JP2017135232A - 分割治具およびウエーハの分割方法 - Google Patents
分割治具およびウエーハの分割方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017135232A JP2017135232A JP2016013200A JP2016013200A JP2017135232A JP 2017135232 A JP2017135232 A JP 2017135232A JP 2016013200 A JP2016013200 A JP 2016013200A JP 2016013200 A JP2016013200 A JP 2016013200A JP 2017135232 A JP2017135232 A JP 2017135232A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- line
- division
- suction
- dividing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 74
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 66
- 230000009189 diving Effects 0.000 abstract 4
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Dicing (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【課題】本発明の解決すべき課題は、第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしをオフセットさせて形成されたウエーハをダイシング装置によって効率よく個々のデバイスに分割する分割治具、およびウエーハの分割方法を提供することにある。【解決手段】本発明によれば、分割治具の被加工物の保持面に配設された吸引領域には、第1の分割予定ラインに対応した切削ブレードの第1の逃げ溝と、第2の分割予定ラインに対応し第1の逃げ溝に対して直交する方向に設けられた切削ブレードの第2の逃げ溝とが形成され、分割治具は、該ウエーハの隣接する各デバイス列に対応して設けられた該第2の逃げ溝が非直線状の状態から直線状に位置付けられるように吸引部による吸引機能を保持したまま該第1の逃げ溝に沿ってスライドする短冊状のプレートを含み形成されている分割治具、および該分割治具を用いた分割方法が提供される。【選択図】図2
Description
本発明は、隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されたウエーハを切削ブレードによって個々のデバイスに分割するための分割治具および該ウエーハの分割方法に関する。
IC、LSI等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハはダイシング装置によって個々のデバイスに分割され携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
携帯電話やパソコン等の電気機器は、より軽量化、小型化が求められており、複数のデバイスが格子状に配設されたチップサイズパッケージ(CSP)と呼ばれるパッケージ技術も開発されている。このようなCSP技術としては、半導体チップの接続端子に対応した接続端子が複数形成されているとともに、半導体チップ毎に区画する分割予定ラインが格子状に形成された銅版等の電極板に複数個の半導体チップをマトリックス状に配設し、半導体チップの裏面側から樹脂をモールディングした樹脂部によって電極板と半導体チップを一体化することによりCSP基板を形成する。このパッケージ基板を分割予定ラインに沿って切断することにより、個々にパッケージされたチップサイズパッケージ(CSP)に分割する。
ここで、上記したようなCSP基板を形成する際に、樹脂のモールディングにより形成されたCSP基板を覆う樹脂部内にボイド(成形品内部に生じる空洞)が発生して製品の信頼性を低下させる場合があることが指摘され、該モールディングにより形成される樹脂の成型膜内部のボイドの発生を抑制すべく、直線状に形成された複数の第1の分割予定ラインと、該第1の分割予定ラインと直交する方向に設けられた複数の第2の分割予定ラインと、を有し、該第1の分割予定ラインと該第2の分割予定ラインとによって区画された各領域にデバイスが配設されたウエーハにおいて、該第1の分割予定ラインに沿って配列された複数のデバイス列が、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしをオフセットさせることにより、隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されることで、該モールディングにより形成される樹脂の成型膜内部のボイドの発生を抑制する技術が公知となっている(特許文献1を参照。)。
