JP2013257550A - 積層基材、積層体、偏光板、液晶表示パネルおよび画像表示装置 - Google Patents

積層基材、積層体、偏光板、液晶表示パネルおよび画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】面内の複屈折性を有する光透過性基材を含みながら干渉縞を目立たなくさせる積層基材を提供する。
【解決手段】積層基材11は、一方の面上に機能層15を形成される。積層基材は、面内複屈折性を有する光透過性基材12と、光透過性基材と積層され面内複屈折性を有する屈折率調整層13と、を含む。屈折率調整層は、光透過性基材と機能層との間に位置するようになる。光透過性基材の面内の遅相軸方向dxでの屈折率n1x、遅相軸方向dxでの屈折率調整層の屈折率n2x、遅相軸方向dxでの機能層の屈折率n3x、光透過性基材の進相軸方向dyでの屈折率n1y、進相軸方向dyでの屈折率調整層の屈折率n2y、および、進相軸方向dyでの機能層の屈折率n3yが、
1x<n2x<n3x、又は、n1x>n2x>n3x
1y<n2y<n3y、又は、n1y>n2y>n3yなる関係を満たす。
【選択図】図3

Description

本発明は、積層基材、積層体、偏光板、液晶表示パネルおよび画像表示装置に関する。
液晶表示装置、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等の画像表示装置における画像表示面上には、通常、直接または他の部材(例えばタッチパネルセンサ)を介して、所望の機能を発揮することを期待された機能層を有する積層体が設けられている。典型的な機能層として、耐擦傷性の向上を目的としたハードコート層が例示される。
また、機能層を支持する積層体の光透過性基材としては、複屈折性を有さない光学等方性のフィルム、典型的には、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられている。複屈折性を有するフィルムを、例えば液晶表示装置のような偏光を利用した表示装置の表示面へ適用した場合、色の異なるムラ(以下、「ニジムラ」とも呼ぶ)が視認されるといった不具合が生じてしまうからである。ただし、セルロースエステルフィルムは、耐湿熱性に劣ることや、高温多湿の環境下で使用した際に偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させてしまう、といった欠点がある。
このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを積層体の光透過性基材として用いることが望まれており、種々の研究がなされている。例えば特許文献1では、光源として白色発光ダイオードを用い、リタデーションが3000nm〜30000nmの高分子フィルムを偏光板の吸収軸と高分子フィルムの遅相軸とのなす角が45度となるように配して用いることで、サングラスなどの偏光板を通して画面を観察したとき、観察角度によらず、良好な視認性が確保できることが報告されている。
特開2011−107198号公報
しかしながら、特許文献1における好ましい高分子フィルムであるポリエステルやポリカーボネートフィルム上にハードコート層を形成した場合、ニジムラの発生を抑制することは可能となるものの、別の不具合として、干渉縞の不可視化が問題となる。ここで、干渉縞とは、機能層の表面で反射する光と、いったん機能層に入射して機能層と光透過性基材との界面で反射する光との干渉に起因して、部分的な虹彩状色彩が見られる現象であり、見る方向により強め合う波長が変わるために生じる現象である。この現象は、使用者にとって見づらいばかりか不快な印象を与える場合があり、改善が強く求められる。
干渉縞対策として、機能層と光透過性基材との屈折率差を低減し、機能層と光透過性基材との界面での反射率を低下させることが考えられる。しかしながら、光透過性基材が面内複屈折性を有し、そのリタデーション値が高い場合、コスト面等の観点から光透過性基材の厚さが厚くなってしまうことを回避しようとすると、光透過性基材の面内における遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率との屈折率差を大きくする必要が生じる。したがって、遅相軸方向および進相軸方向の両方向ともにおいて、機能層と光透過性基材との屈折率差を低減することが困難となり、結果として、干渉縞を十分に目立たなくさせることはできない。
本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、面内の複屈折性を有する光透過性基材を用いながら干渉縞を目立たなくさせることを目的とする。
本発明による積層基材は、
一方の面上に機能層を形成されて積層体をなす積層基材であって、
面内の複屈折性を有する光透過性基材と、
前記光透過性基材と積層され面内の複屈折性を有する屈折率調整層であって、前記光透過性基材と前記機能層との間に位置するようになる屈折率調整層と、を備え、
前記光透過性基材の面内における最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行となる方向における前記機能層の屈折率n3xが、
1x<n2x<n3x、又は、n1x>n2x>n3x
なる関係を満たし、
前記光透過性基材の前記遅相軸方向に直交する進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2y、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行となる方向における前記機能層の屈折率n3yが、
1y<n2y<n3y、又は、n1y>n2y>n3y
なる関係を満たす。
本発明による積層基材において、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2yが、
2x>n2y
なる関係を満たすようにしてもよい。
本発明による積層基材において、前記光透過性基材の前記遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2yが、
(n1x−n1y)>(n2x−n2y
なる関係を満たすようにしてもよい。
本発明による積層基材において、前記積層基材を法線方向から観察した場合に、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向と、によってなされる角度の大きさが、45°未満であるようにしてもよい。
本発明による積層基材において、前記光透過性基材の前記遅相軸方向が、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向と平行となっていてもよい。
本発明による積層基材において、前記光透過性基材の前記遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向における屈折率n2a、および、前記屈折率調整層の前記遅相軸方向に直交する前記屈折率調整層の進相軸方向における屈折率n2bが、
(n1x−n1y)>(n2a−n2b
なる関係を満たすようにしてもよい。
本発明による積層基材において、
前記光透過性基材の前記遅相軸方向における前記屈折率n1x、前記光透過性基材の前記遅相軸方向dxと平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、及び、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記機能層の屈折率n3xが、
=(n2x+n2y)/2、且つ
|n2x−((n1x+n3x)/2)|<|n−((n1x+n3x)/2)|
なる関係を満たし、
前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2y、及び、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記機能層の屈折率n3yが、
=(n2x+n2y)/2、且つ
|n2y−((n1y+n3y)/2)|<|n−((n1y+n3y)/2)|
なる関係を満たすようにしてもよい。
本発明による積層基材が、3000nm以上のリタデーションを有するようにしてもよい。
本発明による積層基材において、前記光透過性基材が、3000nm以上のリタデーションを有するようにしてもよい。
本発明による積層体は、
上述した本発明による積層基材のいずれかと、
前記積層基材の一方の面上に形成された機能層と、を備え、
前記屈折率調整層が、前記光透過性基材と前記機能層との間に位置している。
本発明による積層体において、前記機能層はハードコート層であってもよい。
本発明による積層体が、前記機能層の前記積層基材側とは反対側に設けられた第2機能層を、さらに備えるようにしてもよい。本発明による積層体において、前記第2機能層が前記機能層よりも低い屈折率を有する低屈折率層であってもよい。
本発明による偏光板は、
偏光素子と、
上述した本発明による積層基材のいずれか、または、上述した本発明による積層体のいずれか、請求項9〜12のいずれか一項に記載の積層体と、を備える。
本発明による偏光板は、上述した本発明による積層基材のいずれか、上述した本発明による積層体のいずれか、または、上述した本発明による偏光板のいずれかを、備える。
