JP2017170444A - ゼオライト膜複合体 - Google Patents
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Abstract
Description
物から特定の成分を分離するために用いるゼオライト膜複合体であって、ゼオライト膜が
、特定の物理化学的性質を有するゼオライトを含み、無機多孔質支持体上に形成されてな
るゼオライト膜複合体、該ゼオライト膜複合体を分離手段として用いる気体混合物の分離
または濃縮方法に関するものである。
があるが、膜分離法は、ガス分離の途中での相変化を殆ど伴わず、圧力差を駆動エネルギ
ーとして、膜を透過するガスの速度差によって分離する手法である。膜分離法は、他のガ
ス分離・精製法に比べて取り扱いも容易で設備規模も比較的小さいため低コスト・省エネ
ルギーで目的とするガスの分離や濃縮を行うことができる。
ている。しかし、高分子膜は加工性に優れる特徴をもつ一方で、熱や化学物質、圧力によ
り劣化して性能が低下することが問題であった。
近年、これらの問題を解決すべく耐薬品性、耐酸化性、耐熱安定性、耐圧性が良好な種
々の無機膜が提案されてきている。その中でもゼオライトは、サブナノメートルの規則的
な細孔を有しているため、分子ふるいとしての働きをもつので選択的に特定の分子を透過
でき、高分離性能を示すことが期待されている。
るガスの分離で二酸化炭素と窒素、二酸化炭素とメタン、水素と炭化水素、水素と酸素、
水素と二酸化炭素、窒素と酸素、パラフィンとオレフィンの分離などがある。用い得るガ
ス分離用ゼオライト膜としては、A型膜、FAU膜、MFI膜、SAPO−34膜、DD
R膜などのゼオライト膜が知られている。
、分離性能は高くない。FAU膜はゼオライトの細孔が0.6〜0.8nmであり、気体
分子2個分がゼオライト細孔内に入りうる大きさである。この膜は、ゼオライト細孔への
吸着特性を持つ分子と持たない分子の分離、例えば二酸化炭素と窒素の分離に向いている
。しかし、吸着性のない分子は分離しにくく、適用範囲が狭い。MFI膜の細孔径は0.
55nmであり、気体分子の分離には細孔がやや大きく分離性能も高くない。
せるプラントでは、二酸化炭素とメタンの分離が望まれているが、これらを良好に分離す
るゼオライト膜としてはゼオライトの分子ふるい機能を利用した、DDR(特許文献1)
、SAPO−34(非特許文献1)、SSZ−13(非特許文献2)が性能のよい膜とし
て知られている。
が二次元であるために、二酸化炭素のパーミエンス(Permeance、「透過度」と
もいう)が低い。また、三次元構造であるCHA型のアルミノホスフェートであるSAP
O−34(非特許文献1)は、分離性能やパーミエンスが良好だが、水存在下での性能が
悪化する。
化して実用には耐えない場合がある。同じくSUS支持体の膜であるCHA型のアルミノ
シリケートであるSSZ−13(非特許文献2)は、ゼオライト膜に非ゼオライト細孔(
欠陥)が共存するために分離能が不十分で、二酸化炭素のパーミエンスも充分ではなかっ
た。このように実用に耐えうる気体混合物用の分離膜は知られていなかった。
れた特性を持つゼオライト膜複合体の提供を課題とするものである。
体上にゼオライト膜を形成する際に、特定の組成の反応混合物を用いれば、支持体上に結
晶化するゼオライトの結晶配向性が向上し、有機化合物と水の混合物の分離において、実
用上十分な処理量と分離膜性能を両立する緻密なゼオライト膜が形成することを見出し、
先に提案した(国際公開第2010/098473号パンフレット、特開2011−12
1040号公報、特開2011−121045号公報、特開2011−121854号公
報)。本発明者らは、さらに検討を重ねた結果、これらのゼオライト膜複合体にある種の
金属を含有させることにより、気体混合物の分離性能に優れ、処理量の大きな膜分離手段
となり得ることを見出し、本発明に到達した。
(1)複数の成分からなる気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離するために
用いるゼオライト膜複合体であって、Alを除く2価以上の金属よりなる群から選ばれる
少なくとも1種の金属を含有するCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオライト
膜が、無機多孔質支持体上に形成されてなることを特徴とするゼオライト膜複合体。
(2)2価以上の金属が、Mg、Fe、Ga、La、Cr、Zr、SnおよびTiである
、(1)に記載のゼオライト膜複合体。
(3)ゼオライトのSiO2/Al2O3モル比が、6以上100以下である、(1)ま
たは(2)に記載のゼオライト膜複合体。
(4)ゼオライト膜が、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=
17.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍以上の値
を有するものである、(1)ないし(3)のいずれかに記載のゼオライト膜複合体。
(5)ゼオライト膜が、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=
9.6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上の値を
有するものである、(1)ないし(4)のいずれかに記載のゼオライト膜複合体。
(6)ゼオライト膜複合体を、絶対圧5kPaの真空ラインに接続した時の空気透過量が
0L/(m2・h)以上900L/(m2・h)以下である、(1)ないし(5)のいず
れかに記載のゼオライト膜複合体。
(7)ゼオライト膜が、アルカリ源として少なくともカリウム(K)を含む水熱合成用の
反応混合物を用いて形成されたものである、(1)ないし(6)のいずれかに記載のゼオ
ライト膜複合体。
(8)CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオライト膜が無機多孔質支持体上に
形成されてなるゼオライト膜複合体を、Alを除く2価以上の金属よりなる群から選ばれ
る少なくとも1種の金属のイオンを含む水溶液に接触させることにより得られたものであ
る、(1)ないし(7)のいずれかに記載のゼオライト膜複合体。
(9)複数の成分からなる気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離するために
用いるゼオライト膜複合体であって、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオラ
イト膜が無機多孔質支持体上に形成されてなるゼオライト膜複合体を、Alを除く2価以
上の金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンを含む水溶液に接触させ
ることにより得られたものであることを特徴とするゼオライト膜複合体。
(10)(1)ないし(9)のいずれかに記載のゼオライト膜複合体に、複数の成分から
なる気体混合物を接触させ、該気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離する、
または、透過性の高い成分を透過させて分離することにより透過性の低い成分を濃縮する
ことを特徴とする気体混合物の分離または濃縮方法。
(11)気体混合物が、二酸化炭素、水素、酸素、窒素、メタン、エタン、エチレン、プ
ロパン、プロピレン、ノルマルブタン、イソブタン、1-ブテン、2−ブテン、イソブテ
ン、六フッ化硫黄、ヘリウム、一酸化炭素、一酸化窒素及び水よりなる群から選ばれる少
なくとも1種の成分を含むものである、(10)に記載の方法。
く、高い分離係数、湿熱安定性の高い、気体混合物の分離に優れた特性を持つゼオライト
膜複合体を提供することができる。また、本発明のゼオライト膜複合体を気体混合物の分
離手段として用いることにより、小規模な設備、省エネルギー、低コストで高性能に気体
の分離を実施できる。
い気体は濃縮されることにより、透過性の大きい気体を系外に分離し、透過性の小さい気
体を濃縮・回収することで目的気体を気体混合物から高純度で分離することができる。
説明は、本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではな
く、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。なお、本明細書において、
「ゼオライト膜が、無機多孔質支持体上に形成されてなるゼオライト膜複合体」を「「無
機多孔質支持体−ゼオライト膜複合体」と、「無機多孔質支持体−ゼオライト膜複合体」
を「ゼオライト膜複合体」または「膜複合体」と、「無機多孔質支持体」を「多孔質支持
体」または「支持体」と、「CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライト」を「CHA型ゼオラ
イト」と略称することがある。
本発明のゼオライト膜複合体は、複数の成分からなる気体混合物から、透過性の高い成
分を透過して分離するために用いるゼオライト膜複合体であって、Alを除く2価以上の
