JP2017163066A - 光処理装置、および被処理物体の表面と窓部材との間隔調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ギャップを均一化して処理の均一化する
【解決手段】光処理装置の一態様は、光を発する光源部と、前記光源部から発せられた光に被処理物体の表面が処理気体の雰囲気中で曝される処理部と、前記光源部と前記処理部とを隔て、該光源部から発せられた光を透過する窓部材と、前記被処理物体の表面と前記窓部材との間に、該表面に沿って前記処理気体を流す気体給排部と、前記処理気体が流れている状態で、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を調整する差圧調整部と、を備える。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光処理装置、および被処理物体の表面と窓部材との間隔調整方法に関する。更に詳しくは、本発明は、例えば、プリント基板製造工程におけるスミアの除去（デスミア）処理などに好適な光処理装置、およびその光処理装置に用いられる、被処理物体の表面と窓部材との間隔調整方法に関する。

従来、例えば、半導体や液晶パネル等の製造工程におけるレジストの光アッシング処理、ナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に付着したレジストの除去処理、液晶用のガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理、プリント基板製造工程におけるスミアの除去（デスミア）処理などに用いられる光処理装置および光処理方法として、紫外線を用いた光処理装置および光処理方法が知られている。特に、エキシマランプなどから放射される真空紫外線により生成されるオゾンや酸素ラジカル等の活性種を利用した装置や方法は、より効率良く短時間で所定の処理を行うことができることから、好適に利用されている。

例えば特許文献１では、ビアホールのデスミア処理として、基板に紫外線を照射する方法が提案されており、酸素を含む雰囲気下で、ビアホールを形成した基板に紫外線を照射することが提案されている。酸素に紫外線を照射すると、オゾンや酸素ラジカルなどの活性種が発生する。スミアは、これらの活性種と結合し、二酸化炭素や水蒸気となって除去される。そして、二酸化炭素や水蒸気は、排ガスとなって処理室外に排気される。

基板などといった被処理物体（ワーク）が配置される処理室は、紫外線を発する光源とは、透明な窓部材で隔てられていて、窓部材とワークとの間隔は例えば１ｍｍ以下というような狭い間隔に設定されている。そして、光処理の間は、窓部材とワークとの間隔（窓部材の下面からワークの表面までの間隔、以下、この間隔のことを「ギャップ」とも称する）は、ワークの全面に渡って等しい必要がある。
なぜなら、光源からの紫外線は処理室を流れる処理用ガスに吸収されるため、ギャップが不均一であると、ワークに届く紫外線の量が、ワークの場所により不均一となり、そのことにより処理に不均一が生じるためである。
ギャップを均一化するため、ワークを載せる載置台に吸着穴を設けて真空吸着することでワークを載置台に密着させてワーク表面の平面度を高めている。

特開２０１５−１２０１２９号公報

しかしながら、デスミア処理などにおける処理精度が向上するにつれて、上記のような従来の手法でギャップの均一化を図っても、処理に不均一が生じることが分かってきた。このような処理の不均一は、ギャップの不均一が一因として考えられていたものの、そのようなギャップの不均一を生じさせる原因は知られていなかった。
そこで、本発明は、ギャップを均一化して処理の均一化することを課題とする。

上記課題を解決するために、本発明に係る光処理装置の一態様は、光を発する光源部と、前記光源部から発せられた光に被処理物体の表面が処理気体の雰囲気中で曝される処理部と、前記光源部と前記処理部とを隔て、該光源部から発せられた光を透過する窓部材と、前記被処理物体の表面と前記窓部材との間に、該表面に沿って前記処理気体を流す気体給排部と、前記処理気体が流れている状態で、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を調整する差圧調整部と、を備える。