本発明による画像表示装置は、上述した本発明による積層基材のいずれか、上述した本発明による積層体のいずれか、または、上述した本発明による偏光板のいずれかを備える。
本発明によるタッチパネル装置は、タッチパネルセンサと、タッチパネルセンサ上に設けられた上述の本発明による積層基材のいずれか、上述の本発明による積層体のいずれか、または、上述の本発明による偏光板のいずれかを備える。
本発明によれば、機能層と面内の複屈折性を有する光透過性基材との間に、面内の複屈折性を有する屈折率調節層が設けられている。この屈折率調節層によって、機能層にいったん入射した光の反射率を低減することができる。これにより、干渉縞を目立たなくさせることができる。
図1は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、積層体の層構成を示す図である。 図2は、図1に対応する図であって、機能層の他の例の層構成を示す図である。 図3は、図1に示された積層体における屈折率の分布を説明するための図であって、積層体を模式的に示す斜視図である。 図4は、図1に示された積層基材における面内の複屈折性を説明するための図であって、積層基材を模式的に示す平面図である。 図5は、図1に示された積層体を含む偏光板の概略構成を示す図である。 図6は、図1に示された積層体を含む液晶表示パネルの概略構成を示す図である。 図7は、図1に示された積層体を含む表示装置の概略構成を示す図である。
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。図1〜図7は本発明の一実施の形態を説明するための図である。このうち、図1および図2は、積層基材および積層体を説明するための図である。図3および図4は、積層基材および積層体の屈折率の分布を説明するための図である。図5〜図7は、偏光板、液晶表示パネルおよび積層体の構成を示す模式図である。
≪積層基材および積層体≫
<積層基材および積層体の全体構成>
まず、積層基材11および積層体10の全体構成について説明する。図1に示すように、積層体10は、積層基材11と、積層基材11の一方の面上に形成された機能層15と、を有している。積層基材11は、光透過性基材12と、光透過性基材12と積層された屈折率調整層13と、を有している。積層体10内において、屈折率調整層13は、光透過性基材12と機能層15との間に位置する。すなわち、機能層15は、屈折率調整層13の側から積層基材11に積層されている。図示された例において、積層基材11内において、屈折率調整層13は、光透過性基材12の一方の面上に形成されている。すなわち、積層体10は、光透過性基材12、屈折率調整層13、機能層15の三つの層をこの順番で含むように構成されており、屈折率調整層13は、光透過性基材12および機能層15に隣接して配置され、光透過性基材12および機能層15との間で、それぞれ、界面を形成している。
なお、図2には、図1に示された積層体10の一変形例としての積層体が示されている。図2に示された積層体10では、機能層15の積層基材11に対面しない側の面上に第2機能層17が形成されている点において、図1の積層体10と異なっている。図1に示された積層体10では、機能層15が、積層基材11の一方の面上に形成されたハードコート層から構成されるようにしてもよい。一方、図2に示された積層体10では、機能層15が、積層基材11の一方の面上に形成されたハードコート層から構成されるとともに、第2機能層17が、ハードコート層の積層基材11とは逆側の面上に形成された低屈折率層から構成されるようにしてもよい。
積層基材11に含まれる光透過性基材12は、光学異方性であり、少なくとも面内の複屈折性を有している。また、積層基材11に含まれる屈折率調整層13も、光学異方性であり、少なくとも面内の複屈折性を有している。したがって、図3および図4に示すように、シート状の光透過性基材12のそのシート面に沿った直交する二つの方向における光透過性基材12の屈折率が相違する。同様に、シート状の屈折率調整層13のそのシート面に沿った直交する二つの方向における屈折率調整層13の屈折率が相違する。
なお、ここで「シート面(フィルム面、板面)」とは、対象となるシート状(フィルム状、板状)の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材の平面方向と一致する面のことを指す。一実施の形態として説明する例において、光透過性基材12のシート面、屈折率調整層13のシート面、機能層15のシート面、積層基材11のシート面、および、積層体10のシート面は、互いに平行となっている。
また、光透過性基材12や屈折率調整層13が面内の複屈折性を有しているか否かは、波長550nmの屈折率において、光透過性基材12または屈折率調整層13の面内における最大屈折率差Δn(シート面の沿った二つの方向の屈折率差の最大値)が、
Δn≧0.0005
なる条件を満たすか否かで判断する。すなわち、光透過性基材12の面内での最大屈折率差Δnが0.0005以上であれば、当該光透過性基材12は複屈折性を有しており、光透過性基材12の面内での最大屈折率差Δnが0.0005未満であれば、当該光透過性基材12は複屈折性を有していないと判断する。同様に、屈折率調整層13の面内での最大屈折率差Δnが0.0005以上であれば、当該屈折率調整層13は複屈折性を有しており、屈折率調整層13の面内での最大屈折率差Δnが0.0005未満であれば、当該屈折率調整層13は複屈折性を有していないと判断する。複屈折率は、王子計測機器社製KOBRA−WRを用いて、測定角0°かつ測定波長552.1nmに設定して、測定を行うことができる。この時、複屈折率算出には、膜厚、平均屈折率が必要となる。膜厚は、例えば、光透過性フィルムについては、マイクロメーター(Digimatic Micrometer、ミツトヨ社製)や、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定することができる。また、屈折率調整層13が薄膜層として形成されている場合には、TEM断面観察し、対象層の高さを、少なくとも10点以上測定し、平均値を膜厚として求められる。平均屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)や、日本分光(株)社製の「エリプソメーター」を用いて測定することができる。
一般的に等方性材料として知られる、トリアセチルセルロースから成るTD80UL−M(富士フィルム社製)、シクロオレフィンポリマーから成るZF16−100(日本ゼオン社製)の面内での最大屈折率差Δnは、上記測定方法により、それぞれ、0.0000375、0.00005であり、複屈折性を有していない(等方性である)と判断される。
ここで説明する積層体10では、光透過性基材12の面内における最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向dxにおける屈折率n1x、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における屈折率調整層の屈折率n2x、および、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行となる方向における機能層15の屈折率n3xが、
1x<n2x<n3x、又は、n1x>n2x>n3x
なる条件(a)を満たすようになっている。加えて、光透過性基材12の面内において遅相軸方向dxに直交する進相軸方向dyにおける屈折率n1y、光透過性基材11の進相軸方向dyと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2y、および、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行となる方向における機能層15の屈折率n3yが、
1y<n2y<n3y、又は、n1y>n2y>n3y
なる条件(b)を満たす。
すなわち、屈折率調整層13は、機能層15と複屈性を有した光透過性基材12との間に配置され、光透過性基材12の遅相軸方向dxおよび進相軸方向dyの両方向において屈折率を二段階に分けて変化させるようにしている。これにより、機能層15と複屈性を有した光透過性基材12との間には、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率が大きく変化する界面が存在せず、且つ、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率が大きく変化する界面も存在しないようになる。すなわち、機能層15と複屈性を有した光透過性基材12との間には、光透過性基材12の遅相軸方向dxおよび進相軸方向dyの両方向における屈折率差が小さく、このために反射率が低くなる界面しか、存在していない。
したがって、機能層15の側から積層体10に入射した光が、光透過性基材12に向けて進む間に、反射により進行方向を折り返すことを、効果的に防止することができる。これにより、機能層15の側から積層体10に入射する光のうち、機能層15の表面で反射する光と、機能層15と屈折率調整層13との界面または屈折率調整層13と光透過性基材12との界面で反射する光と、によって生じ得る干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
