JP6944475B2 - タッチセンサー - Google Patents

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Description

本発明は、タッチセンサーに関する。より詳しくは、本発明は、透明電極に視認性及び光透過率の改善のために複数の微細蝕刻パターンに区分された単位透明電極を形成することで、透明電極が形成されている電極領域とそうではない電極間領域との光学特性の差により透明電極がユーザに不必要に視認されないようにすると同時に、透明電極による光透過率の低下現象を防止し得るタッチセンサーに関する。
タッチセンサーは、ユーザが画面にディスプレイされる画像を指やタッチペンなどで接触する場合、この接触に反応してタッチ地点を把握する装置であって、液晶表示パネル（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、有機ＥＬ（Ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）などのようなディスプレイ装置に装着される構造で製作される。
一般に、タッチセンサーには、ユーザのタッチ動作を感知するための構成要素として互いに交差する方向に形成された透明電極を含むタッチ感知領域が備えられるが、このタッチ感知領域は、透明電極が存在する電極領域と存在しない電極間領域とに区分される。
このような電極領域と電極間領域は、透過率、反射率を含む光学特性が互いに異なっているため、電極領域と電極間領域とが区別されてユーザに不必要に視認される問題点が発生する。
また、電極間領域と比較して電極領域の透過率が相対的に低いので、タッチセンサーを構成するパターンがユーザに視認されるという問題点が発生する。
従来のこのような問題点をより具体的に説明すると、次の通りである。
図１は、従来のタッチセンサーの断面図であり、図２は、図１に示した従来のタッチセンサーの例示的な上面形状を示した図であり、図３は、図１に示した従来のタッチセンサーにおいて、透明電極により発生する空間周波数（ｓｐａｔｉａｌ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）の低周波成分により透明電極がユーザに視認される原理を説明するための図である。図３の空間周波数の単位は、ＣＰＤ（Ｃｙｃｌｅ Ｐｅｒ Ｄｅｇｒｅｅ）である。
図１〜図３を参照すると、従来のタッチセンサーは、基板１に第１方向に沿って形成されたＩＴＯ材質の第１感知電極２、第１方向と交差する第２方向に沿って形成されたＩＴＯ材質の第２感知電極３、第１感知電極２と第２感知電極３を絶縁する絶縁層４、２個の第２感知電極３を連結するＩＴＯ材質のブリッジパターン５、素子保護層６で構成される。図２の（ａ）は、第１感知電極２と第２感知電極３の例示的な上面形状であり、図２の（ｂ）は、第１感知電極２と第２感知電極３以外にさらにブリッジパターン５が形成された状態の例示的な上面形状である。
このような従来のタッチセンサーにおいて、ＩＴＯは、厚さによって透過率／反射率及び透過／反射の色感などの光学特性の差が発生する。これによって、ＩＴＯが形成されている電極領域とそうではない電極間領域との光学特性の差が発生し、透過光及び反射光によりＩＴＯパターンがユーザの目に視認される問題点が発生する。
また、チャンネル抵抗を確保するためにブリッジパターン５には、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）が大きくて厚さが厚いＩＴＯが適用されるので、外部光の照射時にブリッジパターン５がユーザの目に視認される問題点が発生する。
このような視認性低下現象の主要な原因は、第１感知電極２、第２感知電極３、ブリッジパターン５により発生する空間周波数の低周波成分による。すなわち、タッチセンサーには、第１感知電極２、第２感知電極３、ブリッジパターン５が一定の空間的な周期で繰り返されるように形成されているので、外部光がタッチセンサーに照射される場合、第１感知電極２、第２感知電極３、ブリッジパターン５の空間的な分布周期性に対応する空間周波数の低周波成分が強化され、それに起因して第１感知電極２、第２感知電極３、ブリッジパターン５を構成するＩＴＯ自体及びＩＴＯのエッジ（ｅｄｇｅ）領域がユーザの目に不必要に視認されるという問題点が発生する。
大韓民国公開特許公報第１０−２０１４−００５１６４９号（公開日：２０１４年０５月０２日、名称：メタルメッシュ型タッチスクリーンパネル）
本発明は、透明電極に視認性及び光透過率の改善のための微細蝕刻パターンを形成することで、透明電極が形成されている電極領域とそうではない電極間領域との光学特性の差により透明電極がユーザに不必要に視認されないようにすると同時に、透明電極による光透過率の低下現象を防止することを技術的課題とする。
また、本発明は、透明電極に形成された微細蝕刻パターンを用いて透明電極により誘発される空間周波数の低周波成分をユーザの目に視認されない高周波成分に変換することで、タッチセンサーの視認性特性を向上させると同時に光透過率を上昇させることを技術的課題とする。
このような技術的課題を解決するための本発明の第１側面によるタッチセンサーは、基板上に第１方向に形成された第１感知電極部及び前記基板上に第１方向と交差する第２方向に形成された第２感知電極部を含み、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
本発明の第２側面によるタッチセンサーは、基板上に第１方向に沿って互いに連結されるように形成された第１感知電極部、前記基板上に第１方向と交差する第２方向に沿って互いに分離されるように形成された第２感知電極部、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部が形成された基板上に前記第２感知電極部の少なくとも一部がスルーホールを介して露出するように形成された絶縁層及び、前記スルーホールを満たしつつ前記絶縁層上に形成されて前記第１感知電極部を間に置いて隣接している２個の第２感知電極部を連結するブリッジ電極部を含み、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
本発明の第３側面によるタッチセンサーは、基板上に第１方向に沿って互いに連結されるように形成された第１感知電極部、前記第１感知電極部が形成された基板上に形成された絶縁層及び前記絶縁層上に前記第１方向と交差する第２方向に沿って互いに連結されるように形成された第２感知電極部を含み、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記微細蝕刻パターンにより区分される複数の単位透明電極は、テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有することを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記単位透明電極は、六角形又は三角形又は四角形の形状を有することを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記単位透明電極のピッチは、１００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記微細蝕刻パターンの幅は、５μｍ〜２０μｍであることを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、隣接する単位透明電極を連結する連結部の幅は、２０μｍ〜６０μｍであることを