金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含有するCHA型アルミノ珪酸塩の
ゼオライトを含むゼオライト膜が、無機多孔質支持体上に形成されてなることに特徴をも
つものである。
物から、透過性の高い成分を透過して分離する膜分離手段として用いられるものである。
気体成分、分離方法、分離性能などの気体混合物の分離または濃縮方法に係る事項は、
ゼオライト膜複合体の詳細を説明した後に説明する。
本発明において、ゼオライト膜を構成する成分としては、ゼオライト以外にシリカ、ア
ルミナなどの無機バインダー、ポリマーなどの有機物、あるいはゼオライト表面を修飾す
るシリル化剤などを必要に応じ含んでいてもよい。
ゼオライト膜は、一部アモルファス成分などが含有されていてもよいが、好ましくは実
質的にゼオライトのみで構成されるゼオライト膜である。
m以上、より好ましくは1.0μm以上である。また、通常100μm以下、好ましくは
60μm以下、より好ましくは20μm以下の範囲である。膜厚が大きすぎると透過量が
低下する傾向があり、小さすぎると選択性が低下したり、膜強度が低下する傾向がある。
が大きくなるなどして透過選択性などを低下させる傾向がある。それ故、通常30nm以
上、好ましくは50nm以上、より好ましくは100nm以上であり、上限は膜の厚さ以
下である。さらに、ゼオライトの粒子径が膜の厚さと同じである場合がより好ましい。ゼ
オライトの粒子径が膜の厚さと同じであるとき、ゼオライトの粒界が最も小さくなる。後
に述べる水熱合成で得られたゼオライト膜は、ゼオライトの粒子径と膜の厚さが同じにな
る場合があるので好ましい。
、モノリス型、ハニカム型などあらゆる形状を採用できる。また大きさも特に限定されず
、例えば、管状の場合は、通常長さ2cm以上200cm以下、内径0.05cm以上2
cm以下、厚さ0.5mm以上4mm以下が実用的で好ましい。
少なくとも1種の金属を含有する。2価以上の金属としては、例えば、Mg、Fe、Ga
、La、Cr、Zr、Sn、Ti等が挙げられる。これらの中で、Mg、Fe、La、C
r、Zrが好ましい。ゼオライト膜に含有するこれら金属元素は、上記のとおり、1種で
あっても良く、任意の組合せによる複数種であってもよい。
たはゼオライトの骨格の一部に置換されているものと考えられる。
EDX)や、誘導結合プラズマ(ICP)元素分析、X線光電子分光法(XPS)等で測
定することができる。SEM−EDXでは化学分析によって、金属元素含有量の値が得ら
れている試料で検量線を作成して、定量することが望ましい。ICPではゼオライト膜部
分をフッ酸などで溶解させて測定することができる。XPSでは膜表面の金属含有量を測
定することができる。
在位置や金属原子のサイズに応じてゼオライト膜の有効細孔サイズが変化すると考えられ
る。金属元素の含有量が増加すると、細孔サイズの変化も大きくなるが、この細孔サイズ
は分離する成分の分子サイズによって好適な値が決まる。そのため、分離する成分によっ
て好適な金属元素の含有量が異なる。わずかに金属元素を含有するだけでも、その量に応
じて分離性能は少なからず影響を受けることとなるが、目標とする成分分離性能がわずか
な量で達成できる場合には、金属元素量は非常に少なくても良い。また分離する成分分子
がどれも非常に小さなサイズ等、目標の分離性能の達成のために細孔サイズを大幅に小さ
くする必要がある場合には、金属元素含有量は多い方が良い傾向がある。ただし、金属元
素含有量が大きすぎる場合には細孔が閉塞して、ガスの透過が起こりにくくなる傾向があ
る。
可能である。細孔外に存在する場合、その存在箇所が膜欠陥であれば、膜欠陥を埋める作
用を及ぼし、分離性能向上につながると考えられる。膜の欠陥が多い場合には金属元素の
含有量は多い方が好ましく、欠陥が少ない膜の場合では含有量は少なくても良い。細孔外
の金属元素が多すぎる場合には細孔入口を塞ぎ透過度が低下する可能性がある。
って、細孔径はわずかに影響を受ける。原子径が大きな金属元素を取り込んだ場合には細
孔径は大きくなる傾向があり、原子径が小さな金属元素を取り込んだ場合には細孔径は小
さくなる傾向がある。この場合においても、分離する成分の分子サイズによって、好適な
細孔サイズが存在するので、好適なサイズになるような金属量を骨格に取り入れることが
望ましい。
用する場合がある。例えば、ゼオライト細孔内が金属元素の存在によって極性の高い場に
なれば、水蒸気のような極性分子は吸着が起こりやすくなり、透過量が高くなる傾向があ
る。このように各分子が金属元素との相互作用する場合には、ゼオライト膜への吸着性が
異なることから透過量に影響することがある。金属元素量は、少なすぎると吸着能を十分
高めることができず、多すぎる場合や金属元素と成分分子の組み合わせによっては吸着能
が高くなりすぎ、分子が細孔内で留まり膜を透過しない場合がある。
素の含有量が変わる。そのため金属元素の含有量は特に限定されないが、Alに対するA
lを除く2価以上の金属のモル比(2価以上の金属/Alモル比)で、通常0.0002
以上、好ましくは0.0004以上、より好ましくは0.001以上、さらに好ましくは
0.003以上、さらに好ましくは0.006以上、さらに好ましくは0.01以上であ
る。上限は、通常20以下、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ま
しくは5以下、さらに好ましくは1以下である。
好適な値が全体組成と異なる傾向がある。2価以上の金属/Alモル比で、通常0.00
03以上、好ましくは0.0006以上、よりに好ましくは0.002以上、さらに好ま
しくは0.005以上、さらに好ましくは0.009以上、さらに好ましくは0.02以
上である。上限は、通常30以下、好ましくは23以下、より好ましくは15以下、さら
に好ましくは8以下、より好ましくは2以下である。
合計量のモル比である。
本発明において、ゼオライト膜を構成するゼオライトはCHA型アルミノ珪酸塩である
。アルミノ珪酸塩は、SiとAlの酸化物を主成分とするものであり、本発明の効果を損
なわない限り、それ以外の元素が含まれていてもよい。
能である。有効細孔径を制御することによって、分離性能を向上させることも可能である
。
部が骨格から脱離し、また、細孔内に存在する金属イオンはH+に交換される傾向がある
。金属が骨格から脱離した場合には金属量の減少によって、極性が低下する効果がある。
また、脱離した金属の原子径に応じて細孔サイズが変化する場合がある。細孔内の金属
イオンがH+に交換された場合も同様に、交換された金属の原子径と極性の大小によって
、細孔サイズと細孔内の極性を変えることができる。
の末端シラノールをシリル化し、さらに、シリル化層を積層することによって、一般的に
ゼオライトの外表面に面した細孔の有効細孔径は小さくなる。
、通常6以上、好ましくは10以上、より好ましくは20以上、さらに好ましくは30以
上、さらに好ましくは32以上、さらに好ましくは35以上、特に好ましくは40以上で
ある。上限は、通常Alが不純物程度の量であり、SiO2/Al2O3モル比としては
、通常500以下、好ましくは100以下、より好ましくは90以下、さらに好ましくは
80以下、さらに好ましくは65以下、特に好ましくは48以下である。SiO2/Al
2O3モル比が前記下限未満ではゼオライト膜の緻密性が低下する場合があり、また耐久
性が低下する傾向がある。
SiO2/Al2O3モル比は、後に述べる水熱合成の反応条件により調整することが
できる。
法(SEM−EDX)により得られた数値である。数ミクロンの膜のみの情報を得るため
に通常はX線の加速電圧を10kVで測定する。
本発明において、CHA型ゼオライトとは、International Zeolite Association(IZA)
が定めるゼオライトの構造を規定するコードでCHA構造のものを示す。天然に産出する
チャバサイトと同等の結晶構造を有するゼオライトである。CHA型ゼオライトは0.3
8×0.38nmの径を有する酸素8員環からなる3次元細孔を有することを特徴とする
構造をとり、その構造はX線回折データにより特徴付けられる。
iO2/Al2O3モル比は上記と同様である。
ここで、フレームワーク密度(T/nm3)とは、ゼオライトのnm3(1000Å3
)あたりの、骨格を構成する酸素以外の元素(T元素)の数を意味し、この値はゼオライ
トの構造により決まるものである。なお、フレームワーク密度とゼオライトの構造との関
係はATLAS OF ZEOLITE FRAMEWORK TYPES Fifth Revised Edition 2001 ELSEVIERに示され
ている。
無機多孔質支持体は、その表面などにゼオライトを膜状に結晶化できるような化学的安
定性がある多孔質の無機物質であれば如何なるものであってもよい。具体的には、例えば
、シリカ、α−アルミナ、γ−アルミナ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア
、窒化珪素、炭化珪素などのセラミックス焼結体、鉄、ブロンズ、ステンレスなどの焼結
金属や、ガラス、カーボン成型体などが挙げられる。
