JP2017196867A - ハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】干渉ムラを十分に抑制するハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルムの提供。
【解決手段】複屈折性を有す透明基材２と、複屈折性を有すプライマー層３と、ハードコート層４を順次備えるハードコートフィルム１で透明基材２は８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、透明基材の遅相軸方向屈折率と進相軸方向の屈折率の差が０．０５以上であり、プライマー層の遅相軸方向と透明基材の遅相軸方向は同一方向であり、プライマー層の進相軸方向と透明基材の進相軸方向が同一方向であり、式［１］及び［２］を満足するハードコートフィルム１。ｎｓｘ＞ｎｍｘ［１］、ｎｓｙ＞ｎｍｙ＞ｎｈ［２］、ｎｓｘ：透明基材２の遅相軸方向の屈折率、ｎｍｘ：プライマー層３の遅相軸方向の屈折率、ｎｓｙ：透明基材２の進相軸方向の屈折率、ｎｍｙ：プライマー層３の進相軸方向の屈折率、ｎｈ：ハードコート層４の屈折率
【選択図】図１

Description

本発明は、ハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルム、詳しくは、ハードコートフィルム、それを備える透明導電性フィルム、および、ハードコートフィルムの製造方法に関する。

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、タッチパネル、電子ペーパーなどの画像表示装置において、偏光子の視認側に、光透過性基材を含む光学積層体を配置することが知られている。

しかし、画像表示装置の表示画面を斜めから視認したときに、画像表示装置に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」という。）を生じ、液晶表示装置の表示品質が損なわれる不具合がある。

そこで、光透過性基材として、高いリタデーション値を有する光透過性基材を用いれば、上記したニジムラの発生を抑制できることが知られている。

一方、高いリタデーション値を有する光透過性基材を用いる場合、光透過性基材とハードコート層との密着性を担保するために、それらの間にプライマー層を配置する必要がある。

しかし、上記した構成の光学積層体では、空気とハードコート層との界面における反射光と、ハードコート層とプライマー層との界面における反射光と、さらには、プライマー層と光透過性基材との界面における反射光とが干渉し、それに起因する縞（干渉縞あるいは干渉ムラ）を生じる。

上記した干渉ムラを抑制すべく、例えば、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、プライマー層上にハードコート層が形成された光学積層体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１の光学積層体では、プライマー層の屈折率（ｎｐ）と、ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘなる関係を有し、ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有する。

特開２０１３−１７４８５２号公報

近年、光学積層体には、干渉ムラをより一層十分に抑制したいという要求がある。

本発明の目的は、干渉ムラを十分に抑制することのできるハードコートフィルム、その製造方法および透明導電性フィルムを提供することにある。

本発明（１）は、複屈折性を有する透明基材と、複屈折性を有する中間層と、ハードコート層とを順次備え、前記透明基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘから、進相軸方向の屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）が、０．０５を超過し、前記中間層の遅相軸方向と、前記透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、前記中間層の進相軸方向と、前記透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、さらに、下記式［１］および［２］を満足する、ハードコートフィルムを含む。

ｎｓｘ＞ｎｍｘ ［１］
ｎｓｙ＞ｎｍｙ＞ｎｈ ［２］
（式中、ｎｓｘは、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｍｘは、前記中間層の遅相軸方向の屈折率を示す。ｎｓｙは、前記透明基材の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｍｙは、前記中間層の進相軸方向の屈折率を示す。ｎｈは、前記ハードコート層の屈折率を示す。）
このハードコートフィルムによれば、中間層が複屈折性を有し、中間層の遅相軸方向と、透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、中間層の進相軸方向と、透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、上記した式［１］および［２］を満足するので、干渉ムラを十分に抑制することができる。

本発明（２）は、前記透明基材は、１．８０以上の前記遅相軸方向の屈折率ｎｓｘを有する、（１）に記載のハードコートフィルムを含む。

このハードコートフィルムによれば、透明基材が、上記した下限以上の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘを有するので、ニジムラを有効に抑制することができる。

本発明（３）は、前記中間層が、プライマー層であり、前記中間層は、１０ｎｍ以上の厚みを有する、（１）または（２）に記載のハードコートフィルムを含む。

このハードコートフィルムによれば、中間層が、プライマー層であり、上記した下限以上の厚みを有するので、ハードコート層の透明基材に対する密着性を担保することができる。

本発明（４）は、（１）〜（３）のいずれか一項に記載のハードコートフィルムと、光学調整層と、透明導電層とを順次備える、透明導電性フィルムを含む。

この透明導電性フィルムは、上記したハードコートフィルムを備えるので、干渉ムラを十分に抑制することができる。

本発明（５）は、等方性の中間層を等方性の透明基材の厚み方向一方面に配置して、前記透明基材および前記中間層を備える積層基材を用意する工程（１）、前記積層基材を、下記の条件Ａを満足するように、延伸する工程（２）、および、ハードコート層を、前記積層基材における前記中間層の厚み方向一方面に、下記の条件Ｂを満足するように、配置する工程（３）を順次備える、ハードコートフィルム製造方法を含む。

条件Ａ：延伸後の前記透明基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘから、進相軸方向の屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）が、０．０５を超過する。

条件Ｂ：前記ハードコート層の屈折率ｎｈが、延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率ｎｍｙに比べて、小さい。

このハードコートフィルムの製造方法によれば、積層基材を延伸する簡便な工程（２）によって、透明基材および中間層の両方に複屈折性を付与して、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。

本発明（６）は、前記工程（２）では、前記積層基材を、３倍以上に延伸する、（５）に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。

このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程（２）では、積層基材を高い倍率で延伸するので、透明基材および中間層の両方に高い複屈折性を付与することができる。

本発明（７）は、前記工程（２）では、下記の条件ＣおよびＤのいずれをも満足する、（５）または（６）に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。

条件Ｃ：延伸後の前記中間層の遅相軸方向の屈折率ｎｍｘが、延伸後の前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘに比べて、小さい。

条件Ｄ：延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率ｎｍｙが、延伸後の前記透明基材の進相軸方向の屈折率ｎｓｙに比べて、小さい。

このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程（２）では、上記の条件ＣおよびＤのいずれをも満足するので、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。

本発明（８）は、前記工程（２）では、前記積層基材を一軸延伸する、（５）〜（７）のいずれか一項に記載のハードコートフィルム製造方法を含む。

このハードコートフィルムの製造方法によれば、工程（２）において積層基材を一軸延伸するので、工程（２）を簡便に実施できながら、透明基材および中間層の両方に高い複屈折性を付与することができる。

本発明のハードコートフィルムは、干渉ムラを十分に抑制することができる。

本発明の透明導電性フィルムは、干渉ムラを十分に抑制することができる。

本発明のハードコートフィルムの製造方法は、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。

図１は、本発明のハードコートフィルムの一実施形態（透明基材の厚み方向一方側に、プライマー層およびハードコート層が順次配置される態様）の断面図を示す。 図２は、図１に示すハードコートフィルムを製造するための製造工程図であり、図２Ａは、工程（１）において、透明基材を用意する工程、図２Ｂは、工程（１）において、プライマー層を配置して、積層基材を用意する工程、図２Ｃは、積層基材を延伸する工程（２）、図２Ｄは、ハードコート層を配置する工程を示す。 図３は、図１に示すハードコートフィルムを備える透明導電性フィルム（透明基材の厚み方向一方側に、プライマー層、ハードコート層、光学調整層および透明導電層順次が配置される態様）の断面図を示す。 図４は、図１に示すハードコートフィルムの変形例（透明基材の厚み方向両側に、プライマー層およびハードコート層が順次配置される態様）の断面図を示す。 図５は、図４に示すハードコートフィルムを備える透明導電性フィルム（透明基材の厚み方向両側に、プライマー層、ハードコート層、光学調整層および透明導電層が順次配置される態様）の断面図を示す。 図６は、図２に示すハードコートフィルムの製造方法の変形例の工程図であり、図６Ａは、等方性の透明基材を用意する工程、図６Ｂは、透明基材を延伸する工程、図６Ｃは、プライマー層を配置する工程、図６Ｄは、ハードコート層を配置する工程を示す。 図７は、各実施例および各比較例の透明基材、プライマー層およびハードコート層の屈折率のグラフを示す。

本発明のハードコートフィルム、透明導電性フィルムおよびハードコートフィルムの製造方法の一実施形態を、図１〜図３を参照して説明する。

図１において、紙面上下方向は、Ｚ軸方向（厚み方向、第１方向）である。紙面上側が、Ｚ軸方向一方側（厚み方向一方側、第１方向一方側）である。紙面下側が、Ｚ軸方向他方側（厚み方向他方側、第１方向他方側）である。

図１において、紙面左右方向は、Ｘ軸方向（第１方向に直交する第２方向）である。

図１において、紙厚方向は、Ｙ軸方向（第１方向および第２方向に直交する第３方向）である。

具体的には、各図の方向矢印に準拠する。

１．ハードコートフィルム
このハードコートフィルム１は、図１に示すように、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、Ｘ軸方向およびＹ軸方向（面方向）に延び、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面（２つの主面）を有する。

ハードコートフィルム１は、例えば、後述する透明導電性フィルム７（図３参照）に備えられる一部品であり、つまり、透明導電性フィルム７ではない。すなわち、ハードコートフィルム１は、透明導電性フィルム７を作製するための部品であり、光学調整層５および透明導電層６などの機能層を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、ハードコートフィルム１は、透明基材２と、中間層の一例としてのプライマー層３と、ハードコート層４とを順次備える。つまり、ハードコートフィルム１は、透明基材２と、透明基材２の厚み方向一方面に配置されるプライマー層３と、プライマー層３の厚み方向一方面に配置されるハードコート層４とを備える。また、好ましくは、ハードコートフィルム１は、透明基材２と、プライマー層３と、ハードコート層４とのみからなる。以下、各層について詳述する。

２．透明基材
透明基材２は、ハードコートフィルム１の厚み方向他方側層であって、ハードコートフィルム１の機械強度を確保する支持材である。また、透明基材２は、ハードコートフィルム１が、例えば、画像表示装置に備えられるときに、ニジムラを抑制することができるニジムラ抑制部材でもある。なお、ニジムラは、画像表示装置において本来同一色が表示されるべき箇所において、異なる複数の色が観察される現象である。

また、透明基材２は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面（２つの主面）を有する。

透明基材２は、透明性を有する高分子からなる。高分子としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。複屈折性などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＰＥＮが挙げられる。

透明基材２の全光線透過率は、例えば、９０％以上、好ましくは、９５％以上、より好ましくは、９９％以上である。

透明基材２は、複屈折性を有する。

詳しくは、透明基材２の遅相軸方向ｓｘ（図１におけるＸ軸方向）の屈折率ｎｓｘから、進相軸方向ｓｙの屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）（Δｎｓ）が、０．０５を超過する。

なお、遅相軸方向ｓｘは、透明基材２の面方向において、屈折率が最も大きい方向であり、また、進相軸方向ｓｙは、屈折率が最も小さい方向である。遅相軸方向および進相軸方向の定義は、後で説明するプライマー層３におけるそれらについても同様である。

Δｎｓは、好ましくは、０．１０以上、より好ましくは、０．１５以上であり、また、例えば、０．５０未満である。Δｎｓが上記した下限を上回れば、透明基材２が高い複屈折性を有することができ、そのため、ニジムラを有効に抑制することができる。

具体的には、透明基材２の遅相軸方向ｓｘの屈折率ｎｓｘは、例えば、１．７０以上、好ましくは、１．７５以上、より好ましくは、１．８０以上であり、また、例えば、２．００以下である。屈折率ｎｓｘが上記した下限を上回れば、透明基材２の厚みを薄くことができる。

また、透明基材２の進相軸方向の屈折率ｎｓｙは、例えば、１．５５以上、好ましくは、１．６以上であり、また、例えば、１．７５以下、好ましくは、１．７０以下である。透明基材２の進相軸方向の屈折率ｎｓｙが上記した範囲内にあれば、透明基材２の厚みを薄くことができる。