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンにより前記第１感知電極部と前記第２感知電極部の透過率が上昇することを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記複数の微細蝕刻パターンにより前記単位透明電極を形成し、それぞれの単位透明電極を構成する微細蝕刻パターンと同一の形状で前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を区分し、タッチセンサーの全面に空間的な高周波成分を配置したことを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部との間に形成されており、前記単位透明電極と同一の形状を有するが、前記単位透明電極と電気的に絶縁されている電極間ダミーをさらに含むことを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記第１感知電極部と前記第２感知電極部との間に前記微細蝕刻パターンと同一の空間周波数を有する複数のダミーパターンを挿入してタッチセンサーの全面に同一の高周波成分を配置することで、タッチセンサーの全面に配置された同一の高周波成分によりタッチセンサーのパターンが視認されないことを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記基板上に形成された分離層をさらに含むことを特徴とする。
本発明の第１〜第３側面によるタッチセンサーにおいて、前記分離層上に形成された内部保護層をさらに含むことを特徴とする。
本発明によると、透明電極に視認性及び光透過率の改善のための微細蝕刻パターンを形成することで、透明電極が形成されている電極領域とそうではない電極間領域との光学特性の差により透明電極がユーザに不必要に視認されないようにすると同時に、透明電極による光透過率の低下現象を防止することができる。
また、透明電極に形成された微細蝕刻パターンを用いて透明電極により誘発される空間周波数の低周波成分をユーザの目に視認されない高周波成分に変換することで、タッチセンサーの視認性の特性を向上させると同時に光透過率を上昇させ得る効果がある。
図１は、従来のタッチセンサーの断面図である。 図２は、図１に示した従来のタッチセンサーの例示的な上面形状を示した図である。 図３は、図１に示した従来のタッチセンサーにおいて、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分により透明電極がユーザに視認される原理を説明するための図である。 図４は、本発明の第１実施例によるタッチセンサーの例示的な断面図である。 図５は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が六角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図６は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が六角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図７は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が三角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図８は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が三角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図９は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が四角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図１０は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が四角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図１１は、本発明の第２実施例によるタッチセンサーの例示的な断面図である。 図１２は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が六角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図１３は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が六角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図１４は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が三角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図１５は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が三角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図１６は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が四角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。 図１７は、本発明の第２実施例において、単位透明電極が四角形である場合の他の例示的な平面形状を示した図である。 図１８は、本発明の実施例によるタッチセンサーにおいて、単位透明電極及び単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンの例示的な平面形状を示した図である。 図１９は、本発明の実施例によるタッチセンサーにおいて、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分が単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンによりユーザに視認されない高周波成分に変換される原理を説明するための図である。
本明細書に開示されている本発明の概念による実施例に対する特定の構造的又は機能的説明は、本発明の概念による実施例を説明するための目的で例示されたものであって、本発明の概念による実施例は、多様な形態で実施でき、本明細書に説明された実施例に限定されない。
本発明の概念による実施例は、多様な変更を加えることができ、種々の形態を有することができるので、その実施例を図面に例示して本明細書で詳細に説明する。しかし、これは本発明の概念による実施例を特定の開示形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物、又は代替物を含む。
第１又は第２などの用語は、多様な構成要素を説明するために使用されるが、前記構成要素は前記用語によって限定されてはならない。上記用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するためのものであり、例えば、本発明の概念による権利範囲から逸脱しない限り、第１構成要素は第２構成要素と命名することができ、同様に第２構成要素は第１構成要素と命名することができる。