上記特許文献1に記載された技術によれば、樹脂のモールディングにより形成される成型膜内部にボイドが発生することが防止されるものの、隣接するデバイス列の第2の分割予定ラインが直線状に連続して形成されておらず、そのままでは切削ブレードを直進させて第2の分割予定ラインに沿ってそのまま切削することができず、第1の分割予定ラインに沿って切削したあと、オフセットしているデバイス列の位置を他のデバイス列と揃えた後に第2の分割予定ラインに沿って切削する必要があることが記載されている。
しかし、上記特許文献1を参照しても、切削加工において具体的にどのような構成の分割治具を用いれば第1、第2の分割予定ラインの切削を効率よく行うことができるのか記載されていない。特に、CSP基板を個々のデバイスに分割するための切削装置における分割前のCSP基板を載置するための保持テーブルは、切削時に切削ブレードから受ける加工負荷においてCSP基板を強固に保持すべく吸引手段が形成されている必要があり、従来知られた保持テーブルの構造では、CSP基板の第1の分割予定ラインに沿って切削したあと、オフセットしているデバイス列と隣接するデバイス列とを容易に揃えることができないという問題があった。
本発明は、上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、直線状に形成された複数の第1の分割予定ラインと、該第1の分割予定ラインと直交する方向に設けられた複数の第2の分割予定ラインと、を有し、該第1の分割予定ラインと該第2の分割予定ラインとによって区画された各領域にデバイスが配設され、該第1の分割予定ラインに沿って配列された複数のデバイス列が、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしをオフセットさせて形成されたウエーハをダイシング装置によって効率よく個々のデバイスに分割する分割治具、およびウエーハの分割方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、直線状に形成された複数の第1の分割予定ラインと、該第1の分割予定ラインと直交する方向に設けられた複数の第2の分割予定ラインと、を有し、該第1の分割予定ラインと該第2の分割予定ラインとによって区画された各領域にデバイスが配設され、該第1の分割予定ラインに沿って配列された複数のデバイス列が、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしを第1の分割予定ライン方向にオフセットするように配列されることにより、隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されたウエーハを切削ブレードによって個々のデバイスに分割するための分割治具であって、該分割治具は、上面にウエーハの各デバイスを吸引保持する吸引部が複数形成された吸引領域を有する本体と、該本体の内部に形成され該吸引部に吸引力を伝達する吸引経路とから構成され、該吸引領域には、該第1の分割予定ラインに対応した切削ブレードの第1の逃げ溝と、該第2の分割予定ラインに対応し第1の逃げ溝に対して直交する方向に設けられた切削ブレードの第2の逃げ溝340とが形成され、該本体の該吸引領域は、該ウエーハの隣接する各デバイス列に対応して設けられた該第2の逃げ溝が非直線状の状態から直線状に位置付けられるように吸引部による吸引機能を保持したまま該第1の逃げ溝に沿ってスライドする短冊状のプレートを含み形成されている分割治具が提供される。
さらに、上記分割治具を用いたウエーハの切断方法であって、隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されたウエーハの第1の分割予定ラインを切削ブレードで切断し、該ウエーハを短冊状にする第1の切断工程と、該プレートを第1の逃げ溝に沿って摺動し、短冊状に分割されたウエーハの第2の分割予定ラインが一直線上になるように位置づけるプレート位置付け工程と、一直線上になるように位置づけられた第2の分割予定ラインを切削ブレードで切断して該ウエーハを個々のデバイスに分割する第2の切断工程と、から構成されるウエーハの分割方法が提供される。