また、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2x、および、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2yが、
2x>n2y
なる条件(c)を満たすことが好ましい。この場合、機能層15と複屈性を有した光透過性基材12との間において、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率を二回にわけて少しずつ変化させることができ、且つ、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率も二回にわけて少しずつ変化させることができる。これにより、機能層15の側から積層体10に入射した光が、光透過性基材12に進む間に、反射により進行方向を折り返すことを、より効果的に防止することができる。この結果、干渉縞をより効果的に目立たなくさせることができる。
また、条件(c)が満たされる場合に、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率n1x、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率n1y、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2x、および、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2yが、
(n1x−n1y)>(n2x−n2y
なる条件(d)を満たすことがさらに好ましい。例えば、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における機能層15の屈折率n3x、および、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行な方向における機能層15の屈折率n3yが大きく相違しない場合、典型的には、機能層15が光学等方性であり、複屈性を有していない場合には、条件(c)及び条件(d)が満たされることによって、屈折率調整層13が必要以上に強い複屈折性を呈することなく、光透過性基材12の遅相軸方向dxおよび進相軸方向dyの両方向において、屈折率を少しずつ二回にわけて変化させることができる。これにより、機能層15の側から積層体10に入射した光が、光透過性基材12に進む間に、反射により進行方向を折り返すことを、さらに効果的に防止することができる。この結果、干渉縞をさらに効果的に目立たなくさせることができる。
また、図4に示すように、積層基材11を法線方向(積層基材11のシート面への法線方向)から観察した場合に、光透過性基材12の遅相軸方向dxと、屈折率調整層13の面内における最も屈折率が大きい方向である屈折率調整層13の遅相軸方向daと、によってなされる角度θの大きさが、45°未満であることが好ましい(条件(e))。この角度θが小さいほど、屈折率調整層13の面内での屈折率の大小の分布が、光透過性基材12の面内での屈折率の大小の分布と同傾向を示すようになる。すなわち、この角度θが45°未満の場合には、上述してきた光透過性基材12の遅相軸方向dxおよび進相軸方向dyの二方向だけでなく、光透過性基材12のシート面に沿った種々の方向における屈折率が、機能層15と光透過性基材12との間で、大きく変化することなく、二回に分けてしだいに変化していくようになる。とりわけ、この角度θが0°の場合、つまり、光透過性基材12の遅相軸方向dxと屈折率調整層13の遅相軸方向daとが平行な場合(条件(f))には、各方向における屈折率が、異なる方向の屈折率の変化と同様に傾向を呈しながら、機能層15と光透過性基材12との間で二回にわけてしだいに変化していく。これにより、機能層15の側から積層体10に入射した光が、光透過性基材12に進む間に、反射により進行方向を折り返すことを、極めて効果的に防止することができ、干渉縞を極めて効果的に目立たなくさせることができる。
ここで図4における光透過性基材12上に描かれた楕円は、光透過性基材12の屈折率の分布を示す屈折率楕円体の一例についての光透過性基材12上での断面を示している。同様に、図4における屈折率調整層13上に描かれた楕円は、屈折率調整層13の屈折率の分布を示す屈折率楕円体の一例についての屈折率調整層13上での断面を示している。
さらに、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率n1x、光透過性基材13の進相軸方向dyにおける屈折率n1y、屈折率調整層13の遅相軸方向daにおける屈折率n2a、および、屈折率調整層の進相軸方向dbにおける屈折率n2bが、
(n1x−n1y)>(n2a−n2b
なる条件(g)を満たすことが好ましい。条件(g)が満たされる場合、上述した条件(d)が満たされる場合と同様に、屈折率調整層13が必要以上に強い複屈折性を有することを防止することができ、これにより、干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
また、上述してきた条件(a)〜(g)の一以上とともに、光透過性基材12の面内平均屈折率n(n=(n1x+n1y)/2)、屈折率調整層13の面内平均屈折率n(n=(n2x+n2y)/2)、および、機能層15の面内平均屈折率n(n=(n3x+n3y)/2)が、
<n<n、又は、n>n>n
なる条件(h)を満たすことが好ましい。条件(h)が満たされる場合、屈折率調整層13に適度な複屈折性が付与され、これにより、干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
典型的な例として、光透過性基材12が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムから形成され、機能層15がハードコート層として機能する場合、光透過性基材12は、強い複屈折性を有し得るとともに、光透過性基材12の面内平均屈折率nが、機能層15の面内平均屈折率nに対して大きくなる。この場合、条件(h)が満たされることにより、屈折率調整層13は、機能層15の複屈折性の程度に応じた適切な程度で複屈折性を有するようにすることができ、干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
さらに、上述してきた条件(a)〜(h)の一以上とともに、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率n1x、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率n1y、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2x、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行な方向における屈折率調整層13の屈折率n2y、光透過性基材12の遅相軸方向dxと平行な方向における機能層15の屈折率n3x、及び、光透過性基材12の進相軸方向dyと平行な方向における機能層15の屈折率n3y、が、
|n2x-((n1x+n3x))/2)|<
|((n2x+n2y)/2)-((n1x+n3x)/2)|、
且つ、
|n2y-((n1y+n3y))/2)|<
|((n2x+n2y)/2)-((n1y+n3y)/2)|
なる条件(i)を満たすことが好ましい。条件(i)が満たされる場合、屈折率調整層13と光透過性基材12との間の屈折率差、並びに、屈折率調整層13と機能層15との間の屈折率差が、大きくなってしまうことを回避することができ、結果として、光透過性基材12から機能層15までの屈折率差を少しずつ変化させていくことができる。これにより、干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
ところで、面内の複屈折性の程度を表す指標として、リタデーションReが知られている。リタデーションReは、最も値が大きくなる遅相軸方向の屈折率nmax、最も値が小さくなる進相軸方向の屈折率nmin、および、厚みd(単位:nm)を用いて、次のように表される。
Re〔nm〕=(nmax−nmin)×d〔nm〕
特許文献1でも開示されているように、ニジムラを防止する観点からは、積層基材11が、3000nm以上のリタデーションを有していることが好ましい。また、条件(d)や条件(g)が満たされる場合には、光透過性基材12が、3000nm以上のリタデーションを有していることがさらに好ましい。リタデーションは、例えば、王子計測機器製KOBRA−WRを用いて、測定角0°且つ測定波長589.3nmに設定して、測定された値とすることができる。また、リタデーションは、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向軸方向(主軸の方向)を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率(n,ny)を、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって求めた。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。フィルム厚みd(nm)は、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定し、単位をnmに換算した。屈折率差(n−n)と、フィルムの厚みd(nm)の積より、リタデーションを計算することもできる。