ある構成要素が他の構成要素に「連結」又は「接続」されていると記載された場合、ある構成要素が他の構成要素に直接的に連結または接続されていてもよいが、各構成要素の中間にさらに他の構成要素が存在してもよいと理解されるべきである。一方、ある構成要素が他の構成要素に「直接連結」又は「直接接続」されていると記載された場合は、各構成要素の中間にさらに他の構成要素は存在しないと理解されるべきである。構成要素間の関係を説明する他の表現、すなわち、「の間に」と「直ちに〜の間に」又は「に隣接する」と「に直接隣接する」なども同様に解釈されるべきである。
本明細書で使用した用語は、特定の実施例を説明するためのもので、本発明を限定するものではない。単数の表現は文脈上明白に異なるように定義しない限り、複数の表現を含む。本明細書において、「含む」又は「有する」などの用語は、本明細書に記載した特徴、数字、ステップ、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定するためのものであって、一つ又はそれ以上の他の特徴や数字、ステップ、動作、構成要素、部分品又はこれらを組み合わせたものなどの存在又は付加の可能性を予め排除しないと理解されるべきである。
別途に定義しない限り、技術的や科学的な用語を含めて本明細書で使用するすべての用語は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者にとって一般に理解されるものと同一の意味を示す。一般に使用される辞典に定義されている用語は、関連技術の文脈上有する意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、本明細書において明白に定義しない限り、理想的又は過度に形式的な意味と解釈されない。
後述するが、図４〜図１０は、ブリッジ電極を用いる第１実施例を説明するための図であり、図１１〜図１７は、ブリッジ電極を利用しない対向電極構造（ｃｏｕｎｔｅｒ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）の第２実施例を説明するための図である。
第１実施例と第２実施例の積層構造と関係なく適用される本発明の技術的特徴をまず簡単に説明すると、次の通りである。
第１実施例と第２実施例の積層構造と関係なく、本発明は、基板上に第１方向に形成された第１感知電極部及び基板上に第１方向と交差する第２方向に形成された第２感知電極部を含み、第１感知電極部と第２感知電極部を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されるように構成される。
複数の微細蝕刻パターン及びこの微細蝕刻パターンにより区分される単位透明電極に対しては、第１実施例及び第２実施例の説明部分がそのまま適用されるので、その重複説明は省略する。
図４は、本発明の第１実施例によるタッチセンサーの断面図であり、図５は、本発明の第１実施例において、単位透明電極が六角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。
図４及び図５を参照すると、本発明の第１実施例によるタッチセンサーは、基板１０、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、絶縁層６０、ブリッジ電極部７０、素子保護層８０を含む。
以後に改めて説明するが、本発明の第１実施例によるタッチセンサーの主要な技術的特徴は、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極の境界部には複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
従来のタッチセンサーの問題点を説明する過程で参照した図３及び本発明の実施例によるタッチセンサーにおいて、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分が単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンによりユーザに視認されない高周波成分に変換される原理を説明するための図である図１９をさらに参照すると、複数の微細蝕刻パターンにより単位透明電極を形成し、それぞれの単位透明電極を構成する微細蝕刻パターンと同一の形状で第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を区分し、タッチセンサーの全面に空間的な高周波成分を配置するように構成される。言い換えると、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンは、タッチセンサーの内部に一定の空間的な周期に繰り返すように形成されており、微細蝕刻パターンに比べて相対的に大きいピッチ（ｐｉｔｃｈ）を有する第１感知電極部４０、第２感知電極部５０により誘発される空間周波数の低周波成分をユーザの目に視認されない高周波成分に変換することで、タッチセンサーの視認性特性を向上させる。また、単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンにより第１感知電極部４０と第２感知電極部５０の透過率が上昇することで全体的なタッチセンサーの光透過率が上昇する。図１９の空間周波数の単位は、ＣＰＤ（Ｃｙｃｌｅ Ｐｅｒ Ｄｅｇｒｅｅ）であり、本発明の実施例によると、空間周波数の最小値が約６０ ＣＰＤ以下であって、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分が、本発明の技術的特徴である複数の微細蝕刻パターンによりユーザに視認されない最小６０ ＣＰＤ以上の高周波成分に変換される事実を確認し得る。
本発明の第１実施例によるタッチセンサーにおいて、視認性の改善効果を最大化するために、微細蝕刻パターンにより区分される単位透明電極は、六角形、三角形、四角形のような多角形の形状を有するように構成され得、複数の単位透明電極は、テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有するように構成され得る。より好ましくは、単位透明電極は、正六角形、正三角形、正方形のような正多角形形状を有するように構成され得、複数の単位透明電極は、正規テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有するように構成され得る。正規テッセレーション構造は、一つの正多角形のみからなるテッセレーション構造であって、単位微細蝕刻パターンが正六角形である場合、正三角形の場合、正方形である場合の構造である。
図５は、複数の微細蝕刻パターンにより区分される単位透明電極が六角形である場合、複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図７は、単位透明電極が三角形である場合、複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図９は、単位透明電極が四角形である場合、複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示している。