発明者らは、光処理装置において光処理中に窓部材の中央部が光源部側に持ち上がり（上に凸にたわみ）ギャップに部分的な不均一が生じることを見いだした。更に、発明者らは、その理由について調査した結果、次のようなことが原因であることを見出した。
（１）窓部材とワークとの間の狭い空間を処理用ガスが流れることによる、ガスの入り口側と出口側とで生じる差圧。
（２）処理気体の排出側配管における排出抵抗（圧力損失）で生じる内圧上昇。
（３）窓部材の周縁に押し当てられたＯリングの反発力による窓部材の押し上げ。
また、窓部材のたわみは、必ずしも光源部側に凸ではなく、条件によってはワーク側に凸のたわみとなる場合もあることも見いだした。
このような窓部材のたわみに対し、窓部材を厚くしてたわみにくくすると、その分、光源部からワークまでの距離が長くなり、また窓部材により吸収される紫外線の量が増えることにより、ワークに届く紫外線の量が減少する。これにより処理時間が長くなる。また、窓部材のコストも高くなり、装置の総重量が増すといった点でも、窓部材を厚くすることは望ましくない。

本発明に係る光処理装置によれば、差圧調整部による圧力差の調整という簡便な手法によって容易にギャップの均一化を図ることができ、光処理の均一化とともに、装置の小型化やコスト抑制にも寄与することができる。
上記光処理装置において、前記差圧調整部は、前記気体給排部が前記処理気体を前記処理部から排気する排気量を調整するものであることが好適である。圧力差の調整という点では、前記処理気体の給気量を調整したり、前記光源部側の圧力を調整する方式でも実現可能であるが、光処理装置における処理能力に対する影響が少ない点で、排気量を調整する方式が優れている。

また、上記光処理装置において、更に、前記窓部材と前記被処理物体の表面との間に挟まれて該窓部材と該表面との距離を保つスペーサを備え、前記差圧調整部は、前記窓部材で隔てられた両側のうち、前記被処理物体側の圧力が前記光源部側の圧力よりも低圧となるように圧力差を調整するものであることも好適である。スペーサを備えることで窓部材と被処理物体の表面との近づきすぎが回避されるため、差圧調整部では、被処理物体側の圧力をある程度以上低圧とする簡易な調整によってギャップの均一化を図ることができる。

さらに、上記課題を解決するために、本発明に係る被処理物体の表面と窓部材との間隔調整方法の一態様は、光に曝されて処理される被処理物体の表面と該光を透過する窓部材との間に、該表面に沿って処理気体を流す気体給排過程と、前記処理気体が流れている状態で、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を調整する差圧調整過程と、を有する。
このような間隔調整方法によれば、差圧調整過程による圧力差の調整という簡便な手法によって容易にギャップの均一化を図り、光処理の均一化を実現することができる。

上記間隔調整方法において、更に、前記窓部材の周縁部分に、該窓部材よりも弾性的な気密部材を押し付けて前記処理気体の漏出を防ぐ押付過程を有し、前記差圧調整過程が、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を、前記押付過程における気密部材の押し付けの強弱に応じた圧力差に調整する過程であってもよい。
例えばＯリングやシーリング部材などと行った気密部材は、被処理物体の大きさ、材質、厚み、表面状態等といった諸条件に応じて窓部材への押付の強弱が変更されることがあるが、窓部材への押付の強弱は窓部材のたわみに大きく影響する。そこで、差圧調整過程で、圧力差を、押付の強弱に応じた圧力差に調整することでギャップの均一化を図ることができる。

本発明によれば、ギャップを均一化して処理を均一化することができる。

本実施形態の光処理装置を示す概略構成図である。 エジェクタの構造を示す図である。 窓部材の構造を示す断面図である。 差圧調整の寄与を確認した実験結果を示す表である。 処理部と光照射部の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップ差の変化を示すグラフである。 スペーサが設けられた場合の、処理部と光照射部の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップ差の変化を示すグラフである。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態の光処理装置を示す概略構成図である。本実施形態では光処理装置の一例として例えばデスミア処理装置への応用例が示されている。
（光処理装置の構成）
光処理装置１００は、光照射部１０と、被処理物体の一例である基板（ワーク）Ｗを保持する処理部２０とを備える。光照射部１０は、例えば真空紫外線を発する複数の紫外線光源１１を内部に収納し、処理部２０が保持する基板Ｗに紫外線光源１１からの光を照射する。光照射部１０は、本発明にいう光源部の一例に相当し、処理部２０は、本発明にいう処理部の一例に相当する。

