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Abstract
【課題】表示装置の透過率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに表示装置によって表示される画像の品質低下を防止することができる透明表示装置を提供する。【解決手段】第1の方向に延びた第1のゲート線と第2のゲート線と、第1の方向に垂直な第2の方向に延びた信号線と電流供給線と、第1のゲート線、第2のゲート線、信号線、および電流供給線に囲まれた第1の副画素と、第1の副画素上の遮光膜とを有する表示装置である。遮光膜は第1の開口部と第2の開口部を有し、前記第1の副画素は、前記第1の開口部と前記第2の開口部とに重なり、且つ発光領域と透光性領域とを備える。透光性領域において、信号線と電流供給線の第1の方向における距離は第2の方向に沿って連続的に変化する。【選択図】図1
Description
本発明は表示装置に関する。例えば、透光性を有する表示装置に関する。
基板上に形成された複数の画素を有する表示装置が知られている。このような表示装置の代表例としては、液晶表示装置やEL表示装置などが挙げられる。
EL表示装置とは、エレクトロルミネセンス(EL:Electroluminescence)現象を示す材料が一対の電極で挟持された構造を有する発光素子を各画素に備えた表示装置である。材料として有機化合物を用いる発光素子は有機発光素子、有機EL素子、あるいは有機電界発光素子と呼ばれる。このような有機発光素子を複数有する表示装置を有機EL表示装置と呼ぶ。
液晶表示装置と異なり、有機EL表示装置はバックライトを必要としない。そのため、一対の電極の両方に透光性電極を用いることで、ユーザーは表示装置の反対側からの光(以下、透過光と記す)を認識することができる。一対の電極の片方が透光性を持たない場合でも、発光領域と同時に発光素子を含まない透光性領域を画素内に形成することで、透過光を認識することができる。このような表示素子は透明表示装置と呼ばれており、例えば特許文献1から3で開示されている。
本発明では、透明表示装置を通して観測される透過光が透明表示装置に設けられた透光性領域によって回折することを防ぐことを目的の一つとする。あるいは、透過光の透光性領域による回折が抑制された表示装置を提供することを目的の一つとする。あるいは、透光性領域による透過光の回折が抑制されることによって画質が改善された、有機EL表示装置などの表示装置を提供することを目的の一つとする。
本発明の一実施形態は、第1の基板と、前記第1基板上に位置し、第1の方向に延びた第1のゲート線と第2のゲート線と、前記第1基板上に位置し、第1の方向に垂直な第2の方向に延びた信号線と電流供給線と、前記第1のゲート線、前記第2のゲート線、前記信号線、および前記電流供給線に囲まれた第1の副画素と、前記第1の副画素上の遮光膜を有する表示装置である。前記遮光膜は第1の開口部と第2の開口部を有し、前記第1の副画素は、前記第1の開口部と前記第2の開口部とに重なり、且つ発光領域と透光性領域とを備える。前記透光性領域において、前記信号線と前記電流供給線の前記第1の方向における距離は前記第2の方向に沿って連続的に変化する。或いは前記信号線と前記電流供給線のうち前記透光性領域と隣接する部分は屈曲点を有する。
本発明の一実施形態は、第1の発光領域と、第1の方向で前記第1の発光領域と隣接する第2の発光領域と、前記第1の方向と交差する第2の方向で、前記第1の発光領域と隣接する第1の透光性領域と、前記第1の方向で前記第1の透光性領域と隣接し、前記第2の方向で前記第2の発光領域と隣接する第2の透光性領域とを有し、前記第1の透光性領域の前記第1の方向における距離は、第1の距離と、前記第1の距離よりも小さい第2の距離とを有する。
以下、本発明の各実施形態について、図面等を参照しつつ説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
(第1実施形態)
<1.副画素のレイアウト>
本発明の一実施形態の表示装置の上面模式図を図1に示す。図1に示すように、表示装置は点線で囲まれた副画素100を複数有する。本実施形態では、赤色、緑色、青色の発光を与える副画素100R、100G、100Bがマトリクス状(図1では2行6列のマトリクス)に配置された構成を示している。
<1.副画素のレイアウト>
本発明の一実施形態の表示装置の上面模式図を図1に示す。図1に示すように、表示装置は点線で囲まれた副画素100を複数有する。本実施形態では、赤色、緑色、青色の発光を与える副画素100R、100G、100Bがマトリクス状(図1では2行6列のマトリクス)に配置された構成を示している。
各画素100は、発光領域120と透光性領域160を有する。したがって、本実施形態の表示装置は所謂透明表示装置として機能する。後述するように、発光領域120には発光素子が設けられ、透光性領域160は外光が透過するように構成されている。ここでは赤色の発光を与える副画素100Rには発光領域120Rと透光性領域160Rが設けられている。同様に、緑色の発光を与える副画素100Gには発光領域120Gと透光性領域160Gが設けられ、青色の発光を与える副画素100Bには発光領域120Bと透光性領域160Bが設けられている。なお、本発明の実施形態はこのような副画素配置に限られることはなく、上記副画素以外に例えば白色、黄色などの発光を与える副画素を設けてもよい。