一方、例えば、図６に示したように、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０との間の間隔がなす電極間領域の幅が大きい場合には、単位透明電極と同一の形状を有するが、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極と電気的に絶縁されている電極間ダミー１００がさらに形成され得る。図６に示したように、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する複数の単位透明電極は、互いに電気的に連結されているが、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０との間の領域である電極間領域に存在する複数の電極間ダミー１００は、互いに電気的に連結されていない。このように複数の電極間ダミー１００を適用すると、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０との間に微細蝕刻パターンと同一の空間周波数を有する複数のダミーパターンを挿入してタッチセンサーの全面に同一の高周波成分を配置することで、タッチセンサーの全面に配置された同一の高周波成分によりタッチセンサーのパターンが視認されないようにし得る。
図６は、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を構成する単位透明電極が六角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図８は、単位透明電極が三角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図１０は、単位透明電極が四角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示している。
例えば、図１８に示したように、単位透明電極のピッチ（Ｐ）は、１００μｍ〜５００μｍであり、単位透明電極を区分する微細蝕刻パターンの幅（Ｗ）は、５μｍ〜２０μｍで構成できる。このように構成すると、外部光がタッチセンサーに照射されたとき、透明電極により誘発される空間周波数の低周波成分がユーザの目に視認されない高周波成分に変換されると同時に、透明電極が存在する領域である電極領域、すなわち、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０の光透過率が上昇して、タッチセンサーの全体的な光透過率が上昇するようになる。
また、例えば、図１８に示したように、隣接する単位透明電極を連結する連結部の幅（Ｌ）は、２０μｍ〜６０μｍで構成できる。このように構成すると、隣接する単位透明電極を連結する過程から発生する抵抗上昇を防止すると同時に連結部による視認性の低下を防止することができる。
複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極による視認性特性の改善、すなわち、透明電極がユーザの目に不必要に視認されない特性に対する実験は実際ユーザの視力に依存する。出願人は、１００名の実験集団に対して透明電極が見えるか見えないかを質問した。その結果、全体の実験集団において透明電極が見えないと回答した。
次の表１は、複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極のピッチ（Ｐ）による光学特性改善の結果値である。表１で、ａ＊、ｂ＊は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（公式名称：ＣＩＥ １９７６ Ｌ＊ａ＊ｂ＊知覚色空間）の知覚色度指数である。
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表１を参照すると、複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極のピッチ（Ｐ）が１００μｍ〜５００μｍを満たす場合、従来技術と対比して透過率及び反射率の特性が改善されるか、少なくとも同等のレベルを維持することが確認できる。また、知覚色度指数であるａ＊、ｂ＊にも大きい変化がないためユーザの知覚色歪曲現象も発生しないことが確認できる。
以下、詳細構成要素を説明する。
基板１０は、タッチセンサーを構成する構成要素を構造的に支えるベースである。
一つの例示で、基板１０は、ガラス、ＳＵＳなどのような耐熱性、耐化学性などの特性に優れた硬性材質を有するように構成してもよい。
他の例示として、基板１０は、軟性材質を有するように構成してもよい。このように構成すると、曲げ特性が要求されるベンダブル（ｂｅｎｄａｂｌｅ）、フォルダブル（ｆｏｌｄａｂｌｅ）、ローラブル（ｒｏｌｌａｂｌｅ）、ストレッチャブル（ｓｔｒｅｔｃｈａｂｌｅ）形態などのディスプレイにタッチセンサーを安定的に適用することができる。
例えば、軟性材質を有する基板１０は、透明光学フィルム又は偏光板であってもよい。
透明光学フィルムは、透明性、機械的強度、熱安全性に優れたフィルムが用いられ、具体的な例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチル（メタ）アクリレ−ト、ポリエチル（メタ）アクリレ−トなどのアクリル系樹脂；ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体などのスチレン系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系又はノボネン構造を有するポリオレフィン、エチレン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン系樹脂；塩化ビニル系樹脂；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのアミド系樹脂；イミド系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；スルホン系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン系樹脂；硫化ポリフェニレン系樹脂；ビニルアルコール系樹脂；塩化ビニリデン系樹脂；ビニルブチラル系樹脂；アリレ−ト系樹脂；ポリオキシメチレン系樹脂；エポキシ系樹脂などのような熱可塑性樹脂で構成されたフィルムが挙げられ、前記熱可塑性樹脂のブレンド物で構成されたフィルムも用いられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコン系などの熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂からなるフィルムを用いてもよい。このような透明光学フィルムの厚さは適切に決定できるが、一般的には強度や取扱い性などの作業性、薄層性などを考慮して、１〜５００μｍと決定できる。特に、１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。
このような透明光学フィルムは、適切な１種以上の添加剤が含有されたものであってもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。透明光学フィルムは、フィルムの一面又は両面にハードコーティング層、反射防止層、ガスバリアー層のような多様な機能性層を含む構造であってもよく、機能性層は、前述したものに限定されるわけではなく、用途に応じて多様な機能性層を含むことができる。
また、必要に応じて、透明光学フィルムは、表面処理されたものであってもよい。このような表面処理としては、プラズマ（ｐｌａｓｍａ）処理、コロナ（ｃｏｒｏｎａ）処理、プライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理などの乾式処理、鹸化処理を含むアルカリ処理などの化学処理などが挙げられる。