なお、透明基材２のΔｎｓが０．０５以下と過小であっても、次に説明する透明基材２の厚みＴｓが十分に厚い場合には、後述するリタデーションが８０００ｎｍ以上の要件を満足する。しかし、その場合には、透明基材２の厚みが過度に厚くなってしまい、ニジムラが発生する。

透明基材２の厚みＴｓは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下である。透明基材２の厚みＴｓが上記した下限以上であれば、ハードコートフィルム１の強度を十分に確保できるとともに、透明基材２が次に説明する高いリタデーションを有することができる。そのため、ニジムラを有効に抑制することができる。一方、透明基材２の厚みＴｓが上記した上限以下であれば、高い透明性を確保することができる。

透明基材２は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有する。透明基材２は、好ましくは、１００００ｎｍ以上、好ましくは、１２０００ｎｍ以下のリタデーションを有する。透明基材２のリタデーションが上記した下限を上回れば、ニジムラを十分に抑制することができる。

なお、リタデーションは、Δｎｓに厚みＴｓを乗じた値である。また、リタデーションは、透明基材２を直接測定することによって、得られる。

一方、透明基材２のリタデーションが８０００ｎｍ未満であれば、たとえ、透明基材２のΔｎｓが０．０５を超過しても、ニジムラを十分に抑制することができない。

また、透明基材２のガラス転移温度は、例えば、１００℃以上、また、例えば、１５０℃以下である。

３．プライマー層
プライマー層３は、ハードコートフィルム１における中間層である。プライマー層３は、透明基材２とハードコート層４との間に配置されている。詳しくは、プライマー層３は、透明基材２の厚み方向一方面の全面に接触するように配置されている。プライマー層３は、面方向に延びるフィルム形状を有する。プライマー層３は、ハードコート層４の透明基材２に対する密着性（接着性）を向上させる易接着層である。プライマー層３は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面（２つの主面）を有する。

プライマー層３は、透明基材２で例示した高分子に類似する物性（具体的には、機械強度、弾性など）を有する材料からなり、具体的には、透明基材２で例示した高分子が挙げられ、好ましくは、ポリエステル樹脂、複屈折性の観点から、ＰＥＴが挙げられる。

プライマー層３は、複屈折性を有する。

具体的には、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘと、透明基材２の遅相軸方向ｓｘとは、同一方向であり、いずれも、Ｘ軸方向（図１における左右方向）である。また、プライマー層３の進相軸方向ｍｙと、透明基材の進相軸方向ｓｙとは、同一方向であり、いずれも、Ｙ軸方向（図１における紙厚方向）である。Ｘ軸方向とＹ軸方向とは、同一平面において、互いに直交する。また、Ｘ軸方向とＹ軸方向とは、Ｚ軸方向（厚み方向）に直交する。

プライマー層３の遅相軸方向ｍｘの屈折率ｎｍｘは、透明基材２の遅相軸方向ｓｘの屈折率ｎｓｘに比べて、小さい。つまり、下記式［１］を満足する。

ｎｓｘ＞ｎｍｘ ［１］
（式中、ｎｓｘは、透明基材２の遅相軸方向ｓｘの屈折率を示し、ｎｍｘは、プライマー層３の遅相軸方向ｍｙの屈折率を示す。）
屈折率ｎｍｘの、屈折率ｎｓｘに対する比（ｎｍｘ／ｎｓｘ）は、１．００未満であり、例えば、０．９９以下、好ましくは、０．９７以下、より好ましくは、０．９５以下であり、また、例えば、０．７０以上である。また、透明基材２の遅相軸方向ｓｘの屈折率ｎｓｘから、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘの屈折率ｎｍｘを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｍｘ）は、例えば、０．０５以上、好ましくは、０．１０以上、より好ましくは、０．１５以上であり、また、例えば、０．３０以下である。ｎｍｘ／ｎｓｘが上記した上限を下回れば、あるいは、ｎｓｘ−ｎｍｘが上記した下限を上回れば、ハードコート層４を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。

また、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙは、透明基材２の進相軸方向ｓｙの屈折率ｎｓｙに比べて、小さい。つまり、下記式［２−１］を満足する。

ｎｓｙ＞ｎｍｙ ［２−１］
（式中、ｎｓｙは、透明基材２の進相軸方向ｓｙの屈折率を示し、ｎｍｙは、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率を示す。）
プライマー層３の遅相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙの、透明基材２の遅相軸方向ｓｙの屈折率ｎｓｙに対する比（ｎｍｙ／ｎｓｙ）は、１．００未満であり、例えば、０．９９以下、好ましくは、０．９８以下であり、また、例えば、０．９０以上である。また、透明基材２の遅相軸方向ｓｙの屈折率ｎｓｙから、プライマー層３の遅相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙから差し引いた値（ｎｓｙ−ｎｍｙ）は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．０３以上であり、また、例えば、０．２５以下である。ｎｓｙ−ｎｍｙが上記した上限を下回れば、ハードコート層４を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。

さらに、（ｎｓｘ−ｎｍｘ）／（ｎｓｙ−ｎｍｙ）は、例えば、０．１以上、好ましくは、１以上、より好ましくは、１超過、さらに好ましくは、１．５以上、とりわけ好ましくは、２以上であり、また、例えば、１０以下、好ましくは、５以下である。（ｎｓｘ−ｎｍｘ）／（ｎｓｙ−ｎｍｙ）が上記した下限を上回れば、ハードコート層４を積層した際の干渉ムラを抑制することができる。

プライマー層３の厚みＴｍは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、５０ｎｍ以上、より好ましくは、７０ｎｍ以上であり、また、例えば、３００ｎｍ以下、好ましくは、２００ｎｍ以下である。

プライマー層３の厚みＴｍが上記した下限以上であれば、ハードコート層４のプライマー層３に対する密着性を担保することができる。一方、プライマー層３の厚みＴｍが上記した上限以下であれば、干渉ムラをより一層十分に抑制することができる。

なお、干渉ムラは、空気とハードコート層４との界面における反射光と、ハードコート層４とプライマー層３との界面における反射光と、さらには、プライマー層３と透明基材２との界面における反射光とが干渉し、それに起因して観察される縞状のムラである。