光照射部１０は、下方に開口部を有する箱型形状のケーシング１４を備える。ケーシング１４の開口部には、例えば真空紫外線を透過する、例えば石英ガラス等の窓部材１２が気密に設けられている。この窓部材１２が、本発明にいう窓部材の一例に相当する。
光照射部１０（ケーシング１４）の内部は、供給口１５から例えば窒素ガス等の不活性ガスが供給されることで、不活性ガス雰囲気に保たれている。光照射部１０内の紫外線光源１１の上方には、反射鏡１３が設けられている。反射鏡１３は、紫外線光源１１から発せられた光を窓部材１２側に反射する。このような構成により、反射鏡１３の全幅にほぼ対応した領域Ｒに対して、ほぼ均等に紫外線光源１１の光が照射される。すなわち、領域Ｒは、窓部材１２とステージ２１の表面とで挟まれた領域のうち、紫外線が照射される領域であり、基板Ｗに対して紫外線照射処理（デスミア処理）を行う紫外線処理領域となる。

紫外線光源１１は、例えば波長２２０ｎｍ以下、好ましくは波長１９０ｎｍ以下の紫外線（真空紫外線）を出射するものであって、種々の公知のランプを利用できる。ここで、波長２２０ｎｍとしたのは、紫外線の波長が２２０ｎｍを超える場合には、樹脂などの有機物質に起因するスミアを分解除去することが困難となるためである。
紫外線光源１１としては、例えば、キセノンガスを封入したキセノンエキシマランプ（ピーク波長１７２ｎｍ）、低圧水銀ランプ（１８５ｎｍ輝線）などを用いることができる。なかでも、デスミア処理に用いるものとしては、例えばキセノンエキシマランプが好適である。

処理部２０は、紫外線照射処理（デスミア処理）を行う基板Ｗを表面に吸着して保持するステージ２１を備える。ステージ２１は、光照射部１０の窓部材１２に対向して配置されている。ステージ２１には、基板Ｗを吸着するために例えば吸着孔（不図示）が穿たれている。このステージ２１は、平坦性を確保するため、例えばアルミニウム材で形成されている。
ステージ２１表面の外周部分には、外周溝２１ａが形成されている。この外周溝２１ａと光照射部１０の窓部材１２との間にＯリング２２が挟まれることで、光照射部１０と処理部２０とが気密に組み付けられる。このＯリング２２が、本発明にいう気密部材の一例に相当する。
ステージ２１は、ステージ２１を窓部材に対し接近乖離する方向（図の上下方向）に移動させるアクチュエータ５１に支えられている。このアクチュエータ５１によってステージ２１が移動されることによって、Ｏリング２２が窓部材１２に押し付けられる強さが調整される。

ステージ２１の一方（図１の右側）の側縁部には、処理用ガス（処理気体）を処理領域Ｒに供給するための給気路２４が形成されている。給気路２４には、処理用ガスを供給する供給装置４１が接続されている。
また、ステージ２１の他方（図１の左側）の側縁部には、デスミア処理後の排ガスをステージ部２１外に排出するための排気路２５が形成されている。
ここで、処理用ガスとしては、例えば、酸素ガス、酸素とオゾンや水蒸気の混合ガス、これらのガスに不活性ガスなどを混合したガスなどが用いられる。処理用ガスは、基板Ｗに対して光照射部１０からの紫外線が照射されている間、給気路２４を通って処理領域Ｒに供給され、排気路２５を通って排ガスとしてステージ部２１外部に排出される。すなわち、処理用ガスは、窓部材１２と基板Ｗとの間の処理領域Ｒを、図１の右から左へと流れていくこととなる。

本実施形態の光処理装置１００では、排気路２５にエジェクタ４２が取り付けられている。エジェクタ４２は流体を利用して減圧状態を作り出すものであり、本実施形態では、例えばコンプレッサ４５で生成される例えば圧縮空気の流れを利用している。このエジェクタ４２が排気路２５に取り付けられることで、処理部２０内の処理用ガスが強制的に排出される。排気路２５とエジェクタ４２とを繋ぐ配管には、モータ駆動で開閉されて配管の開度を調整するコック４６が設けられている。また、光処理装置１００には、コック４６の開度とアクチュエータ５１の駆動を制御する制御部５２も備えられている。