光透過性基材12のリタデーションを3000nm以上とする観点からは、光透過性基材12の遅相軸方向の屈折率n1xと進相軸方向の屈折率n1yとの差(以下、「屈折率差Δn」とも表記する)は、0.05〜0.20となっていることが好ましい。上記屈折率差Δnが0.05未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなる。一方、上記屈折率差Δnが0.20を超えると、光透過性基材12に裂け、破れ等が生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下する。より好ましくは、上記屈折率差Δnの下限は0.07、上記屈折率差Δnの上限は0.15である。なお、上記屈折率差Δnが0.15を超える場合、光透過性基材12の種類によっては、耐湿熱性試験での光透過性基材12の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での優れた耐久性を確保する観点からは、上記屈折率差Δnのより好ましい上限は0.12である。
また、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率n1xとしては、1.60〜1.80であることが好ましく、より好ましい下限は1.65、より好ましい上限は1.75である。また、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率n1yとしては、1.50〜1.70であることが好ましく、より好ましい下限は1.55、より好ましい上限は1.62(1.65)である。光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率n1xおよび進相軸方向dyにおける屈折率n1yが上記範囲にあり、且つ、上述した屈折率差Δnの関係が満たされることで、より好適なニジムラの抑制効果を得ることができる。
ところで、屈折率は、分光光度計(島津製作所社製のUV−3100PC)を用いて、波長380〜780nmの平均反射率(R)を測定し、得られた平均反射率(R)から、以下の式を用いて特定される。機能層15の平均反射率(R)は、易接着処理のない厚さ50μmのPET上に原料組成物を塗布し、1〜3μmの厚さの硬化膜にし、PETの原料組成物を塗布しなかった面(裏面)に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ(例えば、ヤマトビニールテープNO200−38−21 38mm幅)を貼ってから各塗膜の平均反射率を測定することができる。光透過性基材12の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定することができる。 また、屈折率調整層13の屈折率は、積層基材11における測定面とは反対面、すなわち、光透過性基材12上に黒ビニールテープを貼ってから測定することができる。
R(%)=(1−n)/(1+n)
また、上述したアッベの屈折率計や、日本分光(株)製の「エリプソメーター M150」を用いて屈折率および複屈折率を測定することもできる。
さらに、面内における遅相軸方向の屈折率n及び面内における進相軸方向における屈折率nを測定する方法として、次の方法がある。まず、二枚の偏光板を用いて、測定対象(光透過性基材12又は屈折率調整層13)の配向軸方向(主軸の方向、すなわち、面内における遅相軸の方向および進相軸の方向)を特定する。次に、測定対象の裏面に黒ビニールテープ(例えば、ヤマトビニールテープNo200−38−21 38mm幅)を貼った後、分光光度計(V7100型、自動絶対反射率測定ユニット、VAR−7010 日本分光社製)を用い、偏光測定の条件をS偏光として、S偏光の振動方向と当該測定対象の遅相軸の方向とが平行となる場合の反射率を5回測定して平均値を算出し、また、S偏光の振動方向と当該測定対象の進相軸の方向とが平行となる場合の反射率を5回測定して平均値を算出する。S偏光の振動方向と測定対象の遅相軸の方向とが平行となる場合の反射率の平均値を、次の式の反射率R(%)として、測定対象の遅相軸方向における屈折率nを得ることができ、同様に、S偏光の振動方向と測定対象の進相軸の方向とが平行となる場合の反射率の平均値を、次の式の反射率R(%)として、測定対象の進相軸方向における屈折率nを得ることができる。
R(%)=(1−n)/(1+n)
また、積層体10となった後に機能層15の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、JISK7142(2008)B法(粉体または粒状の透明材料用)に従ったベッケ法(屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線;ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法)を用いることができる。光透過性基材12および屈折率調整層13については、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、積層基材11の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求める。
<光透過性基材>
次に、積層基材11の光透過性基材12について詳述する。光透過性基材12は、少なくとも面内位相差を有する可視光透過性を有した基材であれば特に限定されない。例えば、光透過性基材12として、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられる。このうち、ポリエステル基材は、コスト及び機械的強度の面において有利である。以下の説明では、ポリエステル基材を例にあげて、面内に複屈折率を有する光透過性基材12をより詳細に説明する。
上記ポリエステル基材を構成する材料としては、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルとすることができる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレン−2,6−ナフタレートを例示することができる。また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらの上記ポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体(例えば80モル%以上の成分)とし、少割合(例えば20モル%以下)の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−2,6−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。更に、PETは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
上記ポリエステル基材を得る方法としては、例えば、材料の上記PET等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。上記横延伸温度としては、80〜130℃が好ましく、より好ましくは90〜120℃である。また、横延伸倍率は2.5〜6.0倍が好ましく、より好ましくは3.0〜5.5倍である。上記横延伸倍率が6.0倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、延伸倍率が2.5倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、所望のリタデーションを得るための膜厚が厚くなってしまう。また、ポリエステル基材をシート状に押出し成形する際に、流れ方向(機械方向)への延伸、すなわち、縦方向延伸を行っても良い。この場合、上記屈折率差Δnの値を上述した好ましい範囲に安定して確保する観点から、上記縦延伸は、延伸倍率が2倍以下であることが好ましい。なお、押出し成形時に縦延伸させることに代えて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後に、縦延伸を行うようにしてもよい。また、上記熱処理時の処理温度はしては、100〜250℃が好ましく、より好ましくは180〜245℃である。
上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを3000nm以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
上記ポリエステル基材の厚みとしては、15〜500μmの範囲内であることが好ましい。15μm未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを3000nm以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、500μmを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は50μm、より好ましい上限は400μmであり、更により好ましい上限は300μmである。