表示装置はさらに、各副画素100を取り囲む領域、ならびに発光領域120と透光性領域160を区分する領域上に遮光膜140を有していてもよい。換言すると、各副画素100はその上に遮光膜140を有し、遮光膜140は二つの開口部(第1の開口部と第2の開口部)を有していてもよい。第1の開口部は発光領域120と重なっており、第2の開口部は透光性領域160に重なっている。すなわち、第1の開口部と第2の開口部によって発光領域120と透光性領域160が定義されている。尚、本実施形態及び下記に示す他の実施形態を説明する各図面において、遮光膜140は、遮光膜140として図示された領域の全域に必ずしも配置されなくてもよい。遮光膜140として図示された領域の一部に遮光膜が配置されている構造でもよい。例えば後述する配線と重なる領域の全域或いは一部に、遮光膜140が形成されていない構造でもよい。
遮光膜140の下には、各発光領域に設けられた発光素子を駆動するための配線が設けられる。例えば、第1の方向(図中x方向)に延びるゲート線や、第1の方向に垂直な第2の方向(y方向)に延びる信号線、電流供給線などが設けられる。発光素子には少なくとも二つのトランジスタが設けられており、上記配線によってトランジスタが制御され、発光素子が所定の輝度で発光することができる。
信号線や電流供給線のうち、透光性領域160を挟持する部分は屈曲しており、隣接する副画素100の発光領域120と第2の方向において重なっていてもよい。例えば透光性領域160Rと160Gの間には、発光領域120Rを制御するための電流供給線が設けられるが、この電流供給線は隣接する副画素100Gの発光領域120Gと第2の方向において重なっている。同様に、発光性領域160Rと160Gの間には、発光領域120Gを制御するための信号線が設けられるが、この信号線は隣接する副画素100Rの発光領域120Rと第2の方向において重なっている。尚、上記の構成は、信号線や電流供給線のうち、透光性領域160と隣接する部分が屈曲していると言うこともできる。
図1で示した12個の副画素100のうちの一部を図2(A)に示す。ここで、透光性領域160の横方向をx方向(第1の方向)、長さ方向をy方向(第2の方向)とし、副画素100Rの透光性領域160Rのx方向の長さ(すなわち、透光性領域の幅)をW1、副画素100Rに隣接する副画素100Gの透光性領域160Gのx方向の長さをW2とする。図2(B)に示すように、W1はy方向においてy0からy1に変化するに伴い直線的に増大し、その後直線的に減少し、再度直線的に増大する。一方W2はy方向においてy0からy1に変化するに伴い直線的に減少し、その後直線的に増大し、再度直線的に減少する。すなわち、本実施形態の副画素100の透光性領域160の幅はy方向に沿って連続的に変化し、その変化は一つあるいは複数の屈曲点を介する複数の直線で表される。また、幅の変化は透光性領域160の第2の方向全体にわたって続いている。
したがって隣接する二つの副画素(例えば副画素100Rと100G)を比較すると、透光性領域(160Rと160G)の形状と面積が異なる。また、透光性領域160のx方向におけるピッチPもy方向に沿って連続的に、透光性領域160のy方向全体にわたって変化する。また図1に示すように、同じ発光色を与え、かつ互いに最も近い副画素同士でも、透光性領域160の形状が異なる。
例えば図16に示したように、従来の透明表示装置では通常、透光性領域160は副画素間で同じ形であり、副画素内においてその幅や長さは一定であり、したがって透光性領域160のピッチ(Px、Py)も副画素間で一定である。図17に示すように、このような副画素レイアウトを有する透明表示装置では、光源600から発せられた光は、断面P1−P2で表される一定ピッチの透光性領域160を透過すると回折し、回折パターンを与える。その結果、透過光の色変化が生じ、また、視野角依存性が発現してしまう。このため、外光を通して観察される像の品質低下が起こる。また、透過光の回折により、透明表示装置で表示される画像の品質が低下する。
これに対し本実施形態で示す透明表示装置では、副画素間のピッチPはy方向に沿って、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって連続的に変化する。したがって、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
<2.副画素の構成>
副画素100の詳細な構成の一例を図3を用いて説明する。なお、副画素100上に設けられる遮光膜140は図3では省かれており、図4に遮光膜140の上面図を示している。
副画素100の詳細な構成の一例を図3を用いて説明する。なお、副画素100上に設けられる遮光膜140は図3では省かれており、図4に遮光膜140の上面図を示している。
副画素100は、第1の方向(図中x方向)に延びたゲート線210、215、第1の方向に垂直な第2の方向(図中y方向)に延びた信号線220と電流供給線230を有する。これらのゲート線210、215、信号線220、電流供給線230で囲まれた領域が副画素100である。
副画素100はさらにトランジスタ350と360を有している。ゲート線210はトランジスタ350のゲート電極として働く。ゲート線215は隣接する副画素に設けられたトランジスタのゲート電極として働く。信号線220はトランジスタ350のソース電極としても働き、ゲート線210によってトランジスタ350が活性化され、信号線220から入力されたデータ信号がトランジスタ350のドレイン電極として機能する配線240へ伝えられる。
データ信号はさらに、コンタクトホール300で配線240と接続された配線270に伝えられる。配線270はトランジスタ360のゲート電極として働き、電流供給線230から供給される電力のオン、オフを制御する。電流供給線230から供給される電力はトランジスタ360を通してトランジスタ360のドレイン電力として機能する配線260に供給される。配線260はコンタクトホール310で第1の電極280と接続され、電力が第1の電極280へ供給される。
