JP2017155182A - シリコーンゴム表面の光硬質化方法およびシリコーンゴム成型体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコーンゴム成型体の表面に、例えば、キセノンエキシマランプ等によって、波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備えるシリコーンゴム表面の光硬質化方法。
【選択図】 図1
Description
このため、シリコーンゴム表面の耐摩耗性を向上させるべく、ゴム表面に、低摩擦性を付与できる硬質シリコーンコーティングを施すことが提案されている。
また、特許文献2〜4では、高強度でかつ表面滑り性の塗膜を与える組成物として、R3SiO1/2単位およびSiO4/2単位からなるオルガノシロキサンと官能基含有シリル基で分子鎖末端が封鎖されたジオルガノポリシロキサンの縮合物とをベースにした縮合硬化型組成物が開示されているものの、塗膜の表面耐摩耗性については言及されていない。
なお、特許文献2の組成物において、湿式シリカ、乾式シリカ等の充填剤添加による表面凹凸付与、フェニルブロックポリマーに添加による表面硬質化、チタン酸エステル添加による表面凹凸化等を検討したが、いずれも表面の耐摩耗性の効果は得られず、表面粘着やクラック発生等の不具合を生じてしまうことがわかった。
また、コーティングでは、煩雑な工程が必要となるうえに、樹脂基材と一体成型されたシリコーンゴム成型物では熱による樹脂の変質が問題となる。
しかも、付加型コーティングでは成型品由来、環境由来の付加毒の影響による硬化不良、表面べたつきが発生する虞もあった。
さらに、シリコーンゴムでは、汗の成分である水分、塩分、油分等がシリコーンゴムに浸透、透過し、接点障害やタッチ感の低下を引き起こすことが問題になる場合もあるが、シリコーンコーティングによる保護層では、これらの問題を解決することはできなかった。
1. シリコーンゴム成型体の表面に波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備えることを特徴とするシリコーンゴム表面の光硬質化方法、
2. 前記真空紫外光を、不活性ガス雰囲気下で照射する1のシリコーンゴム表面の光硬質化方法、
3. 前記真空紫外光の光源が、キセノンエキシマランプである1または2のシリコーンゴム表面の光硬質化方法、
4. 前記工程(A)で光照射された前記シリコーンゴム成型体を、150℃以下の温度で熟成する工程(B)を備える1〜3のいずれかのシリコーンゴム表面の光硬質化方法、
5. シリコーンゴム成型体の表面に波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備えることを特徴とする硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体の製造方法、
6. 前記工程(A)で光照射された前記シリコーンゴム成型体を、150℃以下の温度で加熱する工程(B)を備える5の硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体の製造方法、
7. その表面の少なくとも一部に光酸化層を有するシリコーンゴム成型体
を提供する。
本発明の方法で得られた硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体は、各種電子機器の保護カバー、携帯電話、スマートフォンやリモコン等のキーパッド、電子写真複写機やプリンター等のシリコーンゴム製ロールなどに好適に利用できる。
本発明に係るシリコーンゴム表面の光硬質化方法は、シリコーンゴム成型体の表面に波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備える。
このように、波長200nm以下の真空紫外光による高エネルギー線を照射することで、シリコーンゴム表面分子中の側鎖有機基の大部分が切断されるうえ、酸素を介してSi−O−Si結合が形成されてゴム表面が硬質化されて、耐摩耗性が向上すると考えられる。
シリコーンゴム表面の形状にも特に制限はなく、平面でも曲面でもよく、文字やイラスト等の刻印や印刷が施されていてもよい。このような意匠性を施した表面に対して、本発明の光硬質化を行うと、摩耗や傷付き等によりその意匠性が損なわれることが抑制されるため、特に有効である。
真空紫外光の照射時間は、照射エネルギーの強度や、後述する酸化層の厚さ等によって変動するものであるため一概に規定することはできないが、上述した照射エネルギーの範囲であれば、通常、5秒から1時間であり、10秒〜30分が好ましい。
照射雰囲気としては、大気(空気)下でも不活性ガス雰囲気下でもよいが、酸素存在下にて照射を行うと真空紫外光の強度が低下するため、不活性ガス雰囲気下が好ましい。また、酸素体積比でいうと、18vol%以下が好ましく、特に10vol%以下がより好ましく、5vol%以下がより一層好ましい。
照射時の圧力範囲としては、真空から常圧であればよいが、真空(減圧)とするには、真空ポンプなどの機器や設備が必要となるばかりでなく、工程も多くなることから、常圧が好ましい。
特定範囲のみに照射する場合は、照射が必要ない部分を公知のマスキング材にて適宜マスキングしてもよい。
なお、硬質化の指標としては、学振式摩耗試験機において、200g荷重の摩耗子先端面に幅20mm、長さ40mmのJIS L 0803に準拠したネル布を取付け、シリコーンゴム表面上を50mmの間を毎分30回で4,000往復させた際の摩耗前後での算術平均粗さの差(ΔRa)で表され、算術平均粗さの差(ΔRa)が、0.2μm以下が好ましく、0.1μm以下がより好ましい。
このように工程(A)後に熟成することで、SiOHなどの酸素含有末端同士の結合を促進させてSi−O−Si結合が形成されるため、より硬質化できる。
熟成温度としてはSiOHの結合が促進される範囲であれば、特に限定されるものではないが、20〜150℃の範囲が好適である。
