JP2017145149A - 非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法と非磁性ガーネット単結晶基板 - Google Patents
非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法と非磁性ガーネット単結晶基板 Download PDFInfo
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Abstract
Description
組成式が(Gd3-xCax)(Ga5-x-2yZrx+yMgy)O12(0<x3、0<y<1)で表され、かつ、回転引上げ法により育成された肩部と直胴部を有する非磁性ガーネット単結晶から非磁性ガーネット単結晶基板を製造する方法において、
育成時における界面反転操作により非磁性ガーネット単結晶に形成された界面反転位置から40mm以上離れた位置で上記肩部と直胴部を切り離し、該直胴部から非磁性ガーネット単結晶基板を切り出すことを特徴とするものである。
回転引上げ法により育成された非磁性ガーネット単結晶をその引上げ方向と直交する方向へ切断して製造され、かつ、組成式が(Gd3-xCax)(Ga5-x-2yZrx+yMgy)O12(0<x3、0<y<1)で表される非磁性ガーネット単結晶基板において、
X線トポグラフィーで撮影して観察される同心円状の成長縞の中心が単結晶基板面内の中心から8mm以内の領域に存在し、かつ、単結晶基板面内の任意2箇所における格子定数の差が0.002Å以下であることを特徴とするものである。
非磁性ガーネット(SGGG)単結晶に残留する内部歪みが著しく減少し、かつ、基板面内における格子定数の差が小さい非磁性ガーネット(SGGG)単結晶基板を得ることが可能となる。
この結果を、図3と図4に示す。
混合したGd2O3、Ga2O3、MgO、ZrO2,CaCO3を空気中において1600℃で仮焼した原料を直径150mm、高さ150mmのイリジウム製坩堝内に所定量仕込み、高周波加熱炉で1750℃まで加熱溶融して原料融液を得た後、種結晶を1分間に5回転させながら1時間に3mmの速度で引き上げて直径が80mmになるまで肩部を育成した。その後、結晶の回転数を1分間に20回に増やして界面反転を実現し、その後、直胴部の長さが100mmになるまで育成してSGGG単結晶を得た。尚、SGGG単結晶の育成雰囲気は、酸素1%、窒素99%の雰囲気とした。
2 肩部
3 直胴部
4 界面反転位置
5 切断位置
Claims (2)
- 組成式が(Gd3-xCax)(Ga5-x-2yZrx+yMgy)O12(0<x3、0<y<1)で表され、かつ、回転引上げ法により育成された肩部と直胴部を有する非磁性ガーネット単結晶から非磁性ガーネット単結晶基板を製造する方法において、
育成時における界面反転操作により非磁性ガーネット単結晶に形成された界面反転位置から40mm以上離れた位置で上記肩部と直胴部を切り離し、該直胴部から非磁性ガーネット単結晶基板を切り出すことを特徴とする非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法。 - 回転引上げ法により育成された非磁性ガーネット単結晶をその引上げ方向と直交する方向へ切断して製造され、かつ、組成式が(Gd3-xCax)(Ga5-x-2yZrx+yMgy)O12(0<x3、0<y<1)で表される非磁性ガーネット単結晶基板において、
X線トポグラフィーで撮影して観察される同心円状の成長縞の中心が単結晶基板面内の中心から8mm以内の領域に存在し、かつ、単結晶基板面内の任意2箇所における格子定数の差が0.002Å以下であることを特徴とする非磁性ガーネット単結晶基板。
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JP2016025880A JP2017145149A (ja) | 2016-02-15 | 2016-02-15 | 非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法と非磁性ガーネット単結晶基板 |
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---|---|---|---|---|
JP2007008759A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Granopt Ltd | ビスマス置換磁性ガーネット膜及びその製造方法 |
JP2012224516A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
JP2015086108A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法 |
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JP2012224516A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
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