第1の電極280と、その上に設けられる有機層465(後述)が直接接触する領域が発光領域120である。第1の電極280は可視光を透過できるように構成されていてもよく、反射できるように構成されていてもよい。本実施形態では、第1の電極280が可視光を反射する反射電極であるとして説明する。また、本明細書および請求項では、透光性領域160とは、発光素子が設置されておらず、かつ、外光が透過できる領域を指す。また、透光性領域160は、発光領域120と、隣接する副画素を制御するゲート線215との間に設けることができる。
図3に示すように透光性領域160では、信号線220と電流供給線230の間の第1の方向に沿った距離は、第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160内の第2の方向全体にわたって変化する。例えば図3中、距離W3、W4、W5は互いに異なっている。
各信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟持する部分は一つあるいは複数の屈曲点を有している。また、信号線220、電流供給線230はそれぞれ屈曲点を挟むように少なくとも二つの直線部を有しており、これら直線部と第1の方向が作る角度は互いに同じでもよく、異なっていてもよい。例えば電流供給線230は屈曲点236を挟んで第1の直線部232と第2の直線部234を有している。第1の直線部232と第1の方向がなす角度θ1と、第2の直線部234と第1の方向がなす角度θ2は互いに同じでもよく、異なっていてもよい。
遮光膜140はトランジスタ350、360、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、第1の電極280の端部などと重なるように設けられる(図4)。換言すると、遮光膜は二つの開口部(第1の開口部380、第2の開口部390)を有しており、第1の開口部380と第2の開口部390によってそれぞれ発光領域120と透光性領域160が定義される。
第1の開口部380は第1の電極280と重なっており、後述する発光素子によって得られる光がここから取り出される。一方、第2の開口部390は透光性領域160と重なっている。なお、信号線220、電流供給線230の幅が遮光膜140の対応する部分の幅よりも小さくなる場合、透光性領域160は遮光膜140の第2の開口部390によって定義される。したがって、第2の開口部390の第1の方向における長さWもy方向に沿って、かつ第2の開口部390のy方向全体にわたって連続的に変化する。例えば図4で示した長さW6、W7、W8は互いに異なる。また、この変化は複数の直線で表され、かつこれらの直線の間には屈曲点が存在する。
<3.副画素の断面構造>
図5乃至図8にそれぞれ、図3の直線A−B、C−D、E−F、およびG−Hに沿った断面図を示す。図5に示すように、表示装置は第1の基板400を有し、この上に下地膜410を有している。下地膜410は第1の基板400からの不純物の拡散を防ぐものであり、酸化ケイ素や酸化窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素などの絶縁材料を用いて形成される。下地膜は単層構造でも良く、積層構造でも良い。
図5乃至図8にそれぞれ、図3の直線A−B、C−D、E−F、およびG−Hに沿った断面図を示す。図5に示すように、表示装置は第1の基板400を有し、この上に下地膜410を有している。下地膜410は第1の基板400からの不純物の拡散を防ぐものであり、酸化ケイ素や酸化窒化ケイ素、窒化酸化ケイ素などの絶縁材料を用いて形成される。下地膜は単層構造でも良く、積層構造でも良い。
表示装置は下地膜410の上に半導体膜200を有している。半導体膜200はケイ素やゲルマニウムなどの14族元素、あるいは酸化物半導体などを用いて形成される。アモルファス、多結晶、単結晶、微結晶など、様々な結晶状態の半導体膜200を用いることができる。
半導体膜200の上にはゲート絶縁膜420が設けられる。ゲート絶縁膜420は酸化ケイ素、窒化酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素などの無機絶縁材料を用いて単層、あるいは積層構造で形成される。ゲート絶縁膜420上にはゲート線210、ならびに配線270が設けられ、ゲート線210のうち半導体膜200と重なる部分がトランジスタ350のゲート電極として機能する。ゲート線210、配線270はチタンやタングステン、モリブデン、アルミニウム、銅、クロムなどの金属、あるいはこれらの合金で単層、あるいは積層構造で形成される。例えば銅やアルミニウムなどの高い導電性を有する金属をモリブデンやチタンなどの金属で挟んだ構造などが挙げられる。
表示装置にはさらに、ゲート線210、ならびに配線270上に保護膜430、440が設けられる。ゲート絶縁膜420と同様、保護膜430、440も無機絶縁材料を用いて形成される。なお、ここでは二層の保護膜430、440を有する構成を記載したが、保護膜は単層構造でも良い。
ゲート絶縁膜420、保護膜430、440上に信号線220、配線240が形成される。信号線220、配線240はゲート絶縁膜420、保護膜430、440に設けられたコンタクトホールで半導体膜200と電気的に接続され、信号線220の一部、ならびに配線240の一部がそれぞれトランジスタ350のソース電極、ドレイン電極として機能する。配線240はさらにコンタクトホール300において配線270と電気的に接続される。配線270の一部はトランジスタ360(図3参照)のゲート電極として機能する。信号線220、配線240はゲート線210と同様の材料を用いて形成することができる。
表示装置はさらに層間絶縁膜450を有している。層間絶縁膜450はアクリル樹脂やポリイミド樹脂などの有機化合物によって形成され、トランジスタ350に起因する段差を吸収し、平坦な面を与えるために設けられる。層間絶縁膜450上には、第1の電極280の端部を覆う絶縁膜(バンク)460(後述)として機能する絶縁膜460、発光素子の第2の電極470、第2の電極470上の保護膜480が設けられる。