本発明による分割治具は上記のように構成され、第1の分割予定ラインに沿って配列された複数のデバイス列が、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしを第1の分割予定ライン方向にオフセットするように配列されることにより、隣接するデバイス列における第1の分割予定ラインと直交する方向に配設された第2の分割予定ラインが非直線状になるように形成されたウエーハを、切削ブレードによって個々のデバイスに分割するための分割装置に適用される分割治具であって、各デバイスを吸引保持する吸引部が複数形成された吸引領域を有する本体と、該本体の内部に形成され該吸引部に吸引力を伝達する吸引経路とから構成され、該吸引領域には、該第1の分割予定ラインに対応した切削ブレードの第1の逃げ溝と、該第2の分割予定ラインに対応し第1の逃げ溝に対して直交する方向に設けられた切削ブレードの第2の逃げ溝とが形成され、該本体の該吸引領域は、該ウエーハの隣接する各デバイス列に対応して設けられた該第2の逃げ溝が非直線状の状態から直線状に位置付けられるように吸引部による吸引機能を保持したまま該第1の逃げ溝に沿ってスライドする短冊状のプレートを含み形成されていることにより、切削ブレードで第1の分割予定ラインを切断した後、短冊状のプレートを摺動して第2の分割予定ラインを直線状に位置付けて、直進する切削ブレードによって効率よくウエーハを個々のデバイスに分割することができる。
以下、本発明によって構成された分割治具およびウエーハの分割方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、本発明に従って構成された分割治具が適用されるダイシング装置1の全体斜視図が示されている。図1に示すダイシング装置1は、装置ハウジング2を備えている。この装置ハウジング2には、被加工物となるウエーハ10(CSP基板)を保持する被加工物保持機構3と、被加工物を切削するための切削手段4と、切削手段4と被加工物を保持する被加工物保持機構との位置合わせを行うアライメントを行うためのアライメント手段5が配設されている。被加工物保持機構3は、本発明の分割治具を構成するウエーハ10を吸引保持する保持テーブル31と、該保持テーブル31を支持する保持テーブル支持手段32を備えている。保持テーブル支持手段32には、保持テーブル31の下面に配設された後述するエアピストン350が収納可能な凹部321が備えられている。該保持テーブル31は、図2(a)に示すように略矩形上に形成された後述する本体ベース部311とプレート312とからなるテーブル本体310からなり、該テーブル本体310の上面には、被加工物としてのウエーハ10に形成された個々のデバイスに対応するように設けられた吸引部320が複数設けられ、吸引領域を形成している。
図1に戻り説明を続けると、被加工物保持機構3を構成する保持テーブル支持手段32は、保持テーブル31を上面である保持面に対して垂直に設定される軸周りに回動させる図示しない回転駆動手段を備えている。このように構成された保持テーブル支持手段32は、図1において保持テーブル31が位置づけられている被加工物を搬入、搬出する搬入搬出領域と、切削手段4の下方において被加工物に対する加工が実施される加工領域とに移動可能に構成されており、図示しないX軸方向移動手段によって矢印Xで示す加工送り方向(X軸方向)に移動させることが可能になっている。
切削手段4は、X軸方向と直交する矢印Yで示す割り出し送り方向(Y軸方向)に沿って配設されたスピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング41に回転可能に支持された回転スピンドル42と、該回転スピンドル42の先端部に装着された切削ブレード43と、該切削ブレード43の両側に配設された切削水供給ノズル44とを備えている。
図1に示すように該装置ハウジング2の搬入搬出領域に隣接した位置に、ウエーハ10を分割して得られたチップを回収するためのチップ落とし用の開口部6が設けられており、該開口部6の下方には、該開口部6から回収されたチップが収容されるチップ収容容器7が備えられ、チップ収容容器7は、装置ハウジング2から引き出し可能に構成されている。
該アライメント手段5は、搬入搬出領域と加工領域の間にあり、保持テーブル31に保持されたウエーハ10の加工すべき領域を検出する機能を備え、顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送るように構成されている。なお、本実施形態のダイシング装置1には、この他にも該保持テーブル31が搬入搬出領域にある場合に被加工物となるウエーハ10を搬入し搬出するための搬入搬出手段、切削加工後のウエーハ10を洗浄、乾燥させる手段、加工後のチップを該チップ落とし用の開口部6に落とし込むための落とし込み手段等、ウエーハを加工するための種々の構成を備えるが、本発明の要部を構成するものでないため、その図示、説明は省略する。