また、透明光学フィルムは、等方性フィルム、位相差フィルム又は保護フィルム（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）であってもよい。
等方性フィルムである場合、面内位相差（Ｒｏ、Ｒｏ＝［（ｎｘ−ｎｙ）ｘｄ］、ｎｘ、ｎｙは、フィルムの平面内の主屈折率、ｄは、フィルムの厚さである。）が４０ｎｍ以下であり、１５ｎｍ以下が好ましく、厚さ方向の位相差（Ｒｔｈ、Ｒｔｈ＝「（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ」ｘｄ、ｎｘ、ｎｙは、フィルム平面内の主屈折率、ｎｚは、フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは、フィルムの厚さである。）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍであり、好ましくは、−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に、−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
位相差フィルムは、高分子フィルムの一軸延伸、二軸延伸、高分子コーティング、液晶コーティングの方法で製造されたフィルムであり、一般に、ディスプレイの視野角補償、色感改善、光漏れ改善、色美調節などの光学特性の向上及び調節のために用いられる。位相差フィルムの種類には、１／２や１／４などの波長板、正のＣプレート、負のＣプレート、正のＡプレート、負のＡプレート、二軸性波長板を含む。
保護フィルムは、高分子樹脂からなるフィルムの少なくとも一面に粘着層を含むフィルムであるかポリプロピレンなどの自己粘着性を有したフィルムであってもよく、タッチセンサー表面の保護、工程性の改善のために用いられ得る。
偏光板は、表示パネルに用いられる公知のものを用いることができる。具体的には、ポリビニルアルコールフィルムを延伸してヨウ素や異色性色素を染色した偏光子の少なくとも一面に保護層を設置して形成されたもの、液晶を配向して偏光子の性能を有するようにして作ったもの、透明フィルムにポリビニルアルコールなどの配向性樹脂をコーティングし、これを延伸及び染色して作ったものが挙げられ、これに限定されるわけではない。
分離層２０は、基板１０が軟性材質を有する場合に適用できる構成要素であって、タッチセンサーの製造工程時に構成要素が形成された硬質のキャリア基板からタッチセンサーの構成要素を剥離するために形成される層である。キャリア基板から剥離された構成要素は、軟性材質を有するフィルム形態の基板１０にロールツーロール方式などにより接合され得る。
一定レベルの剥離力と透明性を提供する条件を満たすと、分離層２０の素材は特に限定されない。例えば、分離層２０は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）系高分子、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙ ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）系高分子、ポリアミック酸（ｐｏｌｙａｍｉｃ ａｃｉｄ）系高分子、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）系高分子、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）系高分子、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｌｅｎｅ）系高分子、ポリノルボルネン（ｐｏｌｙｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ）系高分子、フェニルアレイミド共重合体（ｐｈｅｎｙｌｍａｌｅｉｍｉｄｅ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）系高分子、ポリアゾベンゼン（ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）系高分子、ポリフェニレンフタルアミド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）系高分子、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）系高分子、ポリメチルメタクリレート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）系高分子、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）系高分子、シンナマート（ｃｉｎｎａｍａｔｅ）系高分子、クマリン（ｃｏｕｍａｒｉｎ）系高分子、フタルイミジン（ｐｈｔｈａｌｉｍｉｄｉｎｅ）系高分子、カルコ（ｃｈａｌｃｏｎｅ）系高分子、芳香族アセチレン（ａｒｏｍａｔｉｃ ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）系高分子などの高分子で製造されたものであってもよく、これらは単独又は２種以上を混合して用いることができる。
分離層２０の剥離力は、特に限定されず、例えば、０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上１Ｎ／２５ｍｍ以下であってもよく、好ましくは、０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上０．１Ｎ／２５ｍｍ以下であってもよい。前記範囲を満足する場合、タッチセンサーの製造工程で、キャリア基板から残余物なしに容易に剥離でき、剥離時に発生する張力によるカール（ｃｕｒｌ）及びクラックを低減し得る。
分離層２０の厚さは、特に限定されず、例えば、１０〜１，０００ｎｍであってもよく、好ましくは、５０〜５００ｎｍであってもよい。上記範囲を満足する場合、剥離力が安定し、均一なパターンを形成し得る。
内部保護層３０は、分離層２０上に形成されており、必要に応じて省略できる選択的な構成要素である。内部保護層３０は、本発明の実施例によるタッチセンサーの製造工程のうち分離層２０が第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、ブリッジ電極部７０の形成のためのエッチング液（ｅｔｃｈａｎｔ）に露出しないようにする機能を行う。
内部保護層３０の素材としては、当技術分野に公知にされた高分子が制限なしに用いられ、例えば、有機絶縁膜が適用でき、その中でもポリオール（ｐｏｌｙｏｌ）及びメラミン（ｍｅｌａｍｉｎｅ）硬化剤を含む硬化性組成物に形成されたものであってもよいが、これに限定されるわけではない。
ポリオールの具体的な種類としては、ポリエーテルグリコール（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｇｌｙｃｏｌ) 誘導体、ポリエステルグリコール（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ ｇｌｙｃｏｌ） 誘導体、ポリカプロラクトングリコール（ｐｏｌｙｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ ｇｌｙｃｏｌ）誘導体などが挙げられるが、これに限定されるわけではない。
