマークの大きさよりも大きく、  When the deposition mask is viewed in plan, the size of the opening on one surface side of the resin mask of the alignment mark opening is larger than the size of the alignment mark,
前記蒸着マスクを樹脂マスク側から平面視したときの前記アライメントマーク用開口部の外縁を起点としたときに、前記樹脂マスクの他方の面側には、前記起点から前記樹脂マスクの外周方向に向かって位置する反射層が設けられ、  When the outer edge of the alignment mark opening when the vapor deposition mask is viewed in plan from the resin mask side is a starting point, the other surface side of the resin mask is directed from the starting point toward the outer periphery of the resin mask. A reflective layer is provided,
前記反射層の表面における前記アライメント光の反射率は、前記アライメントマークの表面、及び前記樹脂マスクの表面における前記アライメント光の反射率よりも高い、  The reflectance of the alignment light on the surface of the reflective layer is higher than the reflectance of the alignment light on the surface of the alignment mark and the surface of the resin mask.
蒸着マスク。  Deposition mask.
前記アライメントマーク用開口部と重なる前記金属マスク上にも、前記アライメントマークの表面、及び前記樹脂マスクの表面における前記アライメント光の反射率よりも、その表面における前記アライメント光の反射率が高い反射層が設けられている、  Also on the metal mask overlapping the alignment mark opening, the reflective layer has a higher reflectance of the alignment light on the surface than the alignment light on the surface of the alignment mark and the surface of the resin mask. Is provided,
請求項9に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of Claim 9.
前記アライメントマークの材料が、前記反射層の材料よりも、前記アライメント光の反射率が低い材料である、  The alignment mark material is a material having a lower reflectance of the alignment light than the reflective layer material.
請求項1乃至10の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10.
前記アライメントマークが、樹脂材料から構成されたアライメントマークである、  The alignment mark is an alignment mark made of a resin material.
請求項1乃至10の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10.
前記アライメントマークが、着色されたアライメントマークである、  The alignment mark is a colored alignment mark,
請求項1乃至10の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10.
前記アライメントマークが、前記金属マスクを貫通する貫通孔である、  The alignment mark is a through-hole penetrating the metal mask;
請求項1乃至10の何れか1項に記載の蒸着マスク。  The vapor deposition mask of any one of Claims 1 thru | or 10.
請求項1乃至14の何れか1項に記載の蒸着マスクを得るための蒸着マスク準備体であって、  A vapor deposition mask preparation for obtaining the vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 14,
樹脂板の一方の面側に金属マスクが位置しており、  A metal mask is located on one side of the resin plate,
前記金属マスクが前記アライメントマークを有し、  The metal mask has the alignment mark;
前記樹脂板の他方の面側に前記反射層が設けられた、  The reflective layer is provided on the other surface side of the resin plate,
蒸着マスク準備体。  Deposition mask preparation.
請求項1乃至14の何れか1項に記載の蒸着マスクがフレームに固定されてなる、  The vapor deposition mask according to claim 1 is fixed to a frame.
フレーム付き蒸着マスク。  Vapor deposition mask with frame.
有機半導体素子の製造方法であって、
請求項1乃至14の何れか1項に記載の蒸着マスク、又は請求項16に記載のフレーム付き蒸着マスクを使用する、
有機半導体素子の製造方法。
A method for producing an organic semiconductor element, comprising:
Use the vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 14, or the vapor deposition mask with a frame according to claim 16.
A method for producing an organic semiconductor element.
前記アライメントマークを利用して、前記蒸着マスク又は前記フレーム付き蒸着マスクと、蒸着対象物との位置合わせをし、前記有機半導体素子の製造を行う、  Using the alignment mark, the vapor deposition mask or the vapor deposition mask with a frame is aligned with a vapor deposition target, and the organic semiconductor element is manufactured.
請求項17に記載の有機半導体素子の製造方法。  The manufacturing method of the organic-semiconductor element of Claim 17.
蒸着で作製されるパターンの形成方法であって、  A method of forming a pattern produced by vapor deposition,
請求項1乃至14の何れか1項に記載の蒸着マスク、又は請求項16に記載のフレーム付き蒸着マスクを使用する、  Use the vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 14, or the vapor deposition mask with a frame according to claim 16.
パターンの形成方法。  Pattern formation method.
前記アライメントマークを利用して、前記蒸着マスク又は前記フレーム付き蒸着マスクと、蒸着対象物との位置合わせをし、前記パターンの形成を行う、  Using the alignment mark, the vapor deposition mask or the vapor deposition mask with the frame is aligned with the vapor deposition object, and the pattern is formed.
請求項19に記載のパターンの形成方法。  The pattern formation method according to claim 19.
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