また、光透過性基材12は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、84%以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、JISK7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
また、光透過性基材12には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
<屈折率調整層>
次に、屈折率調整層13について詳述する。屈折率調整層13は、上述した条件(a)〜(i)の一以上を満たすことにより、光透過性基材12と機能層15との間に存在する界面の屈折率差を低減し、当該界面での反射を抑制して干渉縞を目立たなくさせようとするものである。屈折率調整層13は、面内複屈折性を有し可視光透過性を有する層であれば、特に限定されない。また、屈折率調整層13は、光透過性基材12と機能層15との間で屈折率を調節すること以外の機能を有していてもよい。例えば、プライマー層、より具体的な例として、易接着層として機能するプライマー層に、面内屈折率差を付与することによって、当該プライマー層が屈折率調整層13を形成するようにしてもよい。
光透過性基材12上に形成される面内複屈折性を有した屈折率調整層13は、屈折率異方性を有する分子(例えば液晶分子)または化合物を配向させてなる層によって形成され得る。このような屈折率調整層13は、屈折率異方性分子または屈折率異方性化合物を含む組成物を光透過性基材12上に塗布し、当該組成物を硬化させることによって得られる。一例として、光透過性基材12が、延伸フィルム等からなり、規則性を持った分子配向を有している場合には、当該光透過性基材12上に塗布された液晶分子が、その性質上、光透過性基材12の分子配向に対応した規則性をもって配向されるようになり得る。これにより、得られた屈折率調整層13は、光透過性基材12の複屈折性に対応した面内複屈折性を有するようになり、この屈折率調整層13によって上述した条件(a)〜(i)が満たされ得る。なお、屈折率調整層13中に含まれる屈折率異方性分子や屈折率異方性化合物の配向をより安定させる観点からは、光透過性基材12の配向のみに依存するのではなく、ラビング配向や光配向により、屈折率調整層13中に含まれる屈折率異方性分子や屈折率異方性化合物を積極的に配向させるようにしてもよい。
また、別の方法として、樹脂層を延伸することによって、面内複屈折性を有した屈折率調整層13を得ることもできる。一般的に、温度等の条件を調節した上で、樹脂からなる層を延伸することにより、当該樹脂からなる層は面内複屈折性を呈するようになる。したがって、延伸前の光透過性基材12上に屈折率調整層13を作製し、光透過性基材12および屈折率調整層13を同時に延伸することにより、光透過性基材12に複屈折性を付与することができるとともに、光透過性基材12の複屈折性に対応した複屈折性を屈折率調整層13にも付与することができる。
より具体的には、まず、屈折率調整層13をなすようになる組成物を、上述した延伸前の光透過性基材12上に塗布し、当該組成物を光透過性基材12上で硬化させることによって屈折率調整層13が得られる。屈折率調整層13をなすようになる材料としては、延伸により複屈折性を示す樹脂材料を広く用いることができ、また、光透過性基材12に対する親和性が高いことが好ましい。熱可塑性または熱硬化性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、および、これらの変性体等が、屈折率調整層13をなす樹脂材料として、例示される。なお、屈折率調整層13をなすようになる組成物を塗布される光透過性基材12は、上述した種々の樹脂フィルムを用いることができるが、押し出し成形時に機械方向に低倍率で延伸された樹脂フィルムであることが好ましい。機械方向(光透過性基材12の押し出し成形時における押し出し方向)への延伸により光透過性基材12の平坦性が確保されるため、当該光透過性基材12上に形成される屈折率調整層13を均一化させることができる。
その後、光透過性基材12および光透過性基材12上に形成された屈折率調整層13を含む積層基材11を、ガラス転移点温度以上に加熱した状態で、機械方向と直交する横方向に延伸する。上述したように、横方向への延伸倍率が縦方向への延伸倍率と比較して非常に大きくなっている場合、光透過性基材12の延伸軸は概ね横方向に向き、一具体例としてポリエステルテレフタレートフィルムからなる光透過性基材12の遅相軸は概ね横方向に延びる。一方、屈折率調整層13は横方向にしか延伸されていない。したがって、屈折率調整層13が、光透過性基材12よりも複屈性を付与され難い樹脂材料から形成されていたとしても、光透過性基材12の複屈折性に対応した異方性での複屈折性を或る程度付与されることになる。
以上の方法によれば、光透過性基材12に複屈折性を付与するための延伸加工によって、光透過性基材12だけでなく、屈折率調整層13にも複屈折性を付与することができる。加えて、光透過性基材12と屈折率調整層13とが加熱された状態で延伸されるため、光透過性基材12と屈折率調整層13との接着性が向上するという利点を享受することができる。
屈折率調整層13の各屈折率n、n2x、n2y、n2a、n2b(図3および図4参照)については、既に説明したように、光透過性基材12の各屈折率n、n1x、n1yおよび機能層15の各屈折率n、n3x、n3yと関連をもって適宜設定され得る。一例として、光透過性基材12がポリエチレンテレフタレートフィルムからなり、機能層15がハードコート層として機能する場合、屈折率調整層13の上記屈折率nを、1.50〜1.70とすることができ、屈折率調整層13の上記屈折率n2xを、1.55〜1.75とすることができ、屈折率調整層13の上記屈折率n2yを、1.45〜1.65とすることができ、屈折率調整層13の上記屈折率n2aを、1.51〜1.69とすることができ、屈折率調整層13の上記屈折率n2bを、1.46〜1.64とすることができる。
屈折率調整層13の厚みは、30nm以上10μm以下とすることができる。屈折率調整層13の厚みが30nm未満になると、屈折率調整層13の均一性が低下してしまう。また、屈折率調整層13の厚みの上限は、屈折率調整層13の機能上、特に設定されるものではないが、工業上の理由から1μm以下に設定されることが好ましい。
なお、屈折率調整層13の厚み(硬化時)は、例えば、屈折率調整層13の断面を、電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察することにより得られた任意の10点の測定値の平均値(nm)として、特定され得る。屈折率調整層13の厚みが非常に薄い場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定することができる。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を2等分した中心部分を境界線として測定すればよい。
<機能層、第2機能層>
次に、機能層15および第2機能層17について説明する。機能層15および第2機能層17は、積層体10において、何らかの機能を発揮することを意図された層であり、具体的には、例えば、ハードコート性、反射防止性、帯電防止性、または防汚性等の機能を発揮する層が挙げられる。既に説明したように、積層体10に含まれる機能層の数は、当該積層体の用途等に応じて、一以上の任意の数とすることができる。図1に示された積層体10では、機能層15が、積層基材11の一方の面上に形成されたハードコート層から構成されている。また、図2に示された積層体10では、機能層15が、積層基材11の一方の面上に形成されたハードコート層から構成されるとともに、第2機能層17が、ハードコート層の積層基材11とは逆側の面上に形成された低屈折率層から構成されている。以下、機能層15としてのハードコート層、および、第2機能層17としての低屈折率層について、説明する。
ハードコート層とは、光学フィルムの耐擦傷性を向上させるための層であり、具体的には、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で「H」以上の硬度を有する層であることが好ましい。ハードコート層は、一例として、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層形成用組成物を積層基材11上に塗布し、積層基材11上でハードコート層形成用組成物を硬化させることによって、作製され得る。この方法で得られたハードコート層は、光学等方性となり、面内複屈折性を有さない。したがって、このハードコート層からなる機能層15の上記屈折率n、n3x、n3yは同じ値となる。具体的には、ハードコート層からなる機能層15の上記屈折率n、n3x、n3yを、それぞれ、1.45〜1.65とすることができる。ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.5〜20μmの範囲である。上記ハードコート層の膜厚は、断面を電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察し、測定した値である。