外光からトランジスタを保護するため、表示装置はさらに遮光膜140を有している。遮光膜140はクロムやチタンなどの反射率の低い金属材料、または黒色もしくはそれに準じる色の着色材を含有させた樹脂など用いて形成される。遮光膜140を覆うようにオーバーコート膜(図示せず)を設けてもよい。なお、遮光膜140は第2の基板495に設けられ、遮光膜140やトランジスタ350などが第1の基板400と第2の基板495の間に封止されるよう、第1の基板400と第2の基板495が固定される。この際、空間490には窒素やアルゴンなどの不活性ガスを封入してもよく、あるいは充填剤で空間490を満たしてもよい。充填剤には乾燥材を混入してもよい。
図6の断面図で示すように、表示装置はトランジスタ360を下地膜410上に有しており、トランジスタ360は半導体膜205、ゲート絶縁膜420、配線270、保護膜430、440を有している。配線270が半導体膜205と重なる部分はトランジスタ360のゲート電極として機能する。電流供給線230が保護膜440上に形成され、ゲート絶縁膜420、保護膜430、保護膜440に設けられたコンタクトホールを介して半導体膜205に接続される。したがって、電流供給線230の一部はトランジスタ360のソース電極として機能する。配線260も保護膜440上に形成され、ゲート絶縁膜420、保護膜430、保護膜440に設けられたコンタクトホールを介して半導体膜205に接続される。電流供給線230や配線260は、ゲート線210と同様の材料で形成することができる。
配線260に達するコンタクトホール320が層間絶縁膜450に設けられ、ここで第1の電極280が電気的に接続される。第1の電極280の端部、およびコンタクトホール320を覆うように絶縁膜460が設けられる。絶縁膜460は隣接する副画素100同士を電気的に区分する隔壁としても機能する。絶縁膜はアクリル樹脂やポリイミド樹脂などの有機材料を用いて形成される。
第1の電極280の上には発光を担う有機層465が設けられ、その上に第2の電極470が設けられる。この第1の電極280、有機層465、第2の電極470で発光素子475が形成される。発光素子475からの発光を第1の基板400側から取り出すときには、第1の電極280はインジウム―スズ酸化物(ITO)やインジウム―亜鉛酸化物(IZO)などの可視光を透過する導電性酸化物で形成される。発光素子475からの発光を第2の基板495側から取り出すときには、第1の電極280は銀やアルミニウムなどの金属やその合金などで形成すればよい。あるいは、これらの金属上にITOなどの透明導電性酸化物を積層した構成、またはこれらの金属を透明導電性酸化物で挟持した構成などでもよい。
第2の電極470は、発光素子475で得られる発光を第1の基板400側から取り出す場合には、アルミニウムやマグネシウムなどの金属あるいはそれらの合金などを用いることができる。逆に発光素子475で得られる発光を第2の基板495側から取り出す場合には、透明導電性酸化物などを用いる。この時、透明導電性酸化物の下にマグネシウムや、マグネシウムと銀の合金を可視光が透過する程度の厚さ(1nmから10nm程度)で形成することで駆動電圧を下げることができる。また、仕事関数の低い金属上に透明導電性酸化物が形成された積層構造として第2の電極470を形成してもよい。一方、第1の基板400、第2の基板495の両方から発光を取り出す構成とする場合、第1の電極280、第2の電極470の両方が可視光に対して透明になるよう構成すればよい。本実施形態は、第1の電極280と第2の電極470がそれぞれ可視光を反射、透過する構成であるとして記述する。
有機層465は、少なくとも一部は有機材料で形成される。また、有機層465は単層構造に限られず、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、キャリアブロック層など、種々の層からなる多層構造を有していてもよい。有機層は白色発光を与えるような構成を有していてもよく、あるいは例えば赤色、青色、緑色の三色の発光層を副画素ごと変えて形成してもよい。
第2の電極470上に保護膜480が設けられる。保護膜は窒化ケイ素や酸化窒化ケイ素などの無機絶縁材料を用いて形成することができる。
第2の基板495には、トランジスタ360や発光素子475の端部を覆うように遮光膜140が設けられる。また、遮光膜140の上(図6では遮光膜140の下)にカラーフィルタ500を設置してもよい。有機層465が白色発光を与える場合には、全ての副画素100の発光素子475を共通の構造の有機層465で形成し、画素ごとに吸収特性の異なるカラーフィルタ500を設置することで、フルカラー表示可能な表示装置が提供される。一方、例えば赤、緑、青の三原色のいずれかを与える三種類の発光素子475を用いて副画素100を形成する場合には、カラーフィルタ500を設置しなくてもよい。
図7に示すように、透光性領域160において、信号線220と電流供給線230の間には、可視光の一部乃至全てを吸収する、あるいは反射する構造は設けられない。具体的には、表示装置は第1の基板400上に下地膜410、ゲート絶縁膜420、保護膜430、440、層間絶縁膜450、絶縁膜460、透光性を有する第2の電極470、保護膜480、空間490、および第2の基板495を有しており、遮光膜140やカラーフィルタ500は設置されない。この構成により、透光性領域160が可視光を透過させることができる。