オライト化することで界面の密着性を高める効果がある。
さらに、アルミナ、シリカ、ムライトのうち少なくとも1種を含む無機多孔質支持体は
、支持体の部分的なゼオライト化が容易であるため、支持体とゼオライトの結合が強固に
なり緻密で分離性能の高い膜が形成されやすくなるのでより好ましい。
には、例えば、平板状、管状のもの、または円筒状、円柱状や角柱状の孔が多数存在する
ハニカム状のものやモノリスなどが挙げられる。
本発明において、無機多孔質支持体の表面などにゼオライト膜を形成、好ましくはゼオ
ライトを膜状に結晶化させる。
しく、通常0.02μm以上、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.1μm
以上であり、通常20μm以下、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下で
ある。細孔径が小さすぎると透過量が小さくなる傾向があり、大きすぎると支持体自体の
強度が不十分になったり、緻密なゼオライト膜が形成されにくくなる傾向がある。
もよい。なお、支持体の表面とはゼオライト膜を形成させる支持体の表面部分を意味し、
表面であればそれぞれの形状のどこの表面であってもよく、複数の面であっても良い。例
えば円筒管の支持体の場合には、外側の表面でも内側の表面でもよく、場合によっては外
側と内側の両方の表面であってよい。
通常20%以上60%以下であることが好ましい。気孔率は、気体や液体を分離する際の
透過流量を左右し、前記下限未満では透過物の拡散を阻害する傾向があり、前記上限超過
では支持体の強度が低下する傾向がある。
ゼオライト膜複合体とは、支持体の表面などにゼオライトが膜状に固着しているもので
あり、場合によっては、ゼオライトの一部が、支持体の内部にまで固着している状態のも
のが好ましい。
り膜状に結晶化させたものが好ましい。
にゼオライト膜をつけてもよいし、内表面につけてもよく、さらに適用する系によっては
両面につけてもよい。また、支持体の表面に積層させてもよいし、支持体の表面層の細孔
内を埋めるように結晶化させてもよい。この場合、結晶化した膜層の内部に亀裂や連続し
た微細孔が無いことが重要であり、いわゆる緻密な膜を形成させることが分離性を向上す
ることになる。
ンにおいて、2θ=17.9°付近のピークの強度が2θ=20.8°付近のピークの強
度の0.5倍以上であることが好ましい。
2θ=17.9°付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)で表
されるピーク強度比(以下これを「ピーク強度比A」ということがある。)でいえば、好
ましくは0.5以上、より好ましくは0.8以上である。上限は特に限定されないが、通
常1000以下である。
.6°付近のピークの強度が2θ=20.8°付近のピークの強度の2.0倍以上の大き
さであることが好ましい。
表されるピーク強度比(以下これを「ピーク強度比B」ということがある。)でいえば、
好ましくは2.0以上、より好ましくは2.5以上、より好ましくは3以上、さらに好ま
しくは4以上、さらに好ましくは6以上、さらに好ましくは8以上、特に好ましくは10
以上である。上限は特に限定されないが、通常1000以下である。
Kαを線源とするX線を照射して、走査軸をθ/2θとして得るものである。測定するサ
ンプルの形状としては、膜複合体のゼオライトが主として付着している側の表面にX線が
照射できるような形状なら何でもよく、膜複合体の特徴をよく表すものとして、作成した
膜複合体そのままのもの、あるいは装置によって制約される適切な大きさに切断したもの
が好ましい。
可変スリットを用いて照射幅を固定して測定してもかまわない。自動可変スリットを用い
た場合のX線回折パターンとは、可変→固定スリット補正を実施したパターンを指す。
±0.6°の範囲に存在するピークのうち最大のものを指す。
°の範囲に存在するピークで最大のものを指す。
範囲に存在するピークのうち最大のものを指す。
ER PATTERNS FOR ZEOLITE Third Revised Edition 1996 ELSEVIERによればrhombohedral
settingで空間群を
ークである。
XRD POWDER PATTERNS FOR ZEOLITE Third Revised Edition 1996 ELSEVIERによればrhomb
ohedral settingで空間群を
ークである。
WDER PATTERNS FOR ZEOLITE Third Revised Edition 1996 ELSEVIERによればrhombohedra
l settingで空間群を
ピークである。
と(2,0,−1)の面に由来のピーク強度の典型的な比(ピーク強度比B)は、非特許
文献2によれば2未満である。
al settingとした場合の(1,0,0)面が膜複合体の表面と平行に近い向きになるよう
にゼオライト結晶が配向して成長していることを意味すると考えられる。ゼオライト膜複
合体においてゼオライト結晶が配向して成長することは分離性能の高い緻密な膜が出来る
という点で有利である。
型的な比(ピーク強度比A)は、非特許文献2によれば0.5未満である。
al settingとした場合の(1,1,1)面が膜複合体の表面と平行に近い向きになるよう
にゼオライト結晶が配向して成長していることを意味すると考えられる。ゼオライト膜複
合体においてゼオライト結晶が配向して成長することは分離性能の高い緻密な膜が出来る
という点で有利である。
ことは、ゼオライト結晶が配向して成長し、分離性能の高い緻密な膜が形成されているこ
とを示すものである。
的に配向の程度が強いほど緻密な膜が形成されていることを示す。一般的には配向が強い
ほど分離性能が高い傾向があるが、分離対象の混合物によっては分離性能が高くなる最適
な配向の程度は異なるので分離対象の混合物によって適宜、配向の程度が最適なゼオライ
ト膜複合体を選択して使用することが望ましい。
り、ゼオライト膜を水熱合成法により形成する際に、例えば、特定の有機テンプレートを
用い、水性反応混合液中にK+イオンを共存させることにより達成することができる。
本発明において、ゼオライト膜の製造方法は、上記した特定のゼオライト膜が形成可能
な方法であれば特に制限されず、例えば、(1)支持体上にCHA型ゼオライトを膜状に
結晶化させる方法、(2)支持体にCHA型ゼオライトを無機バインダー、あるいは有機
バインダーなどで固着させる方法、(3)CHA型ゼオライトを分散させたポリマーを固
着させる方法、(4)CHA型ゼオライトのスラリーを支持体に含浸させ、場合によって
は吸引させることによりゼオライトを支持体に固着させる方法などにより製造されたゼオ
ライト膜複合体に、後処理により特定の金属元素を含有させる方法、または、ゼオライト
を水熱合成する際に水熱合成用の反応混合物(以下これを「水性反応混合物」ということ
がある。)へ特定の金属元素を含有させておく方法などの何れの方法も用いることができ
る。
元素を含有させる方法が特に好ましい。
結晶化の方法に特に制限はないが、支持体を、ゼオライト製造に用いる水熱合成用の反
応混合物中に入れて、直接水熱合成することで支持体表面などにゼオライトを結晶化させ
る方法が好ましい。
やかに固定した、オートクレーブなどの耐熱耐圧容器に入れて密閉して、一定時間加熱す
ればよい。
らに必要に応じて有機テンプレートを含むものが好ましい。
カ、シリカゲル、ケイ酸ナトリウム、無定形アルミのシリケートゲル、テトラエトキシシ
ラン(TEOS)、トリメチルエトキシシラン等を用いることができる。
ミニウム、硝酸アルミニウム、酸化アルミニウム、無定形アルミノシリケートゲル等を用
いることができる。
ルカリ土類金属水酸化物、また有機テンプレートのカウンターアニオンの水酸化物イオン
も用いることができる。
好ましくはNa、K、より好ましくはKである。また、金属水酸化物の金属種は2種類以
上を併用してもよく、具体的には、NaとK、あるいはLiとKを併用するのが好ましい
。
化リチウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物;水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類
金属水酸化物等を用いることができる。
アニオンの水酸化物イオンを用いることができる。有機テンプレートはアルカリ源として
の役割もある一方、アルカリ源とならない場合でも構造規定材の役割を有する。
ことができるが、有機テンプレートを用いて合成したものが好ましい。有機テンプレート
を用いて合成することにより、結晶化したゼオライトのアルミニウム原子に対するケイ素
原子の割合が高くなり、結晶性が向上する。
種類は問わず、如何なるものであってもよい。また、テンプレートは1種類でも、2種類
以上を組み合わせて使用してもよい。
有機テンプレートとしては、通常、アミン類、4級アンモニウム塩類が用いられる。例
えば、米国特許第4544538号明細書、米国特許公開第2008/0075656号
明細書に記載の有機テンプレートが好ましいものとして挙げられる。