ここで、図2(a)に示されているように、本発明に基づき構成されるダイシング装置1において被加工物となるウエーハ10は、略矩形形状をなし、直線状に形成された複数の第1の分割予定ライン101と、該第1の分割予定ライン101と直交する方向に設けられた複数の第2の分割予定ライン102と、を有し、該第1の分割予定ライン101と、該第2の分割予定ライン102とによって区画された各領域にデバイス103が配設されている。該第1の分割予定ライン101に沿って複数のデバイス103が配列されたデバイス列L1、L3、L5に対し、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列L2、L4が、第1の分割予定ライン方向にオフセットするように配列されることにより、デバイス列L1〜L5のそれぞれに設けられた第2の分割予定ライン102が、第1に分割予定ラインに対し、交互に段差をもって交差するように、すなわち、非直線状に形成されている。
本発明の分割治具を構成する保持テーブル31の本体310の上面に形成される複数の吸引部320により構成される吸引領域には、上記ウエーハ10のデバイス配置に基づく第1の分割予定ライン101に対応付けられた切削ブレードの第1の逃げ溝330と、第2の分割予定ライン102に対応付けられた切削ブレードの第2の逃げ溝340とが設けられている。初期状態においては、加工前のウエーハ10における第1の分割予定ライン101、第2の分割予定ライン102の形態に合わせて、第1の逃げ溝330に沿って配設された複数の吸引部320により構成された吸引部列L1´、L3´、L5´に対し、該第1の逃げ溝330を挟んで隣接する吸引部列L2´、L4´が、第1の逃げ溝330方向にオフセットされており、吸引部列L1´〜L5´それぞれに形成された第2の逃げ溝340が、第1の逃げ溝330に対して交互に段差をもって交差し、一直線上に配置されず、非直線状となっている。
上記した分割治具を構成する保持テーブル31について、図2〜4に基づき更に詳細に説明する。図3に示すように、該保持テーブル31の本体310は、本体ベース部311と、短冊状のプレート部312から構成されており、本体ベース部311は上部材311aと、後述する吸気経路を形成する凹部311cが設けられた下部材311bとを接合することにより構成される。該上部材311aと下部材311bとが接合されることにより、本体ベース部311の内部には、図3のA−A線断面図(図4を参照)に示すように該凹部311cと該上部材311aの下面部とで吸引経路が形成される。本体ベース部311の側壁には、図示しない吸引源に接続された吸引パイプ36が配設され、吸引パイプ36を介して該吸引経路内を吸引する。本体ベース部311上面の吸引部列L1´、L3´、L5´に形成されている吸引部320は該吸引経路に連通されており、吸引部列L1´とL3´の間、L3´とL5´との間には、短冊状のプレート312が摺動可能なプレート摺動凹部370、370が形成される。
図3に示すように、プレート312は二股形状をなし、プレート312の外方側の側面には、本体ベース部311のプレート摺動凹部370に形成された溝部313に嵌め合わされる案内レール314、314が形成されている。プレート312の上面に形成された吸引部320により形成される吸引部列L2´、L4´を連結する連結部315には、本体ベース部311の下面に固定されたエアピストン350に進退可能に支持されるピストンロッド351の先端部が固定されるロッド連結部316が下方に向けて形成されている。
本体ベース部311の該案内凹部311cに沿ってプレート312の案内レール314を嵌め合わせて摺動させ最奥端に突き当てることにより、図2(a)に示す初期状態とされる。このような構成をとることにより、吸引領域を形成する全ての吸引部320は該吸気経路311cに接続され、吸引パイプ36を介して吸気経路311c内の空気が吸引されて吸引部320上に載置されるウエーハ10を吸引することが可能となる。なお、本実施形態における第1の逃げ溝330は、本体ベース部311とプレート部312との合わせ面の間に形成される。
図2(a)から明らかなように、該初期状態においては、第1の逃げ溝330に沿って配設された複数の吸引部320により構成された吸引部列L1´、L3´、L5´と、該第1の逃げ溝330を挟んで隣接する吸引部列L2´、L4´と、が第1の逃げ溝330方向にオフセットされていることにより、吸引部列L1´〜L5´それぞれに形成された第2の逃げ溝340が、交互に段差をもって交差するようになっており、一直線上に形成されず不連続となる。