ハードコート層形成用組成物の上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)、等を挙げることができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
また、上記ハードコート層形成用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、上記光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。
上記光重合開始剤としては、上記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物にける上記光重合開始剤の含有量は、上記電離放射線硬化型樹脂100質量部に対して、1〜10質量部であることが好ましい。1質量部未満であると、積層体10におけるハードコート層の硬度を十分な硬さとすることができないことがあり、10質量部を超えると、塗設した膜の深部まで電離放射線が届かなくなり内部硬化が促進されないおそれがあるためである。上記光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は2質量部であり、より好ましい上限は8質量部である。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
上記ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有していてもよい。上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、水、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
上記ハードコート層形成用組成物中における原料の含有割合(固形分)として特に限定されないが、通常は5〜70質量%、特に25〜60質量%とすることが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。
また、上記ハードコート層形成用組成物は、光増感剤を混合して用いてもよく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等が挙げられる。
上記ハードコート層形成用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
また、上記ハードコート層形成用組成物を積層基材11上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
上記積層基材11上に上記ハードコート層形成用組成物を塗布して形成した塗膜は、必要に応じて加熱及び/又は乾燥し、活性エネルギー線照射等により硬化させることが好ましい。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
次に低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が積層体10の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。上記低屈折率層は、その屈折率がハードコート層よりも小さく、かつ、空気よりも大きいものである。具体的には、低屈折率層の屈折率は、1.1〜2.0の範囲内であることが好ましく、1.2〜1.8の範囲内であることがより好ましく、1.3〜1.6の範囲内であることがさらに好ましい。低屈折率層の屈折率が上記範囲内である場合、積層体10への映り込みを効果的防止することができる。また、低屈折率層の屈折率は、低屈折率層内にて、積層体10の内部の側から、積層体10の表面の側に向かって、なだらかに屈折率が空気の屈折率に向かって変化しているものであってもよい。
上記低屈折率層に用いられる材料としては、上述した屈折率を有する低屈折率層を形成できるものであれば特に限定されず、例えば、上述したハードコート層形成用組成物で説明した樹脂材料を含有することが好ましい。また上記低屈折率層は、上記樹脂材料に加えて、シリコーン含有共重合体、フッ素含有共重合体及び、微粒子を含有することで屈折率を調整することができる。上記シリコーン含有共重合体としては、例えば、シリコーン含有ビニリデン共重合体が挙げられる。また、上記フッ素含有共重合体の具体例としては、例えば、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。また、上記微粒子としては、例えば、シリカ微粒子、アクリル微粒子、スチレン微粒子、アクリルスチレン共重合微粒子、空隙を有する微粒子が挙げられえる。なお、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。
なお、ここでは、機能層15がハードコート層として構成され、第2機能層17が低屈折率層として構成された例を示したが、これらの例に限られず、積層体10が、ハードコート層および低屈折率層の少なくとも一方に加えて或いはハードコート層および低屈折率層の少なくとも一方に代えて、耐電防止層、防眩層、防汚層等の他の機能を有した層を含むようにしてもよい。
帯電防止層は、例えば、上記ハードコート層形成用組成物中に帯電防止剤を含有させることで形成することができる。上記帯電防止剤としては従来公知のものを用いることができ、例えば、第4級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤や、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の微粒子や、導電性ポリマー等を用いることができる。上記帯電防止剤を用いる場合、その含有量は、全固形分の合計質量に対して1〜30質量%であることが好ましい。
また、防眩層は、例えば、上記ハードコート層形成用組成物中に防眩剤を含有させることで形成することができる。上記防眩剤としては特に限定されず、公知の無機系又は有機系の各種微粒子を用いることができる。上記微粒子の平均粒径としては特に限定されないが、一般的には、0.01〜20μm程度とすれば良い。また、上記微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。
上記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性の微粒子である。このような微粒子の具体例としては、無機系であれば、例えば、シリカビーズ、有機系であれば、例えば、プラスチックビーズが挙げられる。上記プラスチックビーズの具体例としては、例えば、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
上記防汚層は、液晶表示装置の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。また、上記防汚層の形成により、液晶表示装置に対して防汚性と耐擦傷性の改善を図ることも可能となる。上記防汚層は、例えば、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。
上記防汚染剤は、液晶表示装置の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、液晶表示装置に耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、例えば、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又は、これらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述のハードコート層形成用組成物で例示した樹脂材料が挙げられる。
上記防汚層は、例えば、上述のハードコート層の上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが好ましい。上記防汚層は、例えばハードコート層自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。
<積層基材および積層体について>
一実施の形態として以上に説明してきた積層基材11および積層体10によれば、積層基材11上に設けられた機能層15と、積層基材11の光透過性基材12との間に、屈折率調整層13が設けられている。この屈折率調整層13の屈折率は、面内複屈折性を有しており、同様に面内複屈折性を有する光透過性基材12の遅相軸方向dxおよび進相軸方向dyの両方向に沿った屈折率を、光透過性基材12と機能層15との間で調整している。より具体的には、光透過性基材12と機能層15との間に、光透過性基材12の遅相軸方向dxにおける屈折率が大きく変化する光学界面が存在せず、且つ、光透過性基材12の進相軸方向dyにおける屈折率が大きく変化する光学界面も存在しないようになっている。すなわち、光透過性基材12と機能層15との間に、屈折率差が大きいことから反射率が高くなってしまう界面が存在しないようになる。したがって、機能層15の側から積層体10内に入射したが光が、面内複屈折性を有した光透過性基材12に到達するまでに反射してしまうことを効果的に防止することができる。これにより、積層体10の表面で反射する光と、積層体10の内部で反射する光と、の干渉に起因して視認され得るようになる干渉縞を効果的に目立たなくさせることができる。