熟成時間としても特に限定されるものではないが、上述した温度範囲であれば、10分から5時間程度であり、30分から2時間が好ましい。
熟成雰囲気としては、真空紫外光照射と同様であり、照射時の雰囲気下でもよいが、大気下が好ましい。
図1に示されるように、シリコーンゴム成型体11の表面の一部に、波長200nm以下の真空紫外光12を照射する。
これにより、シリコーンゴム成型体11の真空紫外光照射表面にて光酸化反応が生じ、酸化層11Aが形成されるとともに耐摩耗性表面へと硬質化し、硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体11が得られる。
なお、真空紫外光の照射方向、照射部位、およびシリコーンゴム成型体の形状等は、上記実施形態のものに限られず、任意のものとすることができる。
液状シリコーンゴム(KET−6026−70A/B、信越化学工業(株)製)を用いてLIM成型を行い、厚さ2mm、150mm×150mm形状のシートRAを作製した。
次いで、窒素雰囲気下(酸素濃度1vol%以下)、キセノンエキシマランプ照射ユニット(SCQ05、ウシオ電機(株)製)を用いて中心波長172nmの真空紫外光を照射強度10mW/cm2、照射時間1分、照射エネルギー600mJ/cm2の条件で照射し、シリコーンゴムシートAを得た。
照射エネルギーを1,200mJ/cm2とした以外は、実施例1と同様にしてシリコーンゴムシートBを得た。
照射エネルギーを2,400mJ/cm2とした以外は、実施例1と同様にしてシリコーンゴムシートCを得た。
照射雰囲気を真空下(1.3kPa)とし、照射エネルギーを450mJ/cm2とした以外は、実施例1と同様にしてシリコーンゴムシートDを得た。
実施例4で得られたシリコーンゴムシートDを、照射終了後、大気下で120℃のオーブンにて1時間加熱してシリコーンゴムシートEを得た。
照射エネルギーを3,600mJ/cm2とした以外は、実施例1と同様にしてシリコーンゴムシートRBを得た。
シリコーンコーティング材(X−33−258、信越化学工業(株)製)をケイドライ 132−S(日本製紙クレシア(株)製)に含浸させ、実施例1と同様にして作製したシリコーンゴムRAに塗布し、温度25℃、相対湿度45%下で2日間硬化させ、シリコーンゴムシートRCを得た。
シリコーンコーティング材(X−33−258、信越化学工業(株)製)を、シリコーンコーティング材(X−93−1755−1、信越化学工業(株)製)に変更した以外は、比較例3と同様にしてシリコーンゴムシートRDを得た。
〔目視外観〕
光沢変化および表面割れの有無を目視で観察した。
〔顕微鏡観察〕
20倍の光学顕微鏡にてクラックの有無を観察した。
〔指触感〕
シート表面を指触にて確認した。
〔摩耗試験後の外観〕
学振式摩耗試験機(HEIDON 18 Scraching Intensity Tester、新東科学(株)製)を用い、200g荷重の摩耗子先端面に幅20mm、長さ40mmのJIS L 0803に準拠したネル布を取付け、シリコーンゴムシート表面上を50mmの間を毎分30回で4,000往復させた後のシート表面の摩耗跡を目視で観察し、下記レベルに基づいて判断した。
レベル4:摩耗跡なし(シートRAと変わらない)
レベル3:摩耗跡があまり目立たない
レベル2:摩耗跡が目立つ
レベル1:摩耗跡がはっきり判る
〔耐油浸透性〕
フェノールレッドで着色したステアリン酸をシリコーンゴム表面に塗布し、80℃のオーブン中に72時間保持した後、シリコーンゴムを切断し、その断面の着色性を観察した。
〔算術平均粗さの差(ΔRa)〕
レーザー顕微鏡(VK−8710、(株)キーエンス製)を用い、シリコーンゴム表面の摩耗前後の表面形状を測定した。観察エリアは100μmにて、算術平均面粗さ(Ra)を測定し、摩耗前後の平均粗さの差(ΔRa)を求めた。
一方、照射エネルギーをより大きくした比較例1で得られたシートRBでは、摩耗跡は確認されなかったものの、光沢の上昇やクラック発生、指触感が硬いことが観察された。
真空下で照射した実施例4で得られたシートDでは、実施例1と同じ挙動を示し、さらに照射後に加熱を行った実施例5で得られたシートEでは、シートDよりも指触感は僅かに硬くなったが、光沢変化はなく、摩耗性試験での跡も確認されなかった。さらに、耐油浸透性でも着色は見られなかった。
これに対し、光照射の代わりにシリコーンコーティングを塗布することで摩耗性の向上を試みた比較例2,3で得られたシートRC,RDでは、摩耗性試験での傷付きにくさは向上したものの、光沢の上昇、指触感が硬くなり、耐油浸透性では僅かであるが着色がみられた。
11A 酸化層
12 真空紫外光
Claims (7)
- シリコーンゴム成型体の表面に波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備えることを特徴とするシリコーンゴム表面の光硬質化方法。
- 前記真空紫外光を、不活性ガス雰囲気下で照射する請求項1記載のシリコーンゴム表面の光硬質化方法。
- 前記真空紫外光の光源が、キセノンエキシマランプである請求項1または2記載のシリコーンゴム表面の光硬質化方法。
- 前記工程(A)で光照射された前記シリコーンゴム成型体を、150℃以下の温度で熟成する工程(B)を備える請求項1〜3のいずれか1項記載のシリコーンゴム表面の光硬質化方法。
- シリコーンゴム成型体の表面に波長200nm以下の真空紫外光を照射エネルギー10〜3,000mJ/cm2の範囲で照射し、照射した部分に光酸化反応による酸化層を形成して硬質化する工程(A)を備えることを特徴とする硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体の製造方法。
- 前記工程(A)で光照射された前記シリコーンゴム成型体を、150℃以下の温度で熟成する工程(B)を備える請求項5記載の硬質化された表面を有するシリコーンゴム成型体の製造方法。
- その表面の少なくとも一部に、光酸化層を有するシリコーンゴム成型体。
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