ジナールから誘導されるカチオン、3−exo−アミノノルボルネンから誘導されるカチ
オン等の脂環式アミンから誘導されるカチオンが挙がられる。これらの中で、1−アダマ
ンタンアミンから誘導されるカチオンがより好ましい。1−アダマンタンアミンから誘導
されるカチオンを有機テンプレートとしたとき、緻密な膜を形成しうるCHA型ゼオライ
トが結晶化する。
−アダマンタンアンモニウムカチオンがさらに好ましい。N,N,N−トリアルキル−1−
アダマンタンアンモニウムカチオンの3つのアルキル基は、通常、それぞれ独立したアル
キル基であり、好ましくは低級アルキル基、より好ましくはメチル基である。それらの中
で最も好ましい化合物は、N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムカチオ
ンである。
このようなアニオンを代表するものには、Cl−、Br−、I−などのハロゲンイオンや
水酸化物イオン、酢酸塩、硫酸塩、およびカルボン酸塩が含まれる。これらの中で、水酸
化物イオンが特に好適に用いられる。
チオンも用いることができる。この場合もアルキル基は、それぞれ独立したアルキル基で
あり、好ましくは低級アルキル基、より好ましくはメチル基である。それらの中で、最も
好ましい化合物は、N,N,N−トリメチルベンジルアンモニウムカチオンである。また、
このカチオンが伴うアニオンは上記と同様である。
モル比、すなわちSiO2/Al2O3モル比として表わす。
形成可能な比であれば特に限定されないが、通常5以上、好ましくは20以上、より好ま
しくは30以上、さらに好ましくは40以上、特に好ましくは50以上である。また上限
は、通常500以下、好ましくは200以下、より好ましくは150以下、さらに好まし
くは100以下である。SiO2/Al2O3比がこの範囲にあるとき、緻密な膜を形成
しうるCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを結晶化させることができる。
レートのモル比(有機テンプレート/SiO2比)で、通常0.005以上、好ましくは
0.01以上、より好ましくは0.02以上であり、通常1以下、好ましくは0.4以下
、より好ましくは0.2以下である。この範囲にあるとき緻密なゼオライト膜が生成しう
ることに加えて、生成したゼオライトが耐酸性に強くAlが脱離しにくい。また、この条
件において、特に緻密で耐酸性のCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを形成させること
ができる。
。)モル比で、通常0.02以上、好ましくは0.04以上、より好ましくは0.05以
上であり、通常0.5以下、好ましくは0.4以下、より好ましくは0.3以下である。
K)が含まれる場合がより緻密で結晶性の高い膜を生成させるという点で好ましい。その
場合のKと、Kを含むすべてのアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属とのモル比
は、通常0.01以上、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.3以上であり、上限
は通常1以下である。
rhombohedral settingで空間群を
ピークである2θ=9.6°付近のピーク強度と(2,0,−1)の面に由来するピーク
である2θ=20.8°付近のピーク強度の比(ピーク強度比B)、または、(1,1,
1)の面に由来するピークである2θ=17.9°付近のピーク強度と(2,0,−1)
の面に由来するピークである2θ=20.8°付近のピーク強度の比(ピーク強度比A)
を大きくする傾向がある。
通常10以上、好ましくは30以上、より好ましくは40以上、特に好ましくは50以上
であり、通常1000以下、好ましくは500以下、より好ましくは200以下、特に好
ましくは150以下である。
成しうる。水の量は緻密なゼオライト膜の生成においてとくに重要であり、粉末合成法の
一般的な条件よりも水がシリカに対して多い条件のほうが緻密な膜ができやすい傾向にあ
る。
O/SiO2モル比で、15〜50程度である。H2O/SiO2モル比が高い(50以
上1000以下)、すなわち水が多い条件にすることにより、支持体の表面などにCHA
型アルミノ珪酸塩のゼオライトが緻密な膜状に結晶化した分離性能の高いゼオライト膜複
合体を得ることができる。
とにより、ゼオライト膜形成時と同時に前記金属をゼオライト膜に含有させることができ
る。これにより、上記金属元素が高分散したゼオライト膜を得ることができる。
硝酸塩、硫酸塩、酢酸塩、リン酸塩、水酸化物、塩化物、錯体等が挙げられる。これらの
中で、硝酸塩、硫酸塩、錯体が好ましい。なお本明細書において、金属元素源化合物と金
属イオン源化合物とは同義である。
1以上、好ましくは0.005以上、より好ましくは0.01以上であり、また通常0.
3以下、好ましくは0.2以下、より好ましくは0.1以下である。
結晶を加えることで、支持体上にゼオライトの結晶化を促進できる。種結晶を加える方法
としては特に限定されず、粉末のゼオライトの合成時のように、水性反応混合物中に種結
晶を加える方法や、支持体上に種結晶を付着させておく方法などを用いることができる。
ゼオライト膜複合体を製造する場合は、支持体上に種結晶を付着させておくことが好まし
い。支持体上に予め種結晶を付着させておくことで緻密で分離性能良好なゼオライト膜が
生成しやすくなる。
率よく結晶化させるためには形成するゼオライト膜と同じ結晶型であることが好ましい。
CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライト膜を形成する場合は、CHA型ゼオライトの種結晶
を用いることが好ましい。
、通常0.5nm以上、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上であり、通常
5μm以下、好ましくは、3μm以下、より好ましくは2μm以下である。
に分散させて、その分散液に支持体を浸けて表面に種結晶を付着させるディップ法や、種
結晶を水などの溶媒と混合してスラリー状にしたものを、支持体上に塗りこむ方法などを
用いることができる。種結晶の付着量を制御し、再現性良く膜複合体を製造するにはディ
ップ法が望ましい。
。アルカリ性水溶液の種類は特に限定されないが、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリ
ウム水溶液が好ましい。またこれらのアルカリ種は混合されていてもよい。アルカリ濃度
は特に限定されず、通常0.0001mol%以上、好ましくは0.0002mol%以
上、より好ましくは0.001mol%以上、さらに好ましくは0.002mol%以上
である。また、通常1mol%以下、好ましくは0.8mol%以下、より好ましくは0
.5mol%以下、さらに好ましくは0.2mol%以下である。
水熱合成時に支持体表面に部分的にゼオライトが生成しない箇所ができ、欠陥のある膜と
なる可能性がある。分散液中の種結晶の量が多すぎると、ディップ法によって支持体上に
付着する種結晶の量がほぼ一定となるため、種結晶の無駄が多くなりコスト面で不利であ
る。
後にゼオライト膜の形成を行うことが望ましい。
、通常0.01g以上、好ましくは0.05g以上、より好ましくは0.1g以上であり
、通常100g以下、好ましくは50g以下、より好ましくは10g以下、更に好ましく
は8g以下である。
合や、膜の成長が不均一になったりする傾向がある。また、種結晶の量が上限を超える場
合には、表面の凹凸が種結晶によって増長されたり、支持体表面から落ちた種結晶によっ
て自発核が成長しやすくなって支持体上の膜成長が阻害されたりする場合がある。何れの
場合も、緻密なゼオライト膜が生成しにくくなる傾向となる。
限はなく、縦置き、横置きなどあらゆる形態をとることができる。この場合、静置法でゼ
オライト膜を形成させてもよいし、水性反応混合物を攪拌させてゼオライト膜を形成させ
てもよい。
くは120℃以上、さらに好ましくは150℃以上であり、通常200℃以下、好ましく
は190℃以下、さらに好ましくは180℃以下である。反応温度が低すぎると、ゼオラ
イトが結晶化し難くなることがある。また、反応温度が高すぎると、本発明におけるゼオ
ライトとは異なるタイプのゼオライトが生成し易くなることがある。
に好ましくは10時間以上であり、通常10日間以下、好ましくは5日間以下、より好ま
しくは3日間以下、さらに好ましくは2日間以下である。反応時間が短すぎるとゼオライ
トが結晶化し難くなることがある。反応時間が長すぎると、本発明におけるゼオライトと
は異なるタイプのゼオライトが生成し易くなることがある。
この温度範囲に加熱したときに生じる自生圧力で十分である。さらに必要に応じて、窒素
などの不活性ガスを加えても差し支えない。
せる。ここで、加熱処理とは、熱をかけてゼオライト膜複合体を乾燥又はテンプレートを
使用した場合にテンプレートを焼成することを意味する。
、より好ましくは100℃以上であり、通常200℃以下、好ましくは150℃以下であ
る。テンプレートの焼成を目的とする場合は、通常350℃以上、好ましくは400℃以