ここで、エジェクタ４２の構造について説明する。
図２は、エジェクタの構造を示す図である。
エジェクタ４２には、上述した排気路２５に接続される吸込口４２１と、上述したコンプレッサ４５から圧縮空気が供給される一次側開口４２２と、気体が排出される二次側開口４２３とを有する。一次側開口４２２から供給された圧縮空気は、ノズル４２４から吹き出すことで流速が増してディフューザ４２５へと流入する。このように流速が増すことで、ノズル４２４とディフューザ４２５との間で減圧状態が生じ、吸込口４２１から排ガスが吸い込まれる。このように吸い込まれた排ガスは、圧縮空気の流れとともに二次側開口４２３に導かれて流出する。

図３は、窓部材の構造を示す断面図である。
窓部材１２には、ワークＷの表面に接触するスペーサ１２１が設けられている。スペーサ１２１の高さは例えば約１００μｍ〜約１ｍｍである。
この窓部材１２は照射する光の透過率を考慮した薄い部材であり、例えば１辺の長さに対して厚みが１／１００以下である。このため、上述したような原因で窓部材１２にたわみが生じることを発明者らは見いだした。ワークＷに近づく方向のたわみはスペーサ１２１によって抑制されるものの、ワークＷから離れる方向へのたわみはスペーサ１２１では抑制できない。そして、このような窓部材１２のたわみを抑制してワークＷ全面でワークＷと窓部材１２とのギャップを均一化するために、発明者らが鋭意検討した結果、上述したエジェクタによる差圧調整が有効であることを見いだした。

図４は、差圧調整の寄与を確認した実験結果を示す表である。
図４の表には、従来のように差圧調整を行わない場合と、本実施形態のようにエジェクタを用いて差圧調整を行った場合とのそれぞれについてギャップの均一性が示されている。但し、ここに結果が示された実験では、図３に示すスペーサ１２１を有さない窓部材１２が用いられているものとする。このため、窓部材１２はワークＷから離れる方向にも近づく方向にもたわみ得る。
この表に示す実験では、処理用ガスの流量が４ｌ／ｍｉｎ〜１２ｌ／ｍｉｎであるとき、差圧調整の有無でギャップの均一性を比較した。また、ワークＷサイズは３４０ｍｍ×５１０ｍｍ、ギャップの測定点は１８点で、ギャップの均一性を表す数値としては、最も広いギャップの値から最も狭いギャップの値を引いた値（Ｐ−Ｐ値）を用いた。
差圧調整の結果、処理部２０内の圧力は、光照射部１０内の圧力に較べてわずかに減圧された状態となった。ここで「わずかな減圧」とは、最大でも２ｋＰａ程度の減圧である。
図４の表から分かるように、処理用ガスの流量の多少にかかわらず、差圧調整を行うと、Ｐ−Ｐ値が約１０分の１に小さくなっている。Ｐ−Ｐ値が小さいということは、ワークＷ面内のギャップのばらつきが小さく、ギャップの均一度が良いということになる。

ここで、処理部２０と光照射部１０の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分の変化について更に説明する。
図５は、処理部２０と光照射部１０の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分の変化を示すグラフである。なお、ここに結果が示された実験でも、図３に示すスペーサ１２１を有さない窓部材１２が用いられている。
図の横軸は、処理部２０側の圧力から光照射部１０側の圧力を差し引いた差圧を表し、縦軸は窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分を表している。但し、＋：中央部が光照射部１０側に凸状、−：中央部がワークＷ側に凸状と定義する。

菱形のマークが付された太線６１は、窓部材１２にＯリング２２が強く押し当てられた条件Ａにおけるギャップの差分の変化を示している。
四角形のマークが付された細線６２は、窓部材１２にＯリング２２が通常程度に押し当てられた条件Ｂにおけるギャップの差分の変化を示している。
三角形のマークが付された点線６３は、窓部材１２にＯリング２２が弱く押し当てられた条件Ｃにおけるギャップの差分の変化を示している。
窓部材１２に対するＯリング２２の押付の強弱は、図１に示すアクチュエータ５１によるステージ２１の上下移動によって変更されるが、ワークＷの大きさ、材質、厚み、表面状態等といった諸条件に応じて上記の条件Ａ〜条件Ｃが選択されるものとする。