メラミン硬化剤の具体的な種類としては、メトキシメチルメラミン（ｍｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｌａｍｉｎｅ）誘導体、メチルメラミン（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｌａｍｉｎｅ）誘導体、ブチルメラミン（ｂｕｔｙｌ ｍｅｌａｍｉｎｅ）誘導体、イソブトキシメラミン（ｉｓｏｂｕｔｏｘｙ ｍｅｌａｍｉｎｅ）誘導体及びブトキシメラミン（ｂｕｔｏｘｙ ｍｅｌａｍｉｎｅ）誘導体などが挙げられるが、これに限定されるわけではない。
他の例示として、内部保護層３０は、有無機ハイブリッド硬化性組成物に形成され得、有機化合物と無機化合物を同時に用いる場合、剥離時に発生するクラック（ｃｒａｃｋ）を低減し得るという点で好ましい。
有機化合物としては、前述した成分が用いられ、無機物としては、シリカ系ナノ粒子、シリコン系ナノ粒子、ガラスナノ纎維などが挙げられるが、これに限定されるわけではない。
第１感知電極部４０は、基板１０上に第１方向に沿って互いに連結されるように形成されており、第２感知電極部５０は、基板１０上に第１方向と交差する第２方向に沿って互いに分離されるように形成されており、絶縁層６０は、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０が形成された基板１０上に第２感知電極部５０の少なくとも一部がスルーホール介して露出するように形成されており、ブリッジ電極部７０は、スルーホールを満たしつつ絶縁層６０上に形成されて第１感知電極部４０を間に置いて隣接している２個の第２感知電極部５０を連結する。
上述したように、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
図５は、本発明の第１実施例において、複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極が六角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図であって、図５の（ａ）は、第１感知電極部４０の例示的な平面形状を示し、（ｂ）は、第２感知電極部５０の例示的な平面形状を示し、（ｃ）は、ブリッジ電極部７０の例示的な平面形状を示し、（ｄ）は、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、ブリッジ電極部７０が全て形成された以後の例示的な平面形状を示す。図５において黒色で表示された部分が単位透明電極であり、単位透明電極の間の白色で表示された部分が微細蝕刻パターンであり、隣接する単位透明電極は互いに電気的に連結されている。
第１感知電極部４０は、互いに電気的に連結された状態で第１方向に沿って形成されており、第２感知電極部５０は、互いに電気的に分離された状態で第２方向に沿って形成されており、第２方向は、第１方向と交差する方向である。ここで、交差する方向とは、例えば、互いに平行ではない同一平面上の二つの互いに異なる直線の方向を意味する。例えば、第１方向がＸ方向である場合、第２方向は、Ｙ方向であってもよい。第１感知電極部４０と第２感知電極部５０は、後述する絶縁層６０により電気的に絶縁される。
例えば、面抵抗の減少のために、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０のうち少なくとも一つは多重膜構造を有し得、より具体的には、金属酸化物／金属／金属酸化物からなる三重膜構造を有し得る。
ブリッジ電極部７０は、隣接する第２感知電極部５０を電気的に連結する。
第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、ブリッジ電極部７０としては、透明導電性物質であれば制限なしに用いられ、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）、インジウムジングティンオキサイド（ＩＺＴＯ）、アルミニウムジンクオキサイド（ＡＺＯ）、ガリウムジンクオキサイド（ＧＺＯ）、フルオリンティンオキサイド（ＦＴＯ）、インジウムティンオキサイド−銀−インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ−Ａｇ−ＩＴＯ）、インジウムジンクオキサイド−銀‐インジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ−Ａｇ−ＩＺＯ）、インジウムジンクティンオキサイド−銀−インジウムジンクティンオキサイド（ＩＺＴＯ−Ａｇ−ＩＺＴＯ）及びアルミニウムジンクオキサイド−銀−アルミニウムジンクオキサイド（ＡＺＯ−Ａｇ−ＡＺＯ）からなる群より選択された金属酸化物類；金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）及びＡＰＣでからなる群より選択された金属類；金、銀、銅及び鉛からなる群より選択された金属のナノワイヤ；炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）及びグラフェン（ｇｒａｐｈｅｎｅ）からなる群より選択された炭素系物質類；及びポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）及びポリアニリン（ＰＡＮＩ）からなる群より選択された伝導性高分子物質類から選択された材料に形成され得、これらは単独又は２種以上を混合して用いることができ、好ましくは、インジウムティンオキサイドが用いられる。結晶性又は非結晶性インジウムティンオキサイドがいずれも使用が可能である。
第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、ブリッジ電極部７０の厚さは特に限定されないが、タッチセンサーの柔軟性を考慮するとき、なるべく薄膜であることが好ましい。
第１感知電極部４０、第２感知電極部５０は、複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極の集合体と言える。
例えば、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０は、互いに独立的に３角形、４角形、５角形、６角形又は７角形以上の多角形パターンであってもよい。
また、例えば、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、ブリッジ電極部７０のうち一つは、ストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形態で構成されてもよい。
また、例えば、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０は、規則パターンを含んでいてもよい。規則パターンとは、パターンの形態が規則性を有することを意味する。例えば、感知パターンは、互いに独立的に長方形又は正方形のようなメッシュ形態や、六角形のような形態のパターンを含んでいてもよい。
第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を絶縁する絶縁層６０の素材としては、当技術分野に知られた絶縁素材が制限なしに用いられ、例えば、シリコン酸化物のような金属酸化物やアクリル系樹脂を含む感光性樹脂組成物あるいは熱硬化性樹脂組成物が用いられる。または、絶縁層６０は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などの無機物を用いて形成することができ、この場合、蒸着、スパッタリングなどの方法で形成できる。
素子保護層８０は、ブリッジ電極部７０が形成された絶縁層６０上に形成されてタッチセンサーの構成要素を外部と絶縁して保護する。