プライマー層３のガラス転移温度は、例えば、５０℃以上、また、例えば、２００℃以下である。

４．ハードコート層
ハードコート層４は、ハードコートフィルム１の厚み方向一方側層である。ハードコート層４は、プライマー層３の厚み方向一方面の全面に接触するように配置されている。ハードコート層４は、ハードコートフィルム１の耐擦傷性を高める耐擦傷層である。ハードコート層４は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面（２つの主面）を有する。ハードコート層４は、フィルム形状（シート形状を含む）を有する。

ハードコート層４は、例えば、樹脂を含有する樹脂組成物からなる。また、樹脂組成物は、粒子を適度の割合で含有することもできる。

樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂などの活性エネルギー線硬化性樹脂などが挙げられる。

粒子としては、例えば、有機粒子、無機粒子が挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。

ハードコート層４は、好ましくは、樹脂のみを含有する（粒子を含有しない）。

ハードコート層４は、例えば、複屈折性または等方性を有する。好ましくは、ハードコート層４は、等方性を有する。

ハードコート層４の屈折率ｎｈは、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙに比べて、小さい。つまり、下記式［２−２］を満足する。

ｎｍｙ＞ｎｈ ［２−２］
（式中、ｎｍｙは、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率を示す。ｎｈは、ハードコート層４の屈折率を示す。）
そうすると、ハードコートフィルム１において、上記した式［２−１］および式［２−２］を踏まえると、透明基材２、プライマー層３およびハードコート層４は、下記式［２］を満足する。

ｎｓｙ＞ｎｍｙ＞ｎｈ ［２］
（式中、ｎｓｙは、透明基材２の進相軸方向ｓｙの屈折率を示す。ｎｍｙは、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率を示す。ｎｈは、ハードコート層４の屈折率を示す。）
ハードコート層４の屈折率ｎｈの、プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙに対する比（ｎｈ／ｎｍｙ）は、１未満であり、例えば、０．９９以下、好ましくは、０．９８以下、より好ましくは、０．９７以下であり、また、例えば、０．７０以上である。プライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙから、ハードコート層４の屈折率ｎｈを差し引いた値（ｎｍｙ−ｎｈ）は、例えば、０．０３以上、好ましくは、０．０５以上であり、また、例えば、０．３０以下、好ましくは、０．２０以下である。

ｎｍｙは、［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］（図７の一点鎖線参照）に対して、同一または大きく（ｎｍｙ≧［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］）、好ましくは、大きい（ｎｍｙ＞［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］）。ｎｍｙ−［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］は、例えば、０．００以上、好ましくは、０．００超過、より好ましくは、０．０１以上、さらに好ましくは、０．０２以上であり、また、例えば、０．１０以下である。また、ｎｍｙ／［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］が、例えば、１．０１以上、好ましくは、１．０２以上であり、また、１．１以下である。上記したｎｍｙ−［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］、および／またはｎｍｙ／［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］が、上記した下限を上回れば、干渉ムラを抑制することができる。

一方、ｎｍｘは、［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］に対して、同一または小さく（ｎｍｘ≦［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］）、好ましくは、小さい（ｎｍｘ＜［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］）。ｎｍｘ−［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］は、例えば、０．００以下、好ましくは、０．００未満、より好ましくは、−０．０１以下であり、また、−０．１０以上である。また、ｎｍｘ／［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］が、例えば、１．００以下、好ましくは、１．００未満、より好ましくは、０．９９５以下であり、また、０．８０以上である。ｎｍｘ−［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］、および／または、ｎｍｘ／［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］が上記した上限を下回れば、干渉ムラを抑制することができる。

また、ｎｍｘ、ｎｓｘおよびｎｈは、例えば、下記式［３−１］を満たし、好ましくは、下記式［３−２］を満たし、より好ましくは、下記式［３−３］を満たす。
［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］−０．０５＜ｎｍｘ＜［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］＋０．０５
［３−１］
［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］−０．０４＜ｎｍｘ＜［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］＋０．０４
［３−２］
［（ｎｓｘ＋ｎｈ）／２］−０．０３＜ｎｍｘ＜［（ｎｓ＋ｎｈ）／２］＋０．０３
［３−３］
ｎｍｘ、ｎｓｘおよびｎｈが上記式を満たせば、干渉ムラを有効に抑制することができる。

さらに、ｎｍｙ、ｎｓｙおよびｎｈは、例えば、下記式［４−１］を満たし、好ましくは、下記式［４−２］を満たし、より好ましくは、下記式［４−２］を満たし、さらに好ましくは、下記式［４−３］を満たす。
［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］−０．０５＜ｎｍｙ＜［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］＋０．０５
［４−１］
［（ｎｓ＋ｎｈ）／２］−０．０４＜ｎｍｙ＜［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］＋０．０４
［４−２］
［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］−０．０３＜ｎｍｙ＜［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］＋０．０３
［４−３］
［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］−０．０２＜ｎｍｙ＜［（ｎｓｙ＋ｎｈ）／２］＋０．０２
［４−３］
ｎｍｙ、ｎｓｙおよびｎｈが上記式を満たせば、干渉ムラを有効に抑制することができる。

ハードコート層４の厚みは、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。

５．ハードコートフィルムの製造方法
次に、ハードコートフィルム１の製造方法について説明する。

このハードコートフィルム１は、例えば、ロール・トゥ・ロール法によって、製造される。

この方法は、等方性のプライマー層３を等方性の透明基材２の厚み方向一方面に配置して、透明基材２およびプライマー層３を備える積層基材８を用意する工程（１）、積層基材８を、延伸する工程（２）、および、ハードコート層４を、積層基材８におけるプライマー層３の厚み方向一方面に、配置する工程（３）を順次備える。以下、各工程を順次説明する。

５−１． 工程（１）
工程（１）では、図２Ａに示すように、まず、等方性の透明基材２を用意する。具体的には、透明基材２として、上記した高分子からなる未延伸のフィルムを用意する。