図8を参照すると、表示装置は層間絶縁膜上450上に、第1の電極280、第1の電極280の端部を覆う絶縁膜460、有機層465、第2の電極470、保護膜480、空間490、カラーフィルタ500、遮光膜140、第2の基板495を有する。遮光膜140は発光素子475の端部と重なるように設けられる。また、透光性領域160には遮光膜140やカラーフィルタ500のような、可視光の一部乃至全てを吸収する、あるいは反射する構造は設けられない。
上述したように本実施形態で示す表示装置は、各副画素100が透光性領域160を有する透明表示装置として機能する。透光性領域160の第1の方向の長さ(幅)は第2の方向に沿って、透光性領域160の全体にわたって連続的に変化する。同様に、各副画素100の信号線220と電流供給線230間の第1の方向の距離も第2の方向に沿って、透光性領域160の第2の方向全体にわたって連続的に変化する。そしてこの変化は一つあるいは複数の屈曲点を有する複数の直線で表される。このため、副画素間のピッチは第2の方向に沿って連続的に変化する。このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
(第2実施形態)
本実施形態では、第1実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図9を用いて説明する。第1実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、第1実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図9を用いて説明する。第1実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図9には、2行3列のマトリクス状に設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように、透光性領域160の、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Rでは、第1の方向の長さWは、第2の方向(図中y方向)に沿って増大しているが、隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って減少している。さらに隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って増大している。したがって、副画素100間のピッチPも第2の方向に沿って連続的に変化している。なお、第1実施形態と異なり本実施形態では、透光性領域160の第1の方向の長さWの第2方向に沿った変化は一本の直線で表され、透光性領域160内で屈曲点は存在しない。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は一本の直線で表され、屈曲点を持たない。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。また、信号線220や電流供給線230の屈曲部が少ないため、副画素のレイアウトが容易となる。
(第3実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図10を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図10を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図10には、2行3列のマトリクス状に設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように、透光性領域160の、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、透光性領域160の第2の方向全体にわたって変化している。さらに変化の方向は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Rでは、第1の方向の長さWは、第2の方向(図中y方向)に沿って増大しているが、隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って減少している。さらに隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って増大している。したがって、副画素100間のピッチPxも第2の方向に沿って連続的に変化している。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は一本の直線で表され、屈曲点を持たない。
本実施形態の表示装置ではさらに、遮光膜140は第2の開口部390に三角形の形状をした凸部550を各透光性領域160に有している。このため、透光性領域160の第2の方向の長さLは、第1の方向に沿って、透光性領域160の第1の方向全体にわたって連続的に変化している。また、その変化は屈曲点を介して複数の直線で表され、変化の大きさも隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Rでは、第2の方向の長さLの変化は、隣接する透光性領域160Gのそれと比較して大きい。したがって、副画素100間の第2の方向のピッチPyも第1の方向に沿って連続的に変化している。
本実施形態では、凸部550は三角形の形状をしているが、この形状に限られることはなく、多角形でもよく、また、曲線形状を有していてもよい。この凸部550は遮光膜140の一部として記載したが、この構成に限られることはなく、例えばゲート線の一部を利用してもよい。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