本実施形態の本体310は、上記した図2(a)に示す初期状態から、図2(b)に示すように第2の分割予定ラインを切削加工するための第2状態とすることができる。より具体的には、エアピストン350に対して図示しない制御手段により駆動信号が出力されるとエアピストン350のピストンロッド351が駆動され、プレート312を第1の逃げ溝に沿ってスライドさせる。これにより吸引部列L1´〜L5´において不連続となっていた第2の逃げ溝330が一直線上に並ぶ第2状態となるようにプレート312が移動させられる。
本発明の分割治具を構成する保持テーブル31の本体310は、上記したように初期状態から第2状態に変化しても、各吸引部320と吸引経路の連通状態はそのまま維持され、いずれの状態においても、吸引パイプ36から吸引経路の空気を吸引することにより生じる負圧が吸引部320に作用し、吸引部による吸引機能を保持したまま第2の逃げ溝が一直線上に位置付けられる。
本発明に基づき構成される分割治具は以上のように構成されており、以下に図1、2、図5を参照しながら当該分割治具を用いたウエーハの分割方法について説明する。
先ず、図示しないカセットテーブルに載置されたカセットに収容されている加工前のウエーハ10は、図示しない搬入搬出手段により該カセットから取り出され、保持テーブル31上に搬入され、載置される。なお、該搬入搬出手段を実施する前には、アライメント手段5を作動して保持テーブル31の上面である吸引領域を撮像し、第1、第2の逃がし溝を撮像し、撮像した画像信号を制御手段に入力し、画像信号から算出された該逃がし溝位置のxy座標値をメモリに格納しておく。
この際、保持テーブル31は、加工前のウエーハ10に合わせて、上記した初期状態とされていることにより、吸引部列L1´〜L5´それぞれに形成された第2の逃げ溝340が、吸引部列L1´〜L5´において直線状に形成されず、第1の逃げ溝330に対して段差をもって交差し、非直線状に形成されている。
該ウエーハ10を保持テーブル31上に載置し、該逃がし溝位置のxy座標値をメモリに格納した後、図示しないX軸方向移動手段を駆動し、保持テーブル31をアライメント手段5の下方の撮像位置に移動し、ウエーハ10の上面を撮像して、第1の分割予定ライン101と、第2の分割予定ライン102のxy座標位置を算出する。
第1の分割予定ライン101と、第2の分割予定ライン102のxy座標位置を算出したら、該制御手段により、第1、第2の分割予定ラインのxy座標位置と、先に記憶している第1、第2の逃げ溝のxy座標位置とのずれを算出し、保持テーブル31上に載置されたウエーハ10を一旦保持テーブル31上から退避させ、保持テーブル31を、第1、第2の分割予定ラインと、第1、第2の逃げ溝が一致するようにX軸、Y軸方向、及び回転方向で補正し、その後退避させたウエーハ10を再度保持テーブル31上に載置する。この結果、保持テーブル31上の第1、第2の逃げ溝と、ウエーハ10上の第1、第2の分割予定ラインが完全に一致することになる。そして、図示しない吸引源を駆動することにより吸引パイプ36を介して保持テーブル31内の吸引経路内の空気を吸引し、保持テーブル31上にウエーハ10が吸引固定される。
保持テーブル31上にウエーハ10が吸引固定されたならば、保持テーブル31上に吸引固定されたウエーハ10の第1の分割予定ライン101をアライメント手段5により撮像し、加工送り方向であるX軸方向と平行であるか否かを確認するアライメント作業を実施する。もし第1の分割予定ライン101がX軸方向と平行でないならば、保持テーブル支持手段32を回動する図示しない回転駆動手段を制御して保持テーブル31に保持されたウエーハの第1の分割予定ラン101がX軸方向と平行になるように調整する。
上述したようにアライメントを実施しならば、保持テーブル31を切削手段4の下方の加工領域に移動し、切削ブレード43を回転させ、図示しない切り込み送り手段を作動させて下方のウエーハ10側に切り込み送りする。その際の切り込み送り量は、切削ブレード43の切れ刃である外周縁が保持テーブル31の上面に形成された逃がし溝330、340に達する位置設定される。そして、図5(a)に示すように、図示しないX軸方向移動手段を作動させて保持テーブル31を矢印Xで示す方向に所定の切削送り速度で移動させ、該切削ブレード43が該第1の分割予定ライン101の終端部を僅かに越えた位置で該保持テーブル31の移動を停止させ、該切削ブレード43を上方に退避させると共に、隣接する次に切削すべき第1の分割予定ライン101に向けて割り出し送りし、切削ブレード43を下降させて該切削加工を繰り返し、ウエーハ10上のすべての第1の分割予定ライン101を切削する。この結果、ウエーハ10はすべての第1の分割予定ライン10に沿って分割され、第1の分割予定ライン101に沿って配置されたデバイス列L1〜L5が短冊状に分割される(第1の切断工程)。なお、該切削を実施する場合は、切削水供給ノズル44から切削ブレード43の切削部に対して切削水が供給される。