その後、図２Ｂに示すように、プライマー層３を透明基材２の厚み方向一方面に配置する。

具体的には、まず、高分子と、溶媒とを含む塗布組成物（プライマー層形成用塗布組成物）とを調製し、次いで、塗布組成物を透明基材２の厚み方向一方面に塗布して、塗膜を配置し、その後、塗膜における溶媒を除去する。

高分子は、例えば、その屈折率が、等方性の透明基材２の屈折率と、ハードコート層４の屈折率ｎｈとの間にあるものから選択される。

溶媒は、高分子を溶解または分散可能な溶媒であって、例えば、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）などのフッ素系溶媒などが挙げられる。これらは、単独使用または併用することができる。溶媒として、好ましくは、フッ素系溶媒が挙げられる。

溶媒を、塗布組成物における高分子の含有割合（固形分量）が、例えば、１質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下となるように、高分子と配合する。

塗布組成物を調製するには、高分子と溶媒とを上記の配合割合で配合し、高分子を溶媒に溶解または分散させる。

塗布組成物を透明基材２の厚み方向一方面に塗布するには、例えば、グラビヤロールコータ、リバースロールコータ、キスロールコータ、ディップロールコータ、バーコータ、ナイフコータ、スプレーコータなどのコータが用いられる。

溶媒を除去するには、塗膜を、乾燥させる。乾燥温度は、例えば、透明基材２のガラス転移温度以下であり、具体的には、例えば、５０℃以上、好ましくは、７０℃以上であり、また、例えば、１５０℃以下、好ましくは、１２０℃以下である。乾燥時間は、例えば、１０秒以上、好ましくは、３０秒以上であり、また、例えば、１０分以下、好ましくは、３分以下である。

これにより、等方性のプライマー層３を、透明基材２の厚み方向一方面に配置する。等方性のプライマー層３の厚みＴ０は、例えば、２００ｎｍ以上、好ましくは、３００ｎｍ以上であり、また、例えば、６００ｎｍ以下、好ましくは、５００ｎｍ以下である。

これにより、透明基材２およびプライマー層３を順次備える積層基材８を得る。

５−２． 工程（２）
工程（２）では、図２Ｃに示すように、積層基材８を、透明基材２が上記した複屈折性を有するように、延伸する。好ましくは、積層基材８を一軸延伸する。具体的には、下記の条件Ａを満足するように、積層基材８を延伸する。

条件Ａ：延伸後の透明基材２は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、透明基材２の遅相軸方向ｎｘの屈折率ｎｓｘから、進相軸方向ｎｙの屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）が、０．０５を超過する。

なお、複屈折性に関する上記した条件Ａより好適な条件は、上記した「２．透明基材」で例示した条件が挙げられる。

具体的には、フィルムを加熱しながら延伸する。詳しくは、まず、フィルムを予備加熱し、続いて、引き続き、フィルムを加熱しながら延伸する。

加熱温度は、例えば、高分子のガラス転移温度以上である。

延伸における倍率は、例えば、２．５倍以上、好ましくは、３．０倍以上であり、また、例えば、６．０以下、好ましくは、５．５倍以下である。

倍率が上記した下限以上であれば、透明基材２およびプライマー層３の両方に高い複屈折性を付与することができる。倍率が上記した上限以下であれば、透明基材２の強度を確保することができる。

また、積層基材８を、例えば、縦延伸（縦方向に沿う延伸、ロール・トゥ・ロール法における積層基材８の搬送方向に沿う方向の延伸）、または、横延伸（横方向に沿う延伸、ロール・トゥ・ロール法における積層基材８の搬送方向および厚み方向に沿う方向（幅方向）の延伸）する。

具体的には、透明基材２およびプライマー層３を、同一方向に延伸する。この延伸によって、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘと、透明基材２の遅相軸方向ｓｘとは、同一方向となる。また、プライマー層３の進相軸方向ｍｙと、透明基材２の進相軸方向ｓｙとは、同一方向となる。

さらに、上記した積層基材８の延伸によって、下記の条件ＣおよびＤのいずれをも満足する。

条件Ｃ：延伸後のプライマー層３の遅相軸方向ｍｘの屈折率ｎｍｘが、延伸後の透明基材２の遅相軸方向ｓｘの屈折率ｎｓｘに比べて、小さい。

条件Ｄ：延伸後のプライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙが、延伸後の透明基材２の進相軸方向ｓｙの屈折率ｎｓｙに比べて、小さい。

なお、複屈折性に関する上記した条件ＣおよびＤより好適な条件は、上記した「３．プライマー層」で例示した条件が挙げられる。

上記した積層基材８の延伸によって、透明基材２の遅相軸方向ｓｘの長さ、および、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘの長さが、上記した倍率で、延長される。

これによって、プライマー層３は、上記した厚みＴｍを有する。プライマー層３において、延伸前の厚みＴ０の、延伸後の厚みＴｍに対する比（Ｔ０／Ｔｍ）は、上記した延伸の倍率と略同一であり、具体的には、例えば、２．５倍以上、好ましくは、３．０倍以上であり、また、例えば、６．０以下、好ましくは、５．５倍以下である。

５−３． 工程（３）
工程（３）では、図２Ｄに示すように、ハードコート層４を、積層基材８におけるプライマー層３の厚み方向一方面に配置する。具体的には、ハードコート層４を、下記の条件Ｂを満足するように、配置する。

条件Ｂ：ハードコート層４の屈折率ｎｈが、延伸後のプライマー層３の進相軸方向ｍｙの屈折率ｎｍｙに比べて、小さい。

なお、複屈折性に関する上記した条件Ｂより好適な条件は、上記した「４．ハードコート層」で例示した条件が挙げられる。

ハードコート層４を、上記した樹脂組成物をプライマー層３の厚み方向一方面の全面に塗布して、塗膜を形成し、その後、塗膜に、必要により、活性エネルギー線を照射する。これによって、ハードコート層４をプライマー層３の厚み方向一方面に配置する。

これによって、透明基材２、プライマー層３およびハードコート層４を順次備えるハードコートフィルム１を得る。

そして、このハードコートフィルム１は、各産業用途に用いられ、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、タッチパネル、電子ペーパーなどの画像表示装置に用いられる。好ましくは、タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムに備えられる。