上、より好ましくは430℃以上、更に好ましくは450℃以上であり、通常900℃以
下、好ましくは850℃以下、さらに好ましくは800℃以下、特に好ましくは750℃
以下である。
あれば特に限定されず、好ましくは0.5時間以上、より好ましくは1時間以上である。
上限は特に限定されず、通常200時間以内、好ましくは150時間以内、より好ましく
は100時間以内である。
水洗した後に、例えば、加熱処理や抽出などにより、好ましくは加熱処理、すなわち焼成
により有機テンプレートを取り除くことが適当である。
オライトの細孔が少なく、そのために分離・濃縮の際のガスの透過量が減少する場合があ
る。焼成温度が高すぎると支持体とゼオライトの熱膨張率の差が大きくなるため、ゼオラ
イト膜に亀裂が生じやすくなる可能性があり、ゼオライト膜の緻密性が失われ分離性能が
低くなることがある。
かれる時間であれば特に限定されず、好ましくは1時間以上、より好ましくは5時間以上
である。上限は特に限定されず、例えば、通常200時間以内、好ましくは150時間以
内、より好ましくは100時間以内、特に好ましくは24時間以内である。焼成は空気雰
囲気で行えばよいが、酸素を付加した雰囲気で行ってもよい。
生じさせることを少なくするために、なるべく遅くすることが望ましい。昇温速度は、通
常5℃/分以下、好ましくは2℃/分以下、さらに好ましくは1℃/分以下、特に好まし
くは0.5℃/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1℃/分以上である。
ールする必要がある。昇温速度と同様、遅ければ遅いほど望ましい。降温速度は、通常5
℃/分以下、好ましくは2℃/分以下、さらに好ましくは1℃/分以下、特に好ましくは
0.5℃/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1℃/分以上である。
の方法としては、金属元素源化合物(金属イオン源化合物)が含まれる溶液に膜複合体が
接触し得る方法であれば特に限定されないが、例えば、金属元素源化合物が含まれる溶液
に膜複合体を浸漬する方法、金属元素源化合物が含まれる溶液を膜複合体にスプレーする
方法や滴下する方法などが挙げられる。
塩、塩化物、金属錯体等が挙げられ、好ましくは硝酸塩、硫酸塩、塩化物である。
用してもよい。
、好ましくは0.03モル/L以上、より好ましくは0.05モル/L以上であり、また
通常5モル/L以下、好ましくは3モル/L以下、より好ましくは1モル/L以下である
。
化合物の濃度が低すぎると、分離性能向上の効果が小さくなり、濃度が高すぎると、細
孔が閉塞して透過させたい成分の透過量が小さくなる傾向がある。
が、通常0℃以上、好ましくは20℃以上、さらに好ましくは50℃以上であり、通常2
00℃以下、好ましくは190℃以下、さらに好ましくは180℃以下である。
れて、この温度範囲に加熱したときに生じる自生圧力下で実施してもよい。密閉容器の場
合には、さらに必要に応じて、窒素などの不活性ガスを加えても差し支えない。
い状態で乾燥してもよい。また必要に応じて乾燥後に焼成してもよい。
定されないが、通常0℃以上、好ましくは5℃以上、さらに好ましくは10℃以上であり
、通常100℃以下、好ましくは90℃以下、さらに好ましくは80℃以下である。
態にして行ってもよい。
容積量を超えて、表面が濡れる程度まで行うことができ、処理後、通常30℃〜120℃
の温度で乾燥する。また必要に応じて乾燥後に焼成してもよい。
300℃以上であり、通常550℃以下、好ましくは525℃以下、より好ましくは50
0℃以下である。
ば特に限定されず、好ましくは0.5時間以上、より好ましくは1時間以上である。上限
は特に限定されず、通常200時間以内、好ましくは150時間以内、より好ましくは1
00時間以内である。
じさせることを少なくするために、なるべく遅くすることが望ましい。昇温速度は、通常
5℃/分以下、好ましくは2℃/分以下、さらに好ましくは1℃/分以下、特に好ましく
は0.5℃/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1℃/分以上である。
ルする必要がある。昇温速度と同様、遅ければ遅いほど望ましい。降温速度は、通常5℃
/分以下、好ましくは2℃/分以下、さらに好ましくは1℃/分以下、特に好ましくは0
.5℃/分以下である。通常、作業性を考慮し0.1℃/分以上である。
以下、好ましくは900L/(m2・h)以下、より好ましくは600L/(m2・h)
以下、より好ましくは500L/(m2・h)以下、さらに好ましくは400L/(m2
・h)以下、特に好ましくは250L/(m2・h)以下、もっとも好ましくは150L
/(m2・h)以下である。透過量の下限は特に限定されないが、通常0L/(m2・h
)以上、好ましくは0.01L/(m2・h)以上、より好ましくは0.1L/(m2・
h)以上、さらに好ましくは1L/(m2・h)以上である。
下におき、ゼオライト膜複合体の内側を5kPaの真空ラインに接続した時の空気の透過
量[L/(m2・h)]である。
量も多くなり、空気透過量が多すぎるものは分離が低くなる傾向にある。本発明のゼオラ
イト膜は、空気透過量が適度に多く、かつ十分に高い分離性能をもつものであり、気体の
分離性能に好適な性能を持つものである。
る気体混合物の膜分離手段として好適に用いることができる。
(気体の分離)
本発明の分離または濃縮方法は、上記ゼオライト膜複合体に、複数の成分からなる気体
混合物を接触させ、該気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離する、または、
透過性の高い成分を透過させて分離することにより透過性の低い成分を濃縮することに特
徴をもつものである。本発明におけるゼオライト膜の分離機能の一つは、分子ふるいとし
ての分離であり、用いるゼオライトの有効細孔径以上の大きさを有する気体分子と、それ
以下の気体分子とを好適に分離することができる。
イト結晶相の細孔を通過しやすい気体分子からなる気体成分であり、分子径が概ね0.3
8nm程度より小さい気体分子からなる気体成分が好ましい。
)であるものに限られず、常温常圧で液体であって気化することにより気体混合物となり
得るものも含まれる。気化させた気体混合物を分離対象物とする方法は、ベーパーパーミ
エーション法(蒸気透過法)と呼ばれる分離または濃縮方法であり、本発明の方法におけ
るひとつの実施形態である。この方法は、例えば、有機化合物と水との混合物の分離また
は濃縮に特に好適である。この場合、通常水がゼオライト膜に対する透過性が高いので、
混合物から水が分離され、有機化合物は元の混合物中で濃縮される。
である気体混合物、気化させることにより気体混合物となり得るものであれば特に限定さ
れない。
分離対象物として望ましい気体混合物としては、例えば、二酸化炭素、水素、酸素、窒
素、メタン、エタン、エチレン、プロパン、プロピレン、ノルマルブタン、イソブタン、
1−ブテン、2-ブテン、イソブテン、六フッ化硫黄、ヘリウム、一酸化炭素、一酸化窒
素、水などから選ばれる少なくとも1種の成分を含むものが挙げられる。前記ガスを含む
気体混合物の成分のうち、パーミエンスの高い成分は、ゼオライト膜複合体を透過し分離
され、パーミエンスの低い成分は供給ガス側に濃縮される。
い。この場合、2種の成分としては、パーミエンスの高い成分とパーミエンスの低い成分
の組合せが好ましい。
は、通常0〜300℃、好ましくは室温〜200℃、より好ましくは室温〜150℃であ
る。
圧力を減圧調整して所望の圧力にして用いても良い。分離対象の気体成分が、分離に用い
る圧力より低い場合は、圧縮機などで増圧して用いることができる。
くは0.1MPa以上、より好ましくは0.11MPa以上である。また、通常上限値は
20MPa以下、好ましくは10MPa以下、より好ましくは1MPa以下である。
下、好ましくは10MPa以下、より好ましくは5MPa以下、更に好ましくは1MPa
以下である。また、通常0.001MPa以上、好ましくは0.01MPa以上、より好
ましくは0.02MPa以上である。
Pa]は、特に断りのない限り、絶対圧を指す。
より好ましくは1MPa以下、さらに好ましくは0.5MPa以下である。下限値は特に
制限なく、0MPa以上であればよい。0MPaとした時に、透過性の低いガス中の透過
性の大きい気体の濃度を最も低い状態となるまで分離することができる。透過側ガスを高
い圧力のまま使用する用途があれば、透過側圧力は高く設定すればよい。
給ガスにおいて、透過性の小さな気体の膜のごく近傍における濃度と、気体全体における
濃度が一致するように、気体を混合できるだけの流速であればよい。具体的には、分離ユ
ニットの管径、膜の分離性能にもよるが、例えば、通常0.5mm/sec以上、この好
ましくは1mm/sec以上であり、上限は特に制限されないが、通常1m/sec以下
、好ましくは0.5m/sec以下である。
用いた方法とは、透過側に供給ガスとは異なる種類の気体を流し、膜を透過した気体を回
収するものである。
スイープガスの圧力は、通常大気圧であるが特に制限はなく、好ましくは20MPa以