上記したように第1の切断工程が実施されたならば、吸引部による吸引機能を保持したまま保持テーブル支持手段32を周方向に90°回転させ、さらに、エアピストン350を駆動してピストンロッド351を伸長することにより、図2(b)に示したように短冊状のプレート312をスライドさせて、該吸引部列L2´とL4´に形成されている第2の逃げ溝340が、吸引部列L1´、L3´、L5´に形成されている第2の逃げ溝340と直線状に並ぶようにする。この結果、保持テーブル31上に載置されているウエーハ10について見ると、加工前にデバイス列L1〜L5において不連続となっていた第2の分割予定ライン102が、一直線上に並ぶように位置付けられることとなる(プレート位置付け工程)なお、本実施形態では、保持テーブル支持手段32を90°回転させてからプレート312をスライドさせているが、特にこれに限定されず、プレート312を不連続となっていた第2の分割予定ライン102が、一直線上に並ぶようにスライドさせた後、保持テーブル保持手段32を90°回転させてもよい。
ウエーハ10に形成された第2の分割予定ライン102が直線状に並ぶように該プレート312がスライドさせられたならば、保持テーブル31をアライメント手段5の下方領域に移動させて第1の分割予定ラインを加工したのと同じように、アライメント手段5により第2の分割予定ラインを検出しアライメントを行い、保持テーブル31をX軸方向に加工送りしながら直線状にされた第2の分割予定ラインを切削加工し(図5(b)を参照)、1つの第2の分割予定ラインを切削したら、Y軸方向に割り出し送りすることを繰り返し、全ての第2の分割予定ラインの切削加工を実施する(第2の切断工程)。
上記したように、第2の分割予定ライン102は、ウエーハ10の加工を開始する前の状態と異なり、第1の切断工程を終えたあとに直線状に位置付けられているため、第2の分割予定ラインに沿ってデバイス列L1〜L5にかけて一気に切削加工を実施することが可能となっており、効率よく切削加工ができるようになっている。
上記した第1の切断工程、第2の切断工程を終了したら、図示しない洗浄、乾燥手段によって洗浄、乾燥させられ、保持テーブル31の吸引領域に作用していた吸引源からの吸引を解除し、図示しない落とし込み手段を用いて個々に分割されたデバイスを開口部6から収容容器7に収容する。そして、1ロット分のCSP基板の切削加工が終了した後、収容容器7によって個々に分割されたデバイスが次工程に運ばれる。
上記した本実施形態では、ウエーハ10はデバイス列がL1〜L5の5列により構成され、保持テーブル31は当該ウエーハ10に合わせて吸引部列をL1´〜L5´で構成されているが、本発明はこれに限定されない。例えば、被加工物としてのウエーハのデバイス列を3列(L1〜L3)で構成し、中央のデバイス列L2を隣接するL1、L3に対してオフセットするように構成し、保持テーブル31も当該ウエーハに合わせて吸引部列を3列(L1´〜L3´)としてその中央の吸引部列L2´を隣接するL1´、L3´にオフセットさせるようにしてもよく、2列以上であればどのような列数にて構成することも可能である。
1:ダイシング装置
2:装置ハウジング
3:被加工物保持機構
4:切削手段
5:アライメント手段
6:開口部
7:収容容器
10:ウエーハ10(CSP基板)
31:保持テーブル
32:保持テーブル支持手段
101:第1の分割予定ライン
102:第2の分割予定ライン
103:デバイス
312:プレート
320:吸引部
330:第1の逃げ溝
340:第2の逃げ溝
2:装置ハウジング
3:被加工物保持機構
4:切削手段
5:アライメント手段
6:開口部
7:収容容器
10:ウエーハ10(CSP基板)
31:保持テーブル
32:保持テーブル支持手段
101:第1の分割予定ライン
102:第2の分割予定ライン
103:デバイス
312:プレート
320:吸引部
330:第1の逃げ溝
340:第2の逃げ溝
Claims (2)
- 直線状に形成された複数の第1の分割予定ラインと、該第1の分割予定ラインと直交する方向に設けられた複数の第2の分割予定ラインと、を有し、該第1の分割予定ラインと該第2の分割予定ラインとによって区画された各領域にデバイスが配設され、該第1の分割予定ラインに沿って配列された複数のデバイス列が、該第1の分割予定ラインを挟んで隣接するデバイス列どうしを第1の分割予定ライン方向にオフセットするように配列されることにより、隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されたウエーハを切削ブレードによって個々のデバイスに分割するための分割治具であって、
該分割治具は、上面にウエーハの各デバイスを吸引保持する吸引部が複数形成された吸引領域を有する本体と、該本体の内部に形成され該吸引部に吸引力を伝達する吸引経路とから構成され、