(第4実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図11を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図11を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図11には、2行3列のマトリクス状に設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように、透光性領域160の、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って直線的に、透光性領域160の第1の方向全体にわたって変化している。そしてこの変化は一つの屈曲点介した二つの直線で表される。したがって各配線のレイアウトが容易になる。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Rと160Bでは、第1の方向の長さWは、第2の方向(図中y方向)に沿って減少した後、増大しているが、隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って増大し、その後減少している。したがって、副画素100間のピッチPxも第2の方向に沿って連続的に変化している。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は屈曲点を介した二本の直線で表される。
本実施形態の表示装置ではさらに、遮光膜140は第2の開口部390に三角形の形状をした凸部550を有している。そしてこの凸部550は、連続する三つの副画素のうち一つだけに選択的に配置される。凸部550が設けられた透光性領域160Gでは、第2の方向の長さLは第1の方向に沿って直線的に、透光性領域160の第1の方向全体にわたって変化しており、長さLの変化は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Gでは、第2の方向の長さLは連続的に変化し、この変化は屈曲点を介して二本の直線で表されるが、隣接する透光性領域160Rと160Bでは、一部の区間では一定である。したがって、副画素間の第2の方向のピッチPyも第1の方向に沿って連続的に変化している。
本実施形態では、凸部550は三角形の形状をしているが、この形状に限られることはなく、多角形でもよく、また、曲線形状を有していてもよい。この凸部550は遮光膜140の一部として記載したが、この構成に限られることはなく、例えばゲート線の一部を利用してもよい。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
(第5実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図12を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図12を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図12には、1行3列の形態で設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように、透光性領域160の、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って曲線的に、透光性領域160の第2の方向全体にわたって変化している。そしてこの変化は一つの変曲点を有する曲線で表される。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Rと160Bでは、第1の方向の長さWは、第2の方向(図中y方向)に沿って減少した後、増大し、再度減少しているが、隣接する透光性領域160Gでは第2の方向に沿って増大し、その後減少し、再度増大している。したがって、副画素100間のピッチPも第2の方向に沿って連続的に変化している。なお、ここでは長さWの変化は一つの変曲点を有する曲線で表される例を示したが、長さWの変化が複数の変曲点を有する曲線で表されるように透光性領域160を構成してもよい。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって曲線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は一つの変曲点を有する曲線で表されるが、このような形態に限られることはなく、複数の変曲点を有する曲線で表されるように構成してもよい。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
(第6実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図13を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図13を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図13には、1行3列の形態で設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように本実施の形態では、各発光領域120はひし形の形でレイアウトされている。このため、広い面積の透光性領域160を確保することができ、表示装置全体の光透過率が向上する。
透光性領域160では、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向と垂直な第2の方向に沿って直線的に、透光性領域160の第2の方向の全体にわたって変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。具体的には、透光性領域160Gでは、第1の方向の長さWは、第2の方向(図中y方向)に沿って増大した後、減少しているが、隣接する透光性領域160Bでは第2の方向に沿って増大し、その後減少し、再度増大した後に減少している。したがって、副画素100間のピッチPも第2の方向に沿って連続的に変化している。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は屈曲点を介した二本の直線で表される。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。