下、より好ましくは10MPa以下、更に好ましくは1MPa以下であり、下限は、好ま
しくは0.09MPa以上、より好ましくは0.1MPa以上である。場合によっては、
減圧にして用いても良い。
04mol/(m2・s)以下である。
ジュール)にして用いるのが好ましい。常温常圧で気体である気体混合物を分離対象とす
る場合の分離膜モジュールは、例えば、図1及び2に模式的に示したような装置でもよい
し、「ガス分離・精製技術」(株)東レリサーチセンター2007年発行22頁に例示さ
れている膜モジュールを用いてもよい。図1及び2の装置における気体混合物の分離につ
いては、実施例の項において説明する。
分離膜に導入する分離・濃縮方法であるため、蒸留装置と組み合わせて使用することや、
より高温、高圧での分離に用いることができる。またベーパーパーミエーション法は、液
体の混合物を気化させてから分離膜に導入することから、供給液中に含まれる不純物や、
液体状態では会合体やオリゴマーを形成する物質が膜に与える影響を低減することができ
る。本発明のゼオライト膜複合体は、ベーパーパーミエーション法に対しても好適に用い
ることができる。
た混合物中の透過性の低い成分の濃度が高いほど、例えば有機化合物と水との混合物の場
合、有機化合物の濃度が高いほど分離性能が低下するが、本発明のゼオライト膜複合体は
、高温でも、混合物中の透過性の低い成分の濃度が高い場合でも高い分離性能を発現する
ことができる。そして通常、ベーパーパーミエーション法は、液体混合物を気化させてか
ら分離するため、より過酷な条件での分離が必要とされ、ゼオライト膜複合体の耐久性も
要求される。本発明のゼオライト膜複合体は、高温条件下でも分離が可能な耐久性を有し
ているのでベーパーパーミエーション法に好適である。
いが、通常はモジュール(分離膜モジュール)にして用いるのが好ましい。分離膜モジュ
ールは、例えば、図3に模式的に示したような装置でもよい。
、気化器15での加熱により全量が気化され、被分離ガスとなる。被分離ガスは恒温槽1
6内のゼオライト膜複合体モジュール17に導入され、ゼオライト膜複合体の外側に供給
される。ゼオライト膜複合体モジュール17は、ゼオライト膜複合体を筐体中に納めたも
のである。ゼオライト膜複合体は真空ポンプ21によって内側が減圧される。被分離ガス
との圧力差は、通常約1気圧程度である。内側の圧力は、図示はしないがピラニーゲージ
で測定することができる。この圧力差によって被分離ガス中、透過物質の水がゼオライト
膜複合体を透過する。透過した物質は透過液捕集用トラップ19で捕集される。一方、被
分離ガス中の透過しなかった成分は、被分離液回収用トラップ18で液化、捕集される。
本発明におけるゼオライト膜複合体は、耐薬品性、耐酸化性、耐熱安定性、耐圧性に優
れかつ、高い透過性能、分離性能を発揮し、耐久性に優れた性能を持つ。特に無機ガス、
低級炭化水素の分離に優れた分離性能を示す。
パーミエンス(Permeance)[mol・(m2・s・Pa)−1]が、例えば二
酸化炭素を、温度50℃、差圧0.1MPaで透過させた場合、通常1×10−9以上、
好ましくは5×10−8以上、より好ましくは1×10−7以上であり、上限は特に限定
されず、通常1×10−4以下である。
で透過させた場合、通常2×10−7以下、好ましく1×10−8以下、より好ましくは
5×10−9以下であり、理想的にはパーミエンスは0であるが、実用上10−10〜1
0−14程度以上のオーダーとなる場合がある。
物質量を、膜面積と時間と透過する物質の供給側と透過側の分圧差の積で割ったものであ
り、単位は、[mol・(m2・s・Pa)−1]であり、実施例の項において述べる方
法により算出される値である。
、分離係数は膜分離で一般的に用いられる選択性を表す指標であり、実施例の項において
述べる方法により算出される値である。
させた場合、通常10以上、好ましくは20以上、より好ましくは30以上、さらに好ま
しくは40以上、特に好ましくは50以上である。理想分離係数の上限は完全に二酸化炭
素しか透過しない場合でありその場合は無限大となるが、実用上、分離係数は10万程度
以下となる場合がある。
同程度となる。例えば、二酸化炭素とメタンの体積比1:1の混合ガスを、温度50℃、
差圧0.1MPaで透過させた場合、理想分離係数と同じく、通常10以上、好ましくは
20以上、より好ましくは30以上、さらに好ましくは40以上、特に好ましくは50以
上である。分離係数の上限は完全に二酸化炭素しか透過しない場合でありその場合は無限
大となるが、実用上、分離係数は10万程度以下となる場合がある。
圧性に優れかつ、高い透過性能、分離性能を発揮し、耐久性に優れるものであり、例えば
次のようなガス分離技術として特に好適に用いることができる。
有機物の埋め立てにより発生するランドファィルガス(メタン約60%、二酸化炭素40
%、微量の窒素、水蒸気含有)からの二酸化炭素除去等が挙げられる。
における水素回収・精製(水素、一酸化炭素、二酸化炭素、炭化水素等の混合物)、燃料
電池用の高純度水素の製造などがある。燃料電池用の水素製造は、メタンの水蒸気改質反
応により得られ、H2、CO、CH4、H2Oの混合ガスから水素の分離が必要とされて
いる。
富化空気など)、窒素分離技術として空気からの窒素素富化ガスの製造(防爆用、酸化防
止など)、水蒸気分離(精密機械等の脱湿)、溶存ガス分離(水、有機液体からの脱気)
、有機ガス分離(石油精製工業、石油化学工業における有機ガス分離、オレフィン、パラ
フィンの分離)などが挙げられる。
い限り、以下の実験例により限定されるものではない。なお、以下の実験例(調製例又は
実施例)における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限また
は下限の好ましい値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は、前記上限または下
限の値と下記実験例(調製例又は実施例)の値または実験例(調製例又は実施例)同士の
値との組合せで規定される範囲であってもよい。
り次の方法で測定した。
(1)X線回折(XRD)
XRD測定は以下の条件に基づき行った。
・装置名:オランダPANalytical社製X’PertPro MPD
・光学系仕様 入射側:封入式X線管球(CuKα)
Soller Slit(0.04rad)
Divergence Slit(Valiable Slit
)
試料台:XYZステージ
受光側:半導体アレイ検出器(X’ Celerator)
Ni−filter
Soller Slit(0.04rad)
ゴニオメーター半径:240mm
・測定条件 X線出力(CuKα):45kV、40mA
走査軸:θ/2θ
走査範囲(2θ):5.0−70.0°
測定モード:Continuous
読込幅:0.05°
計数時間:99.7sec
自動可変スリット(Automatic−DS):1mm(照射幅)
横発散マスク:10mm(照射幅)
ノイズ等がはいらないように、試料台においた円筒管状の膜複合体と、試料台表面に平行
な面とが接する2つのラインのうち、試料台表面に接するラインではなく、試料台表面よ
り上部にあるもう一方のライン上に主にあたるようにした。
また、照射幅を自動可変スリ・BR>Bトによって1mmに固定して測定し、Materi
alsData, Inc.のXRD解析ソフトJADE 7.5.2(日本語版)を用いて可変
スリット→固定スリット変換を行ってXRDパターンを得た。
・装置名:SEM:FE−SEM Hitachi:S−4800
EDX:EDAX Genesis
・加速電圧:10kV
倍率5000倍での視野全面(25μm×18μm)を走査し、X線定量分析を行った
。
ゼオライト膜表面のXPS(X線光電子分光法)測定を、以下の条件で行った。
・装置名:PHI社製 Quantum2000
・X線源:単色化Al−Kα、出力 16kV−34W(X線発生面積170μmφ)
・帯電中和:電子銃(5μA)、イオン銃(10V)併用
・分光系:パルスエネルギー 187.85eV@ワイドスペクトル
58.70eV@ナロースペクトル(Na1s、Al2p
、Si2p、K2p、S2p)
29.35eV@ワイドスペクトル(C1s、O1s、S
i2p)
・測定領域:スポット照射(照射面積<340μmφ)
・取り出し角:45°(表面より)
大気圧下で、ゼオライト膜複合体の一端を封止し、他端を、気密性を保持した状態で5
kPaの真空ラインに接続して、真空ラインとゼオライト膜複合体の間に設置したマスフ
ローメーターでゼオライト膜複合体を透過した空気の流量を測定し、空気透過量[L/(
m2・h)]とした。マスフローメーターとしてはKOFLOC社製8300、N2ガス
用、最大流量500ml/min(20℃、1気圧換算)を用いた。KOFLOC社製8
300においてマスフローメーターの表示が10ml/min(20℃、1気圧換算)以
下であるときはLintec社製MM−2100M、Airガス用、最大流量20ml/
min(0℃、1気圧換算)を用いて測定した。
単成分ガス透過試験は、図1に模式的に示す装置を用いて、以下のとおり行った。用い
た試料ガスは、二酸化炭素(純度99.9%、高圧ガス工業社製)、メタン(純度99.