６．透明導電性フィルム
図３に示すように、透明導電性フィルム７は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、面方向に延び、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な平坦な厚み方向他方面（２つの主面）を有する。透明導電性フィルム７は、例えば、光学装置（例えば、画像表示装置、調光装置）に備えられるタッチパネル用基材や調光パネルなどの一部品であり、つまり、光学装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム７は、光学装置などを作製するための部品であり、ＬＣＤモジュールなどの画像表示素子や、ＬＥＤなどの光源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

そして、この透明導電性フィルム７は、ハードコートフィルム１と、光学調整層５と、透明導電層６とを順次備える。具体的には、透明導電性フィルム７は、透明基材２と、プライマー層３と、ハードコート層４と、光学調整層５と、透明導電層６とを順次備える。好ましくは、透明導電性フィルム７は、透明基材２と、プライマー層３と、ハードコート層４と、光学調整層５と、透明導電層６とのみからなる。

光学調整層５は、透明導電層６が後の工程で配線パターンに形成された後に、非パターン部とパターン部との相違が認識されないように（すなわち、配線パターンの視認を抑制するように）、透明導電性フィルム７の光学物性を調整する層である。

光学調整層５は、ハードコート層４の厚み方向一方面の全面に配置されている。光学調整層５は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面（図示せず）（２つの主面）を有する。

光学調整層５は、樹脂組成物から調製されている。樹脂組成物は、例えば、樹脂と、粒子とを含有する。樹脂組成物は、好ましくは、樹脂のみを含有し、より好ましくは、樹脂のみからなる。

光学調整層５の屈折率は、ハードコート層４の屈折率と透明導電層６の屈折率との間に調整されている。

光学調整層５の厚みは、例えば、３０ｎｍ以上、好ましくは、５０ｎｍ以上であり、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１３０ｎｍ以下である。

透明導電層６は、後の工程で配線パターンに形成して、パターン部を形成するための導電層である。透明導電層６は、透明導電性フィルム７の厚み方向における最一方側層であって、面方向に延びるフィルム形状（シート形状を含む）を有しており、平坦な厚み方向一方面、および、平坦な厚み方向他方面を有している。

透明導電層６を形成する材料としては、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などが挙げられる。

透明導電層６の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、３５ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下である。

透明導電性フィルム７は、ハードコートフィルム１のハードコート層４の厚み方向一方面に、光学調整層５および透明導電層６を順次配置することによって、得られる。

７．効果
そして、このハードコートフィルム１によれば、プライマー層３が複屈折性を有し、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘと、透明基材２の遅相軸方向ｓｘとは、同一方向であり、透明基材２の進相軸方向ｓｙと、プライマー層３の進相軸方向ｍｙとは、同一方向であり、上記した式［１］および［２］を満足するので、干渉ムラを十分に抑制することができる。

また、このハードコートフィルム１によれば、プライマー層３が、上記した上限以下の厚みＴｍを有するので、干渉ムラをより一層十分に抑制することができる。

このハードコートフィルム１によれば、透明基材２が、上記した下限以上の遅相軸方向ｓｘの屈折率ｎｓｘを有するので、ニジムラを有効に抑制することができる。

このハードコートフィルム１によれば、プライマー層３が、上記した下限以上の厚みＴｍを有するので、ハードコート層４の透明基材２に対する密着性を担保することができる。

さらに、この透明導電性フィルム７は、上記したハードコートフィルム１を備えるので、干渉ムラを十分に抑制することができる。

ハードコートフィルム１の製造方法によれば、積層基材８を延伸する簡便な工程（２）によって、透明基材２およびプライマー層３の両方に複屈折性を付与して、干渉ムラが抑制されたハードコートフィルム１を製造することができる。

このハードコートフィルム１の製造方法によれば、工程（２）では、光学調整層５を、高い倍率で延伸するので、透明基材２およびプライマー層３の両方に高い複屈折性を付与することができる。

このハードコートフィルム１の製造方法によれば、工程（２）では、上記の条件ＣおよびＤのいずれをも満足するので、干渉ムラが十分に抑制されたハードコートフィルムを製造することができる。

このハードコートフィルム１の製造方法によれば、工程（２）において積層基材８を一軸延伸するので、工程（２）を簡便に実施できながら、透明基材２およびプライマー層３の両方に高い複屈折性を付与することができる。

８．変形例
図１に示す一実施形態では、ハードコートフィルム１は、透明基材２の厚み方向一方側のみに順次配置されたプライマー層３およびハードコート層４を備える。

しかし、プライマー層３およびハードコート層４の配置は上記に限定されず、例えば、図４に示すように、透明基材２の厚み方向両側（一方側および他方側）のそれぞれに順次配置されたプライマー層３およびハードコート層４を備えることもできる。

図４に示すハードコートフィルム１によっても、一実施形態のハードコートフィルム１と同様の作用効果を奏することができる。

図３に示す一実施形態では、透明導電性フィルム７は、透明基材２の厚み方向一方側のみに順次配置されたプライマー層３、ハードコート層４、光学調整層５および透明導電層６を備える。

しかし、プライマー層３、ハードコート層４、光学調整層５および透明導電層６の配置は上記に限定されない。例えば、図５に示すように、透明基材２の厚み方向両側（一方側および他方側）のぞれぞれに順次配置された、プライマー層３、ハードコート層４、光学調整層５および透明導電層６を備えることもできる。

この変形例の透明導電性フィルム７によっても、一実施形態の透明導電性フィルム７と同様の作用効果を奏することができる。

また、一実施形態において、本発明の中間層として、プライマー層３を例示しているが、これに限定されない。本発明の中間層として、例えば、アンダーコート層、インデックスマッチング層などを例示することもできる。