(第7実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図14を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図14を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図14には、1行3列の形態で設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
ここで示されているように、透光性領域160では、ゲート線が伸びる第1の方向の長さWは、第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って直線的に、透光性領域160の第2の方向全体にわたって変化している。そしてこの変化は複数の屈曲点を有する複数の直線で表される。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。そしてこれらの部分は複数の屈曲点を有する複数の直線で表される。さらに、信号線220中の屈曲点と電流供給線230の屈曲点は、第2の方向においてその座標が互いに異なる。したがって、副画素間のピッチPもより複雑に変化する。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。また、副画素間のピッチPも複雑に変化することから、上記効果をより強く得ることができる。
(第8実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図15を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
(第8実施形態)
本実施形態では、上記実施形態とは異なる透明表示装置の構成を図15を用いて説明する。上記実施形態と同じ構成に関する記述は省略する。
図15には、2行2列のマトリクス状に設けられた副画素、ゲート線210、215、信号線220、電流供給線230、および遮光膜140が模式的に示されている。各副画素には発光領域120、透光性領域160、遮光膜140の第1の開口部380と第2の開口部390が設けられている。透光性領域160は第2の開口部390によって定義されるので、図中、透光性領域160と第2の開口部390は重なり合っている。
本実施形態では、赤色、緑色、青色、および白色の発光を与える副画素が設けられており、これらの発光領域はそれぞれ、120R、120G、120B、および120Wに相当する。そして透光性領域160は各副画素に設けられるだけでなく、連続した二つの副画素の隣の領域にも設けられる。より具体的には、遮光膜140は、第1の開口部380と第2の開口部390のみならず、副画素と重ならない領域において第3の開口部392と第4の開口部394を有している。第3の開口部392は、ゲート線が伸びる第1の方向の長さは一定であり、また、第1の方向と垂直な第2の方向の長さも一定である。これに対し、第4の開口部394の第1の方向の長さWは第2の方向に沿って連続的に、第4の開口部394の第2の方向全体にわたって変化している。そしてその変化は屈曲点で介された複数の直線で表される。
このため、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分では、これらの配線間の第1の方向の距離は第1の方向とは垂直な第2の方向に沿って連続的に、かつ透光性領域160の第2の方向全体にわたって直線的に変化している。また、その変化の方向は隣接する副画素間で異なる。本実施形態では、信号線220、電流供給線230のうち、透光性領域160を挟む部分は複数の屈曲点を有する複数の直線で表される。
このような構成により、表示装置全体の透光率の低下を引き起こすことなく透過光の回折を抑制し、外光を通して観察される像、ならびに透明表示装置によって表示される画像の品質の低下を防止することができる。本実施形態の表示装置では、透光性領域160が占有する割合が他の実施形態のそれと比較して高いため、より高い透過率を有する透明表示装置を与えることができる。
本発明の実施形態として上述した各実施形態は、相互に矛盾しない限りにおいて、適宜組み合わせて実施することができる。また、各実施形態の表示装置を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
本明細書において、各副画素100の信号線220と電流供給線230間の第1の方向の距離、各副画素100の信号線220と電流供給線230間の第2の方向の距離、第2の開口部の第1の方向の長さ、第2の開口部の第2の方向の長さ、副画素の第1の方向のピッチ、副画素の第2の方向のピッチはなどのパラメーターは、少なくとも第1の方向か第2の方向に沿って連続的に変化するが、これは実質的に連続的に変化することを意味しており、透光性領域160の一部の領域では連続的に変化せず、一定でもよい。
本明細書においては、開示例として主に有機EL表示装置の場合を例示したが、他の適用例として、その他の自発光型表示装置、液晶表示装置、あるいは電気泳動素子などを有する電子ペーパ型表示装置など、あらゆるフラットパネル型の表示装置が挙げられる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用が可能である。