999%、ジャパンファインプロダクツ社製)、水素(純度99.99%以上、HORI
BASTEC社製水素発生器OPGU−2200より発生)、窒素(純度99.99%、
東邦酸素工業社製)、ヘリウム(純度99.99、ジャパンヘリウムセンター社製)であ
る。
れた状態で恒温槽(図示せず)に設置されている。恒温槽には、試料ガスの温度調整が可
能なように、温度制御装置が付設されている。
端は接続部4で接続され、接続部4の他端は、耐圧容器2と接続されている。円筒形のゼ
オライト膜複合体の内側と、透過ガス8を排出する配管11が、接続部4を介して接続さ
れており、配管11は、耐圧容器2の外側に伸びている。耐圧容器2に通ずるいずれかの
箇所には、試料ガスの供給側の圧力を測る圧力計5が接続されている。各接続部は気密性
よく接続されている。
一定の圧力で耐圧容器2とゼオライト膜複合体1の間に供給し、ゼオライト膜複合体を透
過した透過ガス8を、配管11に接続されている流量計(図示せず)にて測定する。
る。
図2において、円筒形のゼオライト膜複合体1は、ステンレス製の耐圧容器2に格納さ
れた状態で、恒温槽(図示せず)に設置されている。恒温槽には、試料ガスの温度調整が
可能なように、温度制御装置が付設されている。
は、接続部4で接続され、接続部4の他端は耐圧容器2と接続されている。円筒形のゼオ
ライト膜複合体の内側と透過ガス8を排出する配管11が、接続部4を介して接続されて
おり、配管11は、耐圧容器2の外側に伸びている。また、ゼオライト膜複合体1には、
配管11を経由して、スイープガス9を供給する配管12が挿入されている。さらに、耐
圧容器2に通ずるいずれかの箇所には、試料ガスの供給側の圧力を測る圧力計5、供給側
の圧力を調整する背圧弁6が接続されている。各接続部は気密性よく接続されている。
流量で耐圧容器2とゼオライト膜複合体1の間に供給し、背圧弁6により供給側の圧力を
一定として、配管11から排出される排出ガスの流量を測定する。
び、排気若しくは使用する供給ガスによるパージ処理をした後、試料温度及びゼオライト
膜複合体1の供給ガス7側と透過ガス8側の差圧を一定として、透過ガス流量が安定した
のちに、ゼオライト膜複合体1を透過した試料ガス(透過ガス8)の流量を測定し、ガス
のパーミエンス[mol・(m2・s・Pa)−1]を算出する。パーミエンスを計算す
る際の圧力は、供給ガスの供給側と透過側の圧力差(差圧)を用いる。
α=(Q1/Q2)/(P1/P2) (1)
〔式(1)中、Q1およびQ2は、それぞれ、透過性の高いガスおよび透過性の低いガス
の透過量[mol・(m2・s)−1]を示し、P1およびP2は、それぞれ、供給ガス
である透過性の高いガスおよび透過性の低いガスの圧力[Pa]を示す。〕
る。
α’=(Q’1/Q’2)/(P’1/P’2) (2)
〔式(2)中、Q’1およびQ’2は、それぞれ、透過性の高いガスおよび透過性の低い
ガスの透過量[mol・(m2・s)−1]を示し、P’1およびP’2は、それぞれ、
供給ガスである透過性の高いガスおよび透過性の低いガスの圧力[Pa]を示す。〕
無機多孔質支持体上にCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを直接水熱合成することに
より無機多孔質支持体−CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。
水熱合成用の反応混合物は次のとおり調製した。
1mol/L−NaOH水溶液44.1g、1mol/L−KOH水溶液29.0g、
に水酸化アルミニウム(Al2O3 53.5質量%含有、アルドリッチ社製)2.52
gを加え、さらに水591gを加えて攪拌し、水酸化アルミニウムを溶解させた。これに
有機テンプレートとして、N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムヒドロ
キシド(以下これを「TMADAOH」と称する。)水溶液(TMADAOH 25質量
%含有、セイケム社製)13.5gを加え、さらにコロイダルシリカ(日産化学社製 ス
ノーテック−40)60.0gを加えて2時間撹拌し、水性反応混合物とした。
O/TMADAOH=1/0.033/0.11/0.073/100/0.04、Si
O2/Al2O3=30である。
400mmの長さに切断した後、圧空で切断時に生じた粉末を除去したものを使用した。
SiO2/Al2O3/NaOH/KOH/H2O/TMADAOH=1/0.033/
0.1/0.06/40/0.07のゲル組成で160℃、2日間水熱合成して結晶化さ
せた粒径0.5μm程度のCHA型ゼオライトを種結晶として用いた。
た後、100℃で4時間以上乾燥させて種結晶を付着させた。
製内筒(800ml)に垂直方向に浸漬して、オートクレーブを密閉し、160℃で48
時間、静置状態で、自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜
複合体を反応混合物から取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
5時間焼成した。焼成後の膜複合体の質量と支持体の質量の差から求めた、支持体上に結
晶化したCHA型ゼオライトの質量の平均値は196g/m2であった。また、焼成後の
空気透過量は81L/(m2・h)であった。
である。XRD測定からCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。
粉末のCHA型ゼオライト(米国特許第4544538号明細書においてSSZ−13
と一般に呼称されるゼオライト、以下これを「SSZ−13」と称する。)のXRDパタ
ーンを図5に示す。
るSSZ−13のXRDパターン(図5)にくらべ2θ=17.9°付近のピークの強度
が顕著に大きいことがわかる。
粉末のCHA型ゼオライトであるSSZ−13の(2θ=17.9°付近のピークの強
度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)=0.2に対し、生成したゼオライト膜
の(2θ=17.9°付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)
=1.2であり、rhombohedral settingにおける(1,1,1)面への配向が推測された
。
34であった。
調製例1で得られた膜複合体を40mmにカットし、水35gに硝酸鉄(III)9水和
物14.1gを溶かした約0.9Mの硝酸鉄水溶液が入ったテフロン(登録商標)製内筒
(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態、自生
圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶液から取り
出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
試験を行った。評価したガスは二酸化炭素、メタン、水素、窒素、ヘリウムである。
、耐圧容器2とゼオライト膜複合体1との円筒の間に導入して、圧力を約0.16MPa
に保ち、ゼオライト膜複合体1の円筒の内側を0.098MPa(大気圧)として、70
分間以上乾燥し、CO2の透過量が変化しないことを確認した。
とき、ゼオライト膜複合体1の供給ガス7側と透過ガス8側の差圧は、0.1MPaであ
った。
のとき、ゼオライト膜複合体1の供給ガス7側と透過ガス8側の差圧は、0.1MPaで
あった。
40℃における各ガスのパーミエンスと分離係数を表2に示した。
調製例1で得られた膜複合体を40mmにカットし、硝酸鉄水溶液で処理せずに用いた
以外は実施例1と同様に、単成分ガス透過試験を行った。得られた50℃における各ガス
のパーミエンスと分離係数を表1に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離係数
を表2に示した。
、CO2/N2の各分離係数の十分な上昇が確認できた。
無機多孔質支持体上にCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを直接水熱合成することに
より無機多孔質支持体−CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。
水熱合成用の反応混合物は次のとおり調製した。
1mol/L−NaOH水溶液12.0g、1mol/L−KOH水溶液8.0g、水
115gを混合したものに水酸化アルミニウム(Al2O3 53.5質量%含有、アル
ドリッチ社製)0.306gを加えて撹拌し溶解させ、透明溶液とした。これに有機テン
プレートとして、N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムヒドロキシド(
以下これを「TMADAOH」と称する。)水溶液(TMADAOH 25質量%含有、
セイケム社製)2.7gを加え、さらにコロイダルシリカ(日産化学社製 スノーテック
−40)12.0gを加えて2時間撹拌し、水性反応混合物とした。
O/TMADAOH=1/0.01/0.15/0.1/100/0.04、SiO2/
Al2O3=100である。
80mmの長さに切断した後、超音波洗浄機で洗浄したのち乾燥させたものを用いた。
1/0.066/0.15/0.1/100/0.04のゲル組成(モル比)で、多孔質ア
ルミナチューブ(外径12mm、内径9mm)存在条件で160℃、2日間水熱合成して
生成した沈澱物を、ろ過、水洗、乾燥して得られたCHA型ゼオライトを用いた。種結晶
の粒径は2〜4μm程度であった。
約1質量%に分散させたものに、上記支持体を所定時間浸した後、100℃で4時間以上
乾燥させて種結晶を付着させた。乾燥後の質量増加は9.9g/m2であった。
筒(200ml)に垂直方向に浸漬して、オートクレーブを密閉し、160℃で48時間
、静置状態で、自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後に支持体−ゼオライ
ト膜複合体を反応混合物から取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
度と降温速度はともに0.5℃/分とした。焼成後の膜複合体の質量と支持体の質量の差
から求めた、支持体上に結晶化したCHA型ゼオライトの質量は122g/m2であった
。また、焼成後の空気透過量は570L/(m2・h)であった。
である。XRD測定からCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。また(2θ
=9.6°付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)=3.4、
(2θ=17.9°付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)=
0.34であった。図5の粉末のCHA型ゼオライトのXRDパターンと比べて、調製例
2で得られたゼオライト膜のXRDパターンは(2θ=17.9°付近のピークの強度)
/(2θ=20.8°付近のピークの強度)は同程度にあるのに対して(2θ=9.6°
付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)は高く、rhombohedral
settingにおける(1,0,0)面への配向が推測された。
0.2であった。
調製例2で得られた膜複合体を30mmにカットし、水25gに硝酸鉄(III)9水和
物2.12gを溶かした0.2Mの硝酸鉄水溶液が入ったテフロン(登録商標)製内筒(
100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態、自生圧
力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後に支持体−ゼオライト膜複合体を水溶液か
ら取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表3に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表4に示した。