該吸引領域には、該第1の分割予定ラインに対応した切削ブレードの第1の逃げ溝と、該第2の分割予定ラインに対応し第1の逃げ溝に対して直交する方向に設けられた切削ブレードの第2の逃げ溝とが形成され、
該本体の該吸引領域は、該ウエーハの隣接する各デバイス列に対応して設けられた該第2の逃げ溝が非直線状の状態から直線状に位置付けられるように吸引部による吸引機能を保持したまま該第1の逃げ溝に沿ってスライドする短冊状のプレートを含み形成されている分割治具。 - 請求項1に記載の分割治具を用いたウエーハの切断方法であって、
隣接するデバイス列における第2の分割予定ラインが非直線状となるように形成されたウエーハの第1の分割予定ラインを切削ブレードで切断し、該ウエーハを短冊状にする第1の切断工程と、
該プレートを第1の逃げ溝に沿って摺動し、第1の切断工程により短冊状に分割されたウエーハの第2の分割予定ラインが直線状になるように位置づけるプレート位置づけ工程と、
該プレート位置付け工程により直線状に位置づけられた第2の分割予定ラインを切削ブレードで切断して該ウエーハを個々のデバイスに分割する第2の切断工程と、
から構成されるウエーハの分割方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016013200A JP2017135232A (ja) | 2016-01-27 | 2016-01-27 | 分割治具およびウエーハの分割方法 |
TW105140459A TW201737403A (zh) | 2016-01-27 | 2016-12-07 | 分割治具及晶圓的分割方法 |
KR1020170004958A KR20170089763A (ko) | 2016-01-27 | 2017-01-12 | 분할 지그 및 웨이퍼의 분할 방법 |
CN201710046333.1A CN107017188A (zh) | 2016-01-27 | 2017-01-22 | 分割治具和晶片的分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016013200A JP2017135232A (ja) | 2016-01-27 | 2016-01-27 | 分割治具およびウエーハの分割方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017135232A true JP2017135232A (ja) | 2017-08-03 |
Family
ID=59440114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016013200A Pending JP2017135232A (ja) | 2016-01-27 | 2016-01-27 | 分割治具およびウエーハの分割方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017135232A (ja) |
KR (1) | KR20170089763A (ja) |
CN (1) | CN107017188A (ja) |
TW (1) | TW201737403A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019036686A (ja) * | 2017-08-21 | 2019-03-07 | 株式会社ディスコ | 保持冶具の製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6970554B2 (ja) * | 2017-08-21 | 2021-11-24 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
CN112397988B (zh) * | 2019-08-12 | 2022-10-14 | 潍坊华光光电子有限公司 | 一种半导体激光器用热沉的反面切割装置及方法 |
JP2023010304A (ja) * | 2021-07-09 | 2023-01-20 | Towa株式会社 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
CN114111240B (zh) * | 2022-01-28 | 2022-04-19 | 陕西众森电能科技有限公司 | 一种电池片除水装置及方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011114070A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP2014225489A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 株式会社ディスコ | 切削装置およびパッケージ基板の加工方法 |