また、一実施形態における工程（２）において、１軸延伸を好適な例として挙げている。しかし、上記した条件Ａを満足するように、積層基材８を延伸すればよく、例えば、積層基材８を二軸延伸することもできる。この場合には、縦方向の延伸倍率の、横方向の延伸倍率に対する延伸倍率（縦方向の延伸倍率／横方向の延伸倍率に対する延伸倍率）、または、横方向の延伸倍率の、縦方向の延伸倍率に対する延伸倍率（横方向の延伸倍率／縦方向の延伸倍率に対する延伸倍率）を、例えば、２．５倍以上、好ましくは、３倍以上に設定する。これにより、透明基材２およびプライマー層３に複屈折性を付与する。

また、一実施形態におけるハードコートフィルム１の製造方法において、積層基材８を延伸する工程（２）を実施しているが、例えば、工程（２）を実施せずに、中間層に複屈折性を付与することもできる。

例えば、図６Ａに示すように、まず、等方性の透明基材２を用意し、次いで、図６Ｂに示すように、透明基材２を延伸し、次いで、図示しないが、透明基材２の厚み方向一方面に配向膜を配置し、続いて、配向膜の厚み方向一方面をラビング処理し、その後、図６Ｃに示すように、高分子としての液晶材料を配向膜の厚み方向一方面に配置する。すると、液晶材料は、配向膜のラビング方向（つまり、透明基材２の延伸方向）に沿って配向される。これによって、液晶材料からなるプライマー層３が、複屈折性を有する。

あるいは、図６Ｃが参照されるように、塗布組成物を透明基材２の厚み方向一方面に塗布する際に、塗布組成物に剪断力を付与できるドクターブレードなどの塗布機によって、塗布組成物に透明基材２の延伸方向に沿って剪断力を付与して、プライマー層３を配向させることもできる。

また、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘと、透明基材２の遅相軸方向ｓｘとは、同一方向であるが、本発明において、それらは実質的に同一方向であればよく、具体的には、本発明の効果を奏することができる程度にずれていること（交差すること）が許容される。例えば、３度以下、好ましくは、１度以下、より好ましくは、０．１度以下で、プライマー層３の遅相軸方向ｍｘと、透明基材２の遅相軸方向ｓｘとが交差することが許容される。

また、透明基材２の進相軸方向ｓｙと、プライマー層３の進相軸方向ｍｙとは、同一方向であるが、本発明において、それらは実質的に同一方向であればよく、具体的には、本発明の効果を奏することができる程度にずれていること（交差すること）が許容される。例えば、３度以下、好ましくは、１度以下、より好ましくは、０．１度以下で、透明基材２の進相軸方向ｓｙと、プライマー層３の進相軸方向ｍｙとが交差することが許容される。

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

（プライマー層形成用塗布組成物の調製）
調製例１
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（ガラス転移温度：８０℃）を、固形分量が５質量％になるように、ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）に溶解させて、プライマー層形成用塗布組成物を調製した。

調製例２
無機材料分散型多官能アクリレート「Ｚ７４１２」（ＪＳＲ （株）社製）を、酢酸ブチルを用いて固形分量が５質量％となるようにプライマー層形成用塗布組成物を調製した。

（ハードコート層形成用塗布組成物の調製）
調製例３
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１００質量部に光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４を０．１質量部部配合した液を、酢酸エチルを用いて固形分量が１６質量％となるようにハードコート層形成用塗布組成物を調製した。

実施例１
１． 工程（１）
まず、図２Ａに示すように、等方性の透明基材２として、厚み２００μｍの未延伸のポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）（ガラス転移温度１２０℃）を用意した。

次いで、調製例１のプライマー層形成用塗布組成物をバーコータで乾燥後の厚みが３６０ｎｍになるように、透明基材２の厚み方向一方面の全面に塗布し、その後、乾燥オーブンで、塗膜を１２０℃の雰囲気下で１分間乾燥させ、ＨＦＩＰを揮発させた。これにより、図２Ｂに示すように、等方性のプライマー層３を、等方性の透明基材２の厚み方一方面に配置した。つまり、ともに等方性の透明基材２およびプライマー層３を備える積層基材８を得た。

２． 工程（２）
図２Ｃに示すように、積層基材８を、バッチ式延伸機（ＫＡＲＯ ＩＶ：ＢＲＵＣＫＮＥＲ社製）を用いて、４倍に一軸延伸した。詳細な条件は以下の通りである。
予備加熱（プレアニール）条件：１２０℃、４０秒
延伸温度：１２０℃
延伸速度：５％／秒

３． 工程（３）
延伸した積層基材８におけるプライマー層３の厚み方向一方面の全面に、調製例３のハードコート層形成用塗布組成物をワイヤーバーを用いて塗布し、その後、乾燥オーブンで、８０℃の雰囲気下で１分間乾燥させ、溶剤を揮発させて塗膜を得た。その後、塗膜に、酸素濃度２５００ｐｐｍ雰囲気下で１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷水銀ランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してハードコート層４を形成した。

これにより、透明基材２、プライマー層３およびハードコート層４を順次備えるハードコートフィルム１を得た。

実施例２
表１に示すように、延伸後のプライマー層３の厚みを変更した以外は、実施例１と同様に処理して、ハードコートフィルム１を得た。

比較例１
１．工程（１）
等方性の透明基材２として、厚み２００μｍの未延伸のポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）（ガラス転移温度１２０℃）を用意した。

次いで、等方性の透明基材２をバッチ式延伸機（ＫＡＲＯ ＩＶ：ＢＲＵＣＫＮＥＲ社製）を用いて、４倍に一軸延伸した。詳細な条件は以下の通りである。
予備加熱（プレアニール）条件：１２０℃、４０秒
延伸温度：１２０℃
延伸速度：５％／秒
その後、調製例２のプライマー層形成用塗布組成物を、延伸した透明基材２上にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥オーブンにて６０℃の雰囲気下で１分間乾燥させ、溶剤を揮発させた後、酸素濃度２５００ｐｐｍ雰囲気下で１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷水銀ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させた。

これにより、透明基材２およびプライマー層３からなる積層基材８を得た。

２． 工程（３）
積層基材８におけるプライマー層３の厚み方向一方面の全面に、調製例３のハードコート層形成用塗布組成物をワイヤーバーを用いて塗布し、その後、乾燥オーブンで、８０℃の雰囲気下で１分間乾燥させ、溶剤を揮発させて塗膜を得た。その後、塗膜に、酸素濃度２５００ｐｐｍ雰囲気下で１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷水銀ランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してハードコート層４を形成した。