素子保護層８０の素材としては、当技術分野において知られた絶縁素材が制限なしに用いられ、例えば、シリコン酸化物のような金属酸化物やアクリル系樹脂を含む感光性樹脂組成物あるいは熱硬化性樹脂組成物が用いられる。または、素子保護層８０は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などの無機物を用いて形成することができ、この場合、蒸着、スパッタリングなどの方法で形成できる。
図１１は、本発明の第２実施例によるタッチセンサーの断面図であり、図１２は、本発明の第２実施例において、単位微細蝕刻パターンが六角形である場合の一つの例示的な平面形状を示した図である。
図１１及び図１２を参照すると、本発明の第２実施例によるタッチセンサーは、基板１０、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０、絶縁層６０、素子保護層８０を含む。
本発明の第２実施例は、上述した第１実施例とは異なりブリッジ電極を使わない対向電極構造（ｃｏｕｎｔｅｒ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）を有する。後述するが、対向電極構造は、絶縁層６０を間に置いて第１感知電極部４０と第２感知電極部５０が互いに対向する構造である。以下では、重複説明を避けるために、第１実施例と比較して第２実施例が有する差異に焦点を合わせて第２実施例を説明する。勿論、この差異を除外した第１実施例の説明部分は第２実施例にも適用できる。また、分離層２０、内部保護層３０が省略された構造を基準として第２実施例を説明するが、第１実施例と同一に第２実施例も分離層２０、内部保護層３０を含み得る。
第１感知電極部４０は、基板１０上に第１方向に沿って連結されるように形成されており、絶縁層６０は、第１感知電極部４０が形成された基板１０上に形成されており、第２感知電極部５０は、絶縁層６０上に第１方向と交差する第２方向に沿って連結されるように形成されており、素子保護層８０は、第２感知電極部５０が形成された絶縁層６０上に形成されている。
第１実施例に対する説明と一部重複されるが、本発明の第２実施例によるタッチセンサーの主要な技術的特徴は、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極の境界部には複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極は、互いに電気的に連結されている。
従来のタッチセンサーの問題点を説明する過程で参照した図３及び本発明の実施例によるタッチセンサーにおいて、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分が単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンによりユーザに視認されない高周波成分に変換される原理を説明するための図面である図１９をさらに参照すると、複数の微細蝕刻パターンにより単位透明電極を形成し、それぞれの単位透明電極を構成する微細蝕刻パターンと同一の形状で第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を区分し、タッチセンサーの全面に空間的な高周波成分を配置するように構成される。言い換えると、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンは、タッチセンサーの内部に一定の空間的な周期に繰り返すように形成されており、微細蝕刻パターンに比べて相対的に大きいピッチ（ｐｉｔｃｈ）を有する第１感知電極部４０、第２感知電極部５０により誘発される空間周波数の低周波成分をユーザの目に視認されない高周波成分に変換することで、タッチセンサーの視認性の特性を向上させる。また、単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンにより第１感知電極部４０と第２感知電極部５０の透過率が上昇することで、全体的なタッチセンサーの光透過率が上昇する。図１９の空間周波数の単位は、ＣＰＤ（Ｃｙｃｌｅ Ｐｅｒ Ｄｅｇｒｅｅ）であり、本発明の実施例によると、空間周波数の最小値が約６０ ＣＰＤ以下として、透明電極により発生する空間周波数の低周波成分が、本発明の技術的特徴である複数の微細蝕刻パターンによりユーザに視認されない最小６０ ＣＰＤ以上の高周波成分に変換される事実が確認できる。
第１実施例と同一に第２実施例においても、視認性の改善効果を最大化するために、微細蝕刻パターンにより区分される単位透明電極は、六角形、三角形、四角形のような多角形の形状を有するように構成され得、複数の単位透明電極は、テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有するように構成され得る。より好ましくは、単位透明電極は、正六角形、正三角形、正方形のような正多角形の形状を有するように構成され得、複数の単位透明電極は、正規テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有するように構成され得る。正規テッセレーション構造は、一つの正多角形のみからなるテッセレーション構造として、単位微細蝕刻パターンが正六角形である場合、正三角形である場合、正方形である場合の構造である。
図１２は、第２実施例、すなわち、ブリッジ電極を使わない対向電極構造（ｃｏｕｎｔｅｒ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）において、微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極が六角形である場合、複数の単位透明電極による正規テッセレーション構造を例示しており、図１４は、単位透明電極が三角形である場合、複数の単位透明電極による正規テッセレーション構造を例示しており、図１６は、単位透明電極が四角形である場合、複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示している。
また、例えば、図１３に示したように、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０の間の間隔がなす電極間領域の幅が大きい場合には、単位透明電極と同一の形状を有するが、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する単位透明電極と電気的に絶縁されている電極間ダミー１００がさらに形成され得る。図１３に示したように、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０を構成する複数の単位透明電極は、互いに電気的に連結されているが、第１感知電極部４０、第２感知電極部５０の間の領域である電極間領域に存在する複数の電極間ダミー１００は、互いに電気的に連結されていない。このように複数の電極間ダミー１００を適用すると、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０との間に微細蝕刻パターンと同一の空間周波数を有する複数のダミーパターンを挿入してタッチセンサーの全面に同一の高周波成分を配置することで、タッチセンサーの全面に配置された同一の高周波成分によりタッチセンサーパターンが視認されないようにし得る。