また、光透過性基材12のリタデーションを3000nm以上に設定することにより、ニジムラを目立たなくさせることができる。したがって、ここで説明した積層基材11および積層体10によれば、ニジムラおよび干渉縞の両方を効果的に目立たなくさせることができる。
さらに、屈折率調整層13がプライマー層によって実現されるようにすれば、実質的な材料費の増加や製造工程の増加等を生じさせることなく、上述した有用な作用効果を確保することができる。ただしこのような例に限られず、光透過性基材12と屈折率調整層13との間、および、屈折率調整層13と機能層15との間の少なくとも一方に、厚さが30nm未満のプライマー層を、屈折率調整層13とは別途に設けるようにしてもよい。厚さが30nm未満のプライマー層を設けた場合においても、上述した屈折率調整層13による干渉縞を目立たなくさせる作用効果が有効に発揮され、さらに、例えばプライマー層に起因した易接着作用を期待することができる。
≪偏光板≫
積層基材11および積層体10は、例えば、偏光板20に組み込んで使用することができる。図5は、図1に示された積層体10および積層基材11を組み込んだ偏光板20の概略構成図である。図5に示されるように偏光板20は、積層体10と、偏光素子21と、保護フィルム22とを備えている。偏光素子21は、積層基材11における機能層15が形成されている面とは反対側の面に形成されている。保護フィルム22は、偏光素子21の積層体10が設けられている面とは反対側の面に設けられている。保護フィルム22は位相差フィルムであってもよい。
偏光素子21としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等が挙げられる。
≪液晶表示パネル≫
積層基材11、積層体10および偏光板20は、液晶表示パネルに組み込んで使用することができる。図6は、図1に示された積層体10および積層基材11、並びに、図5に示された偏光板20を組み込んだ液晶表示パネル30の概略構成図である。
図6に示される液晶表示パネルは、光源側(バックライトユニット側)から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等の保護フィルム31、偏光素子32、位相差フィルム33、接着剤層34、液晶セル35、接着剤層36、位相差フィルム37、偏光素子21、積層体10の順に積層された構造を有している。液晶セル35は、2枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。
位相差フィルム33、37としては、トリアセチルセルロースフィルムやシクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。位相差フィルム37は、保護フィルム22と同一であってもよい。接着剤層34、36を構成する接着剤としては、感圧接着剤(PSA)が挙げられる。
≪画像表示装置≫
積層基材11、積層体10、偏光板20、液晶表示パネル30は、画像表示装置に組み込んで使用することができる。画像表示装置としては、例えば液晶ディスプレイ(LCD)、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル、タブレットPC、電子ペーパー等が挙げられる。図7は、図1に示された積層体10および積層基材11、図5に示された偏光板20、並びに、図6に示された液晶表示パネル30を組み込んだ画像表示装置40の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。
図7に示される画像表示装置40は、液晶ディスプレイである。画像表示装置30は、バックライトユニット41と、バックライトユニット41よりも観察者側に配置された、積層体10を備える液晶表示パネル30とから構成されている。バックライトユニット41としては、公知のバックライトユニットが使用できる。
≪その他の用途≫
また、上述した積層基材11および積層体10は、画像表示装置30の表示面上に直接配置される用途以外の用途として、タッチパネルセンサを介して画像表示装置30上に設けられるようにしてもよい。この例においては、予めタッチパネルセンサ上に直接或いはたの部材を介して積層基材11又は積層体10を配置してなるタッチパネル装置を用意しておき、このタッチパネル装置を画像表示装置上に設けるようにしてもよい。
さらに、上述した積層基材11および積層体10は、干渉縞の発生が回避されるべき種々の用途で使用され得る。例えば、積層基材11および積層体10が、時計や、メーター類等の機器の表示部の窓材としても使用され得る。
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。
以下に説明するようにして、実施例1および2、並びに、比較例1に係る積層体を作製した。作製された各積層体について、干渉縞の発生およびニジムラの発生を調査した。
(実施例1)
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置(東洋精機製)にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、その延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、n1x=1.70、n1y=1.60、膜厚80μm、リタデーション=8000nmの光透過性基材を得た。
光透過性基材上に光重合性液晶化合物を、シクロヘキサノンとn−プロピルアルコールの混合溶媒(溶媒比9:1)に20質量%溶解させ、光重合開始剤Irg184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株))を固形分に対して5%添加したインキを、バーコーターにより、乾燥後の膜厚が0.5μmとなるように、塗工した。次いで、70℃で4分間加熱して溶剤を乾燥除去すると共に、該光重合性液晶化合物を配向させ、さらに、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して、n2x=1.60、n2y=1.55の屈折率調整層を積層した。
次に、機能層として、光学的に等方性である、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を、MIBK溶媒に30質量%溶解させ、光重合開始剤Irg184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株))を固形分に対して5%添加したインキを、バーコーターにより、乾燥後の膜厚が5μmとなるように塗工した。次いで、70℃で2分間加熱して、溶剤を除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、固定化し、n3x=n3y=1.50の機能層を積層し、実施例1に係る積層体を得た。
(実施例2)
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置(東洋精機製)にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、その延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、n1x=1.70、n1y=1.60、膜厚33μm、リタデーション=3300nmの光透過性基材を得た。得られた光透過性基材上に、実施例1と同様にして屈折率調整層及び機能層を形成して、実施例2に係る積層体を得た。すなわち、実施例2に係る積層体は、実施例1に係る積層体と、光透過性基材の厚みが異なっている。
(比較例1)
実施例1の屈折率調整層の変わりに、ペンタエリスリトールトリアクリレート:五酸化アンチモン=7:3からなる中間層を用いた以外は、実施例1に係る積層体と同様の方法にて、比較例1に係る積層体を作製した。比較例1に係る積層体の中間層は光学的に等方性であり、n2x=n2y=1.575であった。
(参考例1)
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置(東洋精機製)にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、その延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、n1x=1.70、n1y=1.60、膜厚28μm、リタデーション=2800nmの光透過性基材を得た。得られた光透過性基材上に、実施例1と同様にして屈折率調整層及び機能層を形成して、参考例1に係る積層体を得た。すなわち、実施例2に係る積層体は、実施例1に係る積層体と、光透過性基材の厚みが異なっている。
(光透過基材の屈折率とリタデーションの測定)
光透過基材の屈折率とリタデーションは、次のようにして測定した。まず、延伸後の光透過基材を、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の波長590nmに対する屈折率(nx,ny)を、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって求めた。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。フィルム厚みd(nm)は、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定し、単位をnmに換算した。屈折率差(n1x−n1y)と、フィルムの厚みd(nm)の積より、リタデーションを計算した。