これにより、図６Ｄが参照されるように、透明基材２、プライマー層３およびハードコート層４を順次備えるハードコートフィルム１を得た。

比較例２
表１に示すように、プライマー層３の厚みを変更した以外は、比較例１と同様に処理して、ハードコートフィルム１を得た。

（評価）
以下の各項目を評価した。その結果を表１に示す。また、透明基材、プライマー層およびハードコート層のそれぞれの屈折率については、図７にも示す。

１．干渉ムラ
各実施例および各比較例のハードコートフィルム１の干渉ムラを、Ｕ４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）により得られた反射スペクトルのリップル（波形）の振幅の大小を観察し、以下の基準に従って、評価した。
○：リップルの振幅が極めて小さく（２未満）、実用レベルである。
△：リップルの振幅が大きく（２以上）、実用レベルでない。

なお、リップルの振幅の算出式は以下の通りである。

リップルの振幅 ＝ ｜最大値−反射Ｙ値｜＋｜反射Ｙ値−最小値｜
最大値 ＝ 反射スペクトル（４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）の最大値
最小値 ＝ 反射スペクトル（４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）の最小値

２．透明基材の厚み、屈折率およびリタデーション
透明基材２の厚みを、ダイヤルゲージで測定することにより、求めた。

透明基材２の屈折率を、U４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）により得られた反射スペクトルから、求めた。

また、透明基材２（プライマー層３を積層する前の透明基材２）のリタデーションを、ＡＸＯ ＳＣＡＮ（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣ社製）を用いて求めた。

なお、上記した各測定では、プライマー層３を積層していない透明基材２のみを、工程（２）の条件の一軸延伸した、異方性（複屈折性）を有する透明基材２を用いた。

３．プライマー層の厚みおよび屈折率
プライマー層３の厚みおよび屈折率を、積層基材８（ハードコート層４がまだ配置される前の積層基材８）におけるプライマー層３を、Ｕ４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）により得られた反射スペクトルから、求めた。

４．ハードコート層の厚みの評価
ハードコート層４の厚みを、ＭＣＰＤ２０００（大塚電子（株）製）により、測定した。

１ ハードコートフィルム
２ 透明基材
３ プライマー層
４ ハードコート層
５ 光学調整層
６ 透明導電層
７ 透明導電性フィルム
８ 積層基材
ｓｘ 透明基材の遅相軸方向
ｓｙ 透明基材の進相軸方向
ｍｘ プライマー層の遅相軸方向
ｍｙ プライマー層の進相軸方向
ｎｓｘ 透明基材の遅相軸方向の屈折率
ｎｓｙ 透明基材の進相軸方向の屈折率
ｎｍｘ 中間層の遅相軸方向の屈折率
ｎｍｙ 中間層の進相軸方向の屈折率
ｎｈ ハードコート層の屈折率
Ｔｍ プライマー層の厚み

Claims (8)

1. 複屈折性を有する透明基材と、複屈折性を有する中間層と、ハードコート層とを順次備え、
   前記透明基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、
   前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘから、進相軸方向の屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）が、０．０５を超過し、
   前記中間層の遅相軸方向と、前記透明基材の遅相軸方向とは、実質的に同一方向であり、
   前記中間層の進相軸方向と、前記透明基材の進相軸方向とは、実質的に同一方向であり、
   さらに、下記式［１］および［２］を満足することを特徴とする、ハードコートフィルム。
   ｎｓｘ＞ｎｍｘ ［１］
   ｎｓｙ＞ｎｍｙ＞ｎｈ ［２］
   （式中、ｎｓｘは、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｍｘは、前記中間層の遅相軸方向の屈折率を示す。ｎｓｙは、前記透明基材の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｍｙは、前記中間層の進相軸方向の屈折率を示す。ｎｈは、前記ハードコート層の屈折率を示す。）
2. 前記透明基材は、１．８０以上の前記遅相軸方向の屈折率ｎｓｘを有することを特徴とする、請求項１に記載のハードコートフィルム。
3. 前記中間層が、プライマー層であり、
   前記中間層は、１０ｎｍ以上の厚みを有することを特徴とする、請求項１または２に記載のハードコートフィルム。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載のハードコートフィルムと、光学調整層と、透明導電層とを順次備えることを特徴とする、透明導電性フィルム。
5. 等方性の中間層を等方性の透明基材の厚み方向一方面に配置して、前記透明基材および前記中間層を備える積層基材を用意する工程（１）、
   前記積層基材を、下記の条件Ａを満足するように、延伸する工程（２）、および、
   ハードコート層を、前記積層基材における前記中間層の厚み方向一方面に、下記の条件Ｂを満足するように、配置する工程（３）
   を順次備えることを特徴とする、ハードコートフィルム製造方法。
   条件Ａ：延伸後の前記透明基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘから、進相軸方向の屈折率ｎｓｙを差し引いた値（ｎｓｘ−ｎｓｙ）が、０．０５を超過する。
   条件Ｂ：前記ハードコート層の屈折率ｎｈが、延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率ｎｍｙに比べて、小さい。
6. 前記工程（２）では、前記積層基材を、３倍以上に延伸することを特徴とする、請求項５に記載のハードコートフィルム製造方法。
7. 前記工程（２）では、下記の条件ＣおよびＤのいずれをも満足することを特徴とする、請求項５または６に記載のハードコートフィルム製造方法。
   条件Ｃ：延伸後の前記中間層の遅相軸方向の屈折率ｎｍｘが、延伸後の前記透明基材の遅相軸方向の屈折率ｎｓｘに比べて、小さい。
   条件Ｄ：延伸後の前記中間層の進相軸方向の屈折率ｎｍｙが、延伸後の前記透明基材の進相軸方向の屈折率ｎｓｙに比べて、小さい。
8. 前記工程（２）では、前記積層基材を一軸延伸することを特徴とする、請求項５〜７のいずれか一項に記載のハードコートフィルム製造方法。
   

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