図６は、第１感知電極部４０と第２感知電極部５０を構成する単位透明電極が六角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図８は、単位透明電極が三角形である場合複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図１０は、単位透明電極が四角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示している。
図１３は、第２実施例、すなわち、ブリッジ電極を使わない対向電極構造（ｃｏｕｎｔｅｒ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）において、微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極が六角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図１５は、微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極が三角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示しており、図１７は、微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極が四角形である場合、複数の電極間ダミー１００と複数の単位透明電極による正規のテッセレーション構造を例示している。
以上、詳しく説明したように、本発明によると、透明電極に視認性及び光透過率の改善のために複数の微細蝕刻パターンにより区分される単位透明電極を形成することで、透明電極が形成されている電極領域とそうではない電極間領域の光学特性の差により透明電極がユーザに不必要に視認されないようにすると同時に、透明電極による光透過率の低下現象を防止することができる。
また、透明電極に形成された複数の微細蝕刻パターンにより区分された単位透明電極を用いてタッチセンサーの内部に一定の空間的な周期に繰り返すように形成されている透明電極により誘発される空間周波数の低周波成分をユーザの目に視認されない高周波成分に変換することで、タッチセンサーの視認性特性を向上させると同時に光透過率を上昇させ得る効果がある。
１０：基板
２０：分離層
３０：内部保護層
４０：第１感知電極部
５０：第２感知電極部
６０：絶縁層
７０：ブリッジ電極部
８０：素子保護層
１００：電極間ダミー

Claims (11)

  1. 基板上に第１方向に形成された第１感知電極部と、
    前記基板上に第１方向と交差する第２方向に形成された第２感知電極部と、を含み、
    前記第１感知電極部と前記第２感知電極部とを構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記微細蝕刻パターンの幅は、５μｍ〜２０μｍであり、
    前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極を連結する連結部の幅は、２０μｍ〜６０μｍであり、前記単位透明電極のピッチは、１００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする、タッチセンサー。
  2. 基板上に第１方向に沿って互いに連結されるように形成された第１感知電極部と、
    前記基板上に第１方向と交差する第２方向に沿って互いに分離されるように形成された第２感知電極部と、
    前記第１感知電極部と前記第２感知電極部が形成された基板上に前記第２感知電極部の少なくとも一部がスルーホールを介して露出するように形成された絶縁層と、
    前記スルーホールを満たしつつ前記絶縁層上に形成されて前記第１感知電極部を間に置いて隣接している２個の第２感知電極部を連結するブリッジ電極部と、を含み、
    前記第１感知電極部と前記第２感知電極部とを構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記微細蝕刻パターンの幅は、５μｍ〜２０μｍであり、
    前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極を連結する連結部の幅は、２０μｍ〜６０μｍであり、前記単位透明電極のピッチは、１００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする、タッチセンサー。
  3. 基板上に第１方向に沿って互いに連結されるように形成された第１感知電極部と、
    前記第１感知電極部が形成された基板上に形成された絶縁層と、
    前記絶縁層上に前記第１方向と交差する第２方向に沿って互いに連結されるように形成された第２感知電極部と、を含み、
    前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を構成する単位透明電極の境界部には、複数の微細蝕刻パターンが形成されており、前記微細蝕刻パターンの幅は、５μｍ〜２０μｍであり、
    前記単位透明電極は、多角形の境界部の一部が前記微細蝕刻パターンにより除去された形状を有し、隣接する単位透明電極を連結する連結部の幅は、２０μｍ〜６０μｍであり、前記単位透明電極のピッチは、１００μｍ〜５００μｍであることを特徴とする、タッチセンサー。
  4. 前記微細蝕刻パターンに区分される複数の単位透明電極は、テッセレーション（ｔｅｓｓｅｌｌａｔｉｏｎ）構造を有することを特徴とする、請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載のタッチセンサー。
  5. 前記単位透明電極は、六角形、三角形及び四角形から選択される１種の形状であることを特徴とする、請求項４に記載のタッチセンサー。
  6. 前記単位透明電極の境界部に形成された複数の微細蝕刻パターンにより前記第１感知電極部と前記第２感知電極部の透過率が上昇することを特徴とする、請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載のタッチセンサー。
  7. 前記複数の微細蝕刻パターンにより前記単位透明電極を形成し、それぞれの単位透明電極を構成する微細蝕刻パターンと同一の形状で前記第１感知電極部と前記第２感知電極部を区分し、タッチセンサーの全面に空間的な高周波成分を配置したことを特徴とする、請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載のタッチセンサー。
  8. 前記第１感知電極部と前記第２感知電極部との間に形成されており、前記単位透明電極と同一の形状を有するが、前記単位透明電極と電気的に絶縁されている電極間ダミーをさらに含むことを特徴とする、請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載のタッチセンサー。
  9. 前記第１感知電極部と前記第２感知電極部との間に前記微細蝕刻パターンと同一の空間周波数を有する複数のダミーパターンを挿入してタッチセンサーの全面に同一の高周波成分を配置することで、タッチセンサーの全面に配置された同一の高周波成分によりタッチセンサーパターンが視認されないことを特徴とする、請求項８に記載のタッチセンサー。
  10. 前記基板上に形成された分離層をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜請求項３のうちいずれか１項に記載のタッチセンサー。
  11. 前記分離層上に形成された内部保護層をさらに含むことを特徴とする、請求項１０に記載のタッチセンサー。
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