調製例2で得られた膜複合体を40mmにカットし、硝酸鉄水溶液で処理せずに用いた
以外は実施例1と同様に、単成分ガス透過試験を行った。得られた50℃における各ガス
のパーミエンスと分離係数を表3に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離係数
を表4に示した。
ニウムの少ないゼオライト膜複合体でも硝酸鉄水溶液の処理による十分な分離係数の上昇
が確認できた。
無機多孔質支持体上にCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを直接水熱合成することに
より無機多孔質支持体−CHA型ゼオライト膜複合体を作製した。
水熱合成用の反応混合物は次のとおり調製した。
1mol/L−NaOH水溶液60.1g、1mol/L−KOH水溶液40.0g、
に水酸化アルミニウム(Al2O3 53.5質量%含有、アルドリッチ社製)5.03
gを加え、さらに水574gを加えて攪拌し、水酸化アルミニウムを溶解させた。これに
有機テンプレートとして、N,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムヒドロ
キシド(以下これを「TMADAOH」と称する。)水溶液(TMADAOH 25質量
%含有、セイケム社製)13.5gを加え、さらにコロイダルシリカ(日産化学社製 ス
ノーテック−40)60.1gを加えて2時間撹拌し、水性反応混合物とした。
O/TMADAOH=1/0.066/0.15/0.1/100/0.04、SiO2
/Al2O3=15である。
型ゼオライトの質量の平均値は116g/m2であった。また、焼成後の空気透過量は1
20L/(m2・h)であった。
である。XRD測定からCHA型ゼオライトが生成していることがわかった。
図7から、生成したゼオライト膜のXRDパターンは、粉末のCHA型ゼオライトであ
るSSZ−13のXRDパターン(図5)にくらべ2θ=17.9°付近のピークの強度
が顕著に大きいことがわかる。
)/(2θ=20. 8°付近のピークの強度)=5.7に対し、生成したゼオライト膜の
(2θ=17.9°付近のピークの強度)/(2θ=20.8°付近のピークの強度)=
6.4であり、rhombohedral settingにおける(1,0,0)面、(1,1,1)面への
配向が推測された。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、水31.2gに硝酸ランタン6水
和物15.2gを溶かした約1Mの硝酸ランタン水溶液が入ったテフロン(登録商標)製
内筒(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態、
自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶液から
取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、水29.3gに硝酸クロム9水和
物14.0gを溶かした約1Mの硝酸クロム水溶液が入ったテフロン(登録商標)製内筒
(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態、自生
圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶液から取り
出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、水33.9gに硝酸ジルコニル2
水和物9.6gを溶かした約1Mの硝酸ジルコニル水溶液が入ったテフロン(登録商標)
製内筒(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態
、自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶液か
ら取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、水31.2gに硝酸マグネシウム
6水和物8.9gを溶かした約1Mの硝酸マグネシウム水溶液が入ったテフロン(登録商
標)製内筒(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置
状態、自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶
液から取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、水30.0gに硝酸ガリウム8水
和物14.0gを溶かした約1Mの硝酸ガリウム水溶液が入ったテフロン(登録商標)製
内筒(100ml)に入れた。オートクレーブを密閉し、100℃で1時間、静置状態、
自生圧力下で加熱した。所定時間経過後、放冷した後にゼオライト膜複合体を水溶液から
取り出し、洗浄後、100℃で4時間以上乾燥させた。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
実施例3で得た約1Mの硝酸ランタン水溶液で処理した膜を洗浄、乾燥後に300℃で
4時間焼成した。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
実施例6で得た約1Mの硝酸マグネシウム水溶液で処理した膜を洗浄、乾燥後に300
℃で4時間焼成した。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
実施例7で得た約1Mの硝酸ガリウム水溶液で処理した膜を洗浄、乾燥後に300℃で
4時間焼成した。
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
調製例3で得られた膜複合体を40mmにカットし、硝酸金属塩水溶液で処理せずに用
いた以外は実施例1と同様に、単成分ガス透過試験を行った。得られた50℃における各
ガスのパーミエンスと分離係数を表5に、140℃における各ガスのパーミエンスと分離
係数を表6に示した。
スの精製プラント、生ゴミなどからバイオガスを発生させるプラント等の気体混合物(ガ
ス)の分離が必要とされる分野において、また例えば、化学工業プラント、発酵プラント
、精密電子部品工場、電池製造工場等の含水有機化合物から水を分離し、有機化合物の回
収などが必要とされる分野において、特に好適に使用することができる。
2:耐圧容器
3:エンドピン
4:接続部
5:圧力計
6:背圧弁
7:供給ガス
8:透過ガス
9:スイープガス
10:排出ガス
11:透過ガス排出用配管
12:スイープガス導入用配管
13:被分離液
14:送液ポンプ
15:気化器
16:恒温槽
17:ゼオライト膜複合体モジュール
18:被分離液回収用トラップ
19:透過液捕集用トラップ
20:コールドトラップ
21:真空ポンプ
(1) 無機多孔質支持体上にAlを除く2価以上の金属を含有するゼオライト膜を有す
る多孔質支持体−ゼオライト膜複合体の製造方法であって、無機多孔質支持体上にゼオラ
イト膜を形成し、該ゼオライト膜にAlを除く2価以上の金属よりなる群から選ばれる少
なくとも1種の金属を含有させた後、500℃以下の温度で焼成することを特徴とする、
金属含有ゼオライト膜複合体の製造方法。
(2) 該金属は、金属元素源化合物が含まれる溶液に無機多孔質支持体上に形成された
ゼオライト膜(膜複合体)を浸漬する、金属元素源化合物が含まれる溶液を膜複合体にス
プレーする、または金属元素源化合物が含まれる溶液を膜複合体に滴下する、ことを特徴
とする(1)記載の金属含有ゼオライト膜複合体の製造方法。
(3) 無機多孔質支持体上に形成されたゼオライト膜(膜複合体)を0〜180℃の金
属元素源化合物が含まれる溶液に浸漬させる、(1)または(2)に記載の金属含有ゼオ
ライト膜複合体の製造方法。
(4) 金属元素源化合物が含まれる溶液中の金属元素源化合物の濃度は、0.01〜5
モル/Lであることを特徴とする、(1)〜(3)のいずれか一項に記載の金属含有ゼオ
ライト膜複合体の製造方法。
(5) 該ゼオライト膜は、有機テンプレートを含有する水性反応混合物を用いて、水熱
合成により無機多孔質支持体上にゼオライトを結晶化させて形成される、(1)〜(4)
のいずれか一項に記載の金属含有ゼオライト膜複合体の製造方法。
Claims (11)
- 複数の成分からなる気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離するために用い
るゼオライト膜複合体であって、Alを除く2価以上の金属よりなる群から選ばれる少な
くとも1種の金属を含有するCHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオライト膜が
、無機多孔質支持体上に形成されてなることを特徴とするゼオライト膜複合体。 - 2価以上の金属が、Mg、Fe、Ga、La、Cr、Zr、SnおよびTiである、請
求項1に記載のゼオライト膜複合体。 - ゼオライトのSiO2/Al2O3モル比が、6以上100以下である、請求項1また
は2に記載のゼオライト膜複合体。 - ゼオライト膜が、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=17
.9°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の0.5倍以上の値を有
するものである、請求項1ないし3のいずれか1項に記載のゼオライト膜複合体。 - ゼオライト膜が、膜表面にX線を照射して得たX線回折パターンにおいて、2θ=9.
6°付近のピーク強度が、2θ=20.8°付近のピーク強度の2.0倍以上の値を有す
るものである、請求項1ないし4のいずれか1項に記載のゼオライト膜複合体。 - ゼオライト膜複合体を、絶対圧5kPaの真空ラインに接続した時の空気透過量が0L
/(m2・h)以上900L/(m2・h)以下である、請求項1ないし5のいずれか1
項に記載のゼオライト膜複合体。 - ゼオライト膜が、アルカリ源として少なくともカリウム(K)を含む水熱合成用の反応
混合物を用いて形成されたものである、請求項1ないし6のいずれか1項に記載のゼオラ
イト膜複合体。 - CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオライト膜が無機多孔質支持体上に形成
されてなるゼオライト膜複合体を、Alを除く2価以上の金属よりなる群から選ばれる少
なくとも1種の金属のイオンを含む水溶液に接触させることにより得られたものである、
請求項1ないし7のいずれか1項に記載のゼオライト膜複合体。 - 複数の成分からなる気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離するために用い
るゼオライト膜複合体であって、CHA型アルミノ珪酸塩のゼオライトを含むゼオライト
膜が無機多孔質支持体上に形成されてなるゼオライト膜複合体を、Alを除く2価以上の
金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンを含む水溶液に接触させるこ
とにより得られたものであることを特徴とするゼオライト膜複合体。 - 請求項1ないし9のいずれか1項に記載のゼオライト膜複合体に、複数の成分からなる
気体混合物を接触させ、該気体混合物から、透過性の高い成分を透過して分離する、また
は、透過性の高い成分を透過させて分離することにより透過性の低い成分を濃縮すること
を特徴とする気体混合物の分離または濃縮方法。 - 気体混合物が、二酸化炭素、水素、酸素、窒素、メタン、エタン、エチレン、プロパン
、プロピレン、ノルマルブタン、イソブタン、1-ブテン、2−ブテン、イソブテン、六
フッ化硫黄、ヘリウム、一酸化炭素、一酸化窒素及び水よりなる群から選ばれる少なくと
も1種の成分を含むものである、請求項10に記載の方法。
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