上記の条件Ａ〜条件Ｃのいずれの場合でも、差圧がゼロの場合は窓部材１２が光照射部１０側に凸の状態に撓んでいることが分かる。そして、処理部２０側を光照射部１０側に対して陰圧とすることによって中央部のギャップを、窓部材１２の周辺部分よりも小さく、ワークＷ側に凸の状態に撓ませることができる。但し、ワークＷ全面でギャップが均一化するときの差圧は上記の条件Ａ〜条件Ｃによって異なっている。例えば条件Ａでは１ｋＰａの陰圧でギャップが均一化し、例えば条件Ｂでは０．８ｋＰａの陰圧でギャップが均一化し、例えば条件Ｃでは０．５ｋＰａの陰圧でギャップが均一化する。これらの圧力値は大気圧に較べるとわずかな値であるが、例えば１ｍｍ以下などといった小さなギャップに及ぼす影響は充分に大きい。

また、図５に示す例は、窓部材１２に対するＯリング２２の押付以外は同一条件であるものとした例であるが、差圧に対するギャップ差の変化は、例えば処理用ガスの流量の相違などによっても異なる変化を示す。
さらに、図５に示す例では、処理部２０側を光照射部１０側に対して陰圧とすることでギャップが均一化するが、例えば、窓部材１２の自重たわみが大きい場合や、Ｏリング２２の押付が弱い場合や、処理用ガスの流量が少ない場合や、排気側の配管における排出抵抗（圧力損失）が小さい場合などには、処理部２０側を光照射部１０側に対して陽圧とすることでギャップが均一化することもある。

このような場合であっても、図５に示すようなギャップ差の変化傾向を光処理に先立って測定し、ギャップが均一化する差圧を、各種の条件に応じた値として得ておくことはできる。ギャップが均一化する差圧がそのように事前に得られていることを前提とした、光処理装置における動作手順について以下図１を参照して説明する。
（１）光照射部１０と処理部２０とは上下に分離している。窓部材１２は光照射部１０側に取り付けられている。
（２）ワークＷがステージ２１上に載置されて吸着固定される。
（３）光照射部１０が下降、もしくは処理部２０が上昇する。これにより窓部材１２がＯリング２２と接触し、処理部２０が密閉される。制御部５２がアクチュエータ５１を制御してステージ２１を上下移動し、窓部材１２とワークＷとの間隔を、あらかじめ設定された例えば１ｍｍ以下といった間隔にする。

（４）供給装置４１が動作し処理部２０に処理用ガスが導入される。また、エジェクタ４２も動作し、処理部２０からガスが排出される。この（４）の過程が、本発明にいう気体給排過程の一例に相当する。
（５）制御部５２には、今回の光処理における諸条件が入力されて、それらの条件に応じた差圧が求められる。そして、制御部５２がコック４６の開度を調整することでその差圧を実現し、窓部材１２とワークＷとのギャップが一定に維持される。なお、本実施形態の場合、窓部材１２とワークＷとの間にスペーサが設けられているため差圧の厳密な制御は求められない。コック４６の開度が、求められている差圧を実現する開度よりも大きめの側にややずれた程度であればスペーサによってギャップは一定に維持される。

この（５）の過程における、処理部２０と光照射部１０の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分の変化について説明する。
図６は、窓部材１２にスペーサ１２１が設けられた場合の、処理部２０と光照射部１０の差圧に対する窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分の変化を示すグラフである。
図の横軸は、処理部２０側の圧力から光照射部１０側の圧力を差し引いた差圧を表し、縦軸は窓部材の中央部と周辺部でのギャップの差分を表している。
菱形のマークが付された太線６４は、窓部材１２にＯリング２２が強く押し当てられた条件Ａにおけるギャップの差分の変化を示している。
四角形のマークが付された細線６５は、窓部材１２にＯリング２２が通常程度に押し当てられた条件Ｂにおけるギャップの差分の変化を示している。
三角形のマークが付された点線６６は、窓部材１２にＯリング２２が弱く押し当てられた条件Ｃにおけるギャップの差分の変化を示している。