JP2016009870A (ja) * | 2014-06-25 | 2016-01-18 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 基板及び半導体パッケージの製造方法 |
-
2016
- 2016-01-27 JP JP2016013200A patent/JP2017135232A/ja active Pending
- 2016-12-07 TW TW105140459A patent/TW201737403A/zh unknown
-
2017
- 2017-01-12 KR KR1020170004958A patent/KR20170089763A/ko unknown
- 2017-01-22 CN CN201710046333.1A patent/CN107017188A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011114070A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP2014225489A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 株式会社ディスコ | 切削装置およびパッケージ基板の加工方法 |
JP2016009870A (ja) * | 2014-06-25 | 2016-01-18 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 基板及び半導体パッケージの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019036686A (ja) * | 2017-08-21 | 2019-03-07 | 株式会社ディスコ | 保持冶具の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107017188A (zh) | 2017-08-04 |
KR20170089763A (ko) | 2017-08-04 |
TW201737403A (zh) | 2017-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101831455B1 (ko) | 분할 장치 | |
JP2017135232A (ja) | 分割治具およびウエーハの分割方法 | |
CN108724010B (zh) | 水射流加工装置 | |
US10297488B2 (en) | Workpiece support jig | |
KR102465718B1 (ko) | 칩 수용 트레이로부터 개개로 분할된 칩을 픽업하는 방법 | |
JP2011114070A (ja) | 加工装置 | |
JP2012144261A (ja) | 搬送トレイ | |
JP2017152442A (ja) | 加工方法 | |
JP5185739B2 (ja) | 部品実装装置 | |
JP4676288B2 (ja) | 切削装置 | |
KR100655159B1 (ko) | 플래시 메모리의 싱글레이션 장치 및 그 방법 | |
JP2017084893A (ja) | 分割装置 | |
CN108573919B (zh) | 被加工物的加工方法 | |
KR20170061599A (ko) | 가공 장치 | |
JP7294777B2 (ja) | 被加工物の乾燥方法及び切削装置 | |
JP2013222835A (ja) | パッケージ基板の分割方法及び分割装置 | |
JP7229088B2 (ja) | 被加工物の加工方法 | |
JP2019021703A (ja) | 板状の被加工物の切断方法 | |
JP2023074572A (ja) | 被加工物の加工方法 | |
JP2023131269A (ja) | 被加工物の加工方法及び加工装置 | |
JP4989349B2 (ja) | 部品実装装置 | |
JP2023120010A (ja) | 加工装置 | |
JP2011077284A (ja) | 切削装置 | |
KR20240045095A (ko) | 수지 기판의 가공 방법 | |
JP2022101881A (ja) | 加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190716 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200204