(屈折率調整層の屈折率の測定)
屈折率調整層の屈折率は、次のようにして測定した。実施例1および2に用いた光重合性液晶化合物の場合、光学的に等方性であるガラス基板上に、配向膜材料であるポリイミドを塗布し、ラビング処理を施す。この基材上に光重合性液晶化合物を、シクロヘキサノンとn−プロピルアルコールの混合溶媒(溶媒比9:1)に20質量%溶解させたインキを、スピンコーターにより、乾燥後の膜厚が1umとなるように、塗布した。次いで、70℃で4分間加熱して溶剤を乾燥除去すると共に、該光重合性液晶化合物を配向させ、さらに、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して得た屈折率調整層を、光透過基材と同様の方法にて、屈折率を測定した。
(複屈折を有するか否かの判断)
複屈折を有するか否かは、次のようにして判断した。王子計測機器製KOBRA−WRを用いて、測定角0°且つ測定波長589.3nmに設定して、面内位相差を測定し、面内位相差が20nm未満のものは、複屈折を有さないと判断し、20nm以上のものは、複屈折を有すると判断した。
(等方性である材料の屈折率測定)
等方性である材料(中間層および機能層)の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって測定した。
(干渉縞評価)
各積層体における干渉縞の発生を次のようにして評価した。フナテック社製の干渉縞検査ランプ(Naランプ)を用い、目視にて得られた防眩性フィルムの干渉縞の有無を検査し、下記基準で評価した。得られた防眩性フィルムは、塗工面の反対側を黒インキで塗りつぶし、塗工面に干渉縞検査ランプをあて、反射観察にて評価を行った。
○:干渉縞が観察されるが、極めて薄く、実使用上問題ないレベル。
×:干渉縞がはっきり観察される。
(ニジムラ評価)
各サンプルにおけるニジムラの発生を次のようにして評価した。各積層基材を、LEDバックライト液晶モニター(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社製))の観察者側の偏光素子上に配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光素子の吸収軸とのなす角度が45°となるように配置した。そして、暗所及び明所(液晶モニター周辺照度400ルクス)にて、正面及び斜め方向(約50度)から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は10人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
◎:ニジムラが観測されない
○:ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×:ニジムラが強く観測される
干渉縞およびニジムラの評価結果を表1に示す。
Figure 2013257550

Claims (16)

  1. 一方の面上に機能層を形成されて積層体をなす積層基材であって、
    面内の複屈折性を有する光透過性基材と、
    前記光透過性基材と積層され面内の複屈折性を有する屈折率調整層であって、前記光透過性基材と前記機能層との間に位置するようになる屈折率調整層と、を備え、
    前記光透過性基材の面内における最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行となる方向における前記機能層の屈折率n3xが、
    1x<n2x<n3x、又は、n1x>n2x>n3x
    なる関係を満たし、
    前記光透過性基材の前記遅相軸方向に直交する進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2y、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行となる方向における前記機能層の屈折率n3yが、
    1y<n2y<n3y、又は、n1y>n2y>n3y
    なる関係を満たす、積層基材。
  2. 前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2yが、
    2x>n2y
    なる関係を満たす、請求項1に記載の積層基材。
  3. 前記光透過性基材の前記遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、および、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2yが、
    (n1x−n1y)>(n2x−n2y
    なる関係を満たす、請求項2に記載の積層基材。
  4. 前記積層基材を法線方向から観察した場合に、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向と、によってなされる角度の大きさが、45°未満である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層基材。
  5. 前記光透過性基材の前記遅相軸方向が、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向と平行となっている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層基材。
  6. 前記光透過性基材の前記遅相軸方向における屈折率n1x、前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記屈折率調整層の面内における最も屈折率が大きい方向である前記屈折率調整層の遅相軸方向における屈折率n2a、および、前記屈折率調整層の前記遅相軸方向に直交する前記屈折率調整層の進相軸方向における屈折率n2bが、
    (n1x−n1y)>(n2a−n2b
    なる関係を満たす、請求項4または5に記載の積層基材。
  7. 前記光透過性基材の前記遅相軸方向における前記屈折率n1x、前記光透過性基材の前記遅相軸方向dxと平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2x、及び、前記光透過性基材の前記遅相軸方向と平行な方向における前記機能層の屈折率n3xが、
    =(n2x+n2y)/2、且つ
    |n2x−((n1x+n3x)/2)|<|n−((n1x+n3x)/2)|
    なる関係を満たし、
    前記光透過性基材の前記進相軸方向における屈折率n1y、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記屈折率調整層の屈折率n2y、及び、前記光透過性基材の前記進相軸方向と平行な方向における前記機能層の屈折率n3yが、
    =(n2x+n2y)/2、且つ
    |n2y−((n1y+n3y)/2)|<|n−((n1y+n3y)/2)|
    なる関係を満たす、請求項1〜6のいずれか一項に記載の積層基材。
  8. 前記積層基材が、3000nm以上のリタデーションを有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の積層基材。
  9. 前記光透過性基材が、3000nm以上のリタデーションを有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の積層基材。
  10. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層基材と、
    前記積層基材の一方の面上に形成された機能層と、を備え、
    前記屈折率調整層が、前記光透過性基材と前記機能層との間に位置している、積層体。
  11. 前記機能層は、ハードコート層である、請求項10に記載の積層体。
  12. 前記機能層の前記積層基材側とは反対側に設けられた第2機能層を、さらに備える請求項10または11に記載の積層体。
  13. 前記第2機能層が、前記機能層よりも低い屈折率を有する低屈折率層である、請求項12に記載の積層体。
  14. 偏光素子と、
    請求項1〜9のいずれか一項に記載の積層基材または請求項10〜13のいずれか一項に記載の積層体と、を備える、偏光板。
  15. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の積層基材、請求項10〜13のいずれか一項に記載の積層体、または、請求項14の偏光板を備える、液晶表示パネル。
  16. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の積層基材、請求項10〜13のいずれか一項に記載の積層体、または、請求項14の偏光板を備える、画像表示装置。
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