太線６４が示す条件Ａでは、１．０ｋＰａ以上の陰圧でギャップの差分が０に維持される。また、細線６５が示す条件Ｂでは、０．８ｋＰａ以上の陰圧でギャップの差分が０に維持される。更に、点線６６が示す条件Ｃでは、０．５ｋＰａ以上の陰圧でギャップの差分が０に維持される。
このように、スペーサを設けることにより、条件Ａ〜条件Ｃのいずれでも、差圧がある値以上であればギャップは常に一定に維持される。したがって、上記（５）の過程では、差圧をやや大きな値に設定しておけば、処理室内の圧力が、処理用ガスの流れの影響などにより多少変動するようなことがあったとしても、ギャップを一定に維持することができる。

上記（５）の過程が、本発明にいう差圧調整過程の一例に相当し、図１に示す制御部５２が本発明にいう差圧調整部の一例に相当する。以下、光処理装置における動作手順について説明を続ける。
（６）紫外線光源１１を点灯し、光処理を開始する。
（７）光処理が終了すると、紫外線光源１１を消灯する。
（８）処理部２０への処理用ガスの導入を停止し、エジェクタの動作も停止する。
（９）光照射部１０が上昇、もしくは処理部２０が下降し、光照射部１０と処理部２０とが上下に分離する。
（１０）ワークＷを取り出す。
以上のような手順によってワークＷ全面に対して均一な紫外線照射処理（デスミア処理）を施すことができる。

なお、上記実施形態ではスペーサを有する例を好適な例として示したが、本発明の光処理装置はスペーサを有さないものであってもよい。
また、上記実施形態では、デスミア処理装置への応用例が示されているが、本発明は、レジストの光アッシング処理や、レジストの除去処理や、ドライ洗浄処理などに応用されてもよい。
また、上記実施形態では、本発明にいう差圧調整部の一例として、処理部２０からの排気量を調整するものを示したが、本発明にいう差圧調整部は、例えば処理気体の給気量を調整するものであってもよく、あるいは、光源部側の圧力を調整するものであってもよい。

１００…光処理装置、Ｗ…ワーク、１０…光照射部、１２…窓部材、２０…処理部、２２…Ｏリング、２４…給気路、２５…排気路、４１…供給装置、４２…エジェクタ、４５…コンプレッサ、４６…コック、５１…アクチュエータ、５２…制御部

Claims (5)

1. 光を発する光源部と、
   前記光源部から発せられた光に被処理物体の表面が処理気体の雰囲気中で曝される処理部と、
   前記光源部と前記処理部とを隔て、該光源部から発せられた光を透過する窓部材と、
   前記被処理物体の表面と前記窓部材との間に、該表面に沿って前記処理気体を流す気体給排部と、
   前記処理気体が流れている状態で、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を調整する差圧調整部と、
   を備えることを特徴とする光処理装置。
2. 前記差圧調整部は、前記気体給排部が前記処理気体を前記処理部から排気する排気量を調整するものであることを特徴とする請求項１記載の光処理装置。
3. 前記窓部材と前記被処理物体の表面との間に挟まれて該窓部材と該表面との距離を保つスペーサを備え、
   前記差圧調整部は、前記窓部材で隔てられた両側のうち、前記被処理物体側の圧力が前記光源部側の圧力よりも低圧となるように圧力差を調整するものであることを特徴とする請求項１または２記載の光処理装置。
4. 光に曝されて処理される被処理物体の表面と該光を透過する窓部材との間に、該表面に沿って処理気体を流す気体給排過程と、
   前記処理気体が流れている状態で、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を調整する差圧調整過程と、
   を有することを特徴とする被処理物体の表面と窓部材との間隔調整方法。
5. 前記窓部材の周縁部分に、該窓部材よりも弾性的な気密部材を押し付けて前記処理気体の漏出を防ぐ押付過程を有し、
   前記差圧調整過程が、前記窓部材で隔てられた両側の圧力差を、前記押付過程における気密部材の押し付けの強弱に応じた圧力差に調整する過程であることを特徴とする請求項４記載の間隔調整方法。

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