また、上述した各実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
100:副画素、120:発光領域、140:遮光膜、160:透光性領域、200:半導体膜、205:半導体膜、210:ゲート線、215:ゲート線、220:信号線、230:電流供給線、232:第1の直線部、234:第2の直線部、236:屈曲点、240:配線、260:配線、270:配線、280:第1の電極、300:コンタクトホール、310:コンタクトホール、350:トランジスタ、360:トランジスタ、380:第1の開口部、390:第2の開口部、392:第3の開口部、394:第4の開口部、400:第1の基板、410:下地膜、420:ゲート絶縁膜、430:保護膜、440:保護膜、450:層間絶縁膜、460:絶縁膜、465:有機層、470:第2の電極、475:発光素子、480:保護膜、490:空間、495:第2の基板、500:カラーフィルタ、550:凸部、600:光源
Claims (17)
- 第1の基板と、
前記第1基板上に位置し、第1の方向に延びた第1のゲート線と第2のゲート線と、
前記第1基板上に位置し、前記第1の方向に垂直な第2の方向に延びた信号線と電流供給線と、
前記第1のゲート線、前記第2のゲート線、前記信号線、および前記電流供給線に囲まれた第1の副画素と、
前記第1の副画素上の遮光膜を有し、
前記遮光膜は第1の開口部と第2の開口部を有し、
前記第1の副画素は、前記第1の開口部と前記第2の開口部とに重なり、且つ発光領域と透光性領域とを備え、
前記透光性領域において、前記信号線と前記電流供給線との間の前記第1の方向における距離は前記第2の方向に沿って連続的に変化する、表示装置。 - 第1の基板と、
前記第1基板上に位置し、第1の方向に延びた第1のゲート線と第2のゲート線と、
前記第1基板上に位置し、第1の方向に垂直な第2の方向に延びた信号線と電流供給線と、
前記第1のゲート線、前記第2のゲート線、前記信号線、および前記電流供給線に囲まれた第1の副画素と、
前記第1の副画素上の遮光膜を有し、
前記遮光膜は第1の開口部と第2の開口部を有し、
前記第1の副画素は、前記第1の開口部と前記第2の開口部とに重なり、且つ発光領域と透光性領域とを備え、
前記信号線と前記電流供給線のうち前記透光性領域と隣接する部分は屈曲点を有する、表示装置。 - 前記信号線は、前記屈曲点を介して第1の直線部と第2の直線部を有し、
前記第1の直線部と前記第1の方向がなす角は、前記第2の直線部と前記第1の方向がなす角と異なる、請求項2に記載の表示装置。 - 前記電流供給線は、前記屈曲点を介して第1の直線部と第2の直線部を有し、
前記第1の直線部と前記第1の方向がなす角は、前記第2の直線部と前記第1の方向がなす角と異なる、請求項2に記載の表示装置。 - 前記信号線は、前記第2の方向において、前記第1の副画素に隣接する第2の副画素の発光領域と重なる、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記透光性領域の前記第2の方向における長さは、第1の方向に沿って連続的に変化する、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記信号線と前記電流供給線のうち前記透光性領域と隣接する部分は、ともに複数の屈曲点を有する、請求項2に記載の表示装置。
- 前記透光性領域の面積は、前記第1の副画素に隣接する第2の副画素の透光性領域の面積と異なる、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記透光性領域の形状は、前記第1の副画素に隣接する第2の副画素の透光性領域の形状と異なる、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記透光性領域の形状は、前記第1の副画素に最も近く、かつ同じ発光色を与える第2の副画素の透光性領域の形状と異なる、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記第2の開口部の前記第1の方向の長さは、前記第2の方向に沿って連続的に変化する、請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記第2の開口部の前記第2の方向の長さは、前記第1の方向に沿って連続的に変化する、請求項1または2に記載の表示装置。
- 第1の発光領域と、
第1の方向で前記第1の発光領域と隣接する第2の発光領域と、
前記第1の方向と交差する第2の方向で、前記第1の発光領域と隣接する第1の透光性領域と、
前記第1の方向で前記第1の透光性領域と隣接し、前記第2の方向で前記第2の発光領域と隣接する第2の透光性領域とを有し、
前記第1の透光性領域の前記第1の方向における距離は、第1の距離と、前記第1の距離よりも小さい第2の距離とを有することを特徴とする表示装置。 - 前記第2の透光性領域の前記第1の方向における距離は、第3の距離と、前記第3の距離よりも小さい第4の距離とを有することを特徴とする請求項13に記載の表示装置。
- 前記第1の透光性領域の前記第1の方向における距離は、連続的に変化することを特徴とする請求項13または14に記載の表示装置。
- 前記第1の透光性領域と前記第2の透光性領域との間を通る配線を有し、
前記配線は、前記第1の透光性領域と前記第2の透光性領域との間において、屈曲点を有することを特徴とする請求項13または14に記載の表示装置。 - 前記第1の透光性領域と前記第2の透光性領域との間を通る配線を有し、
前記配線は、前記第1の透光性領域と前記第2の透光性領域との間において、湾曲していることを特徴とする請求項13または14に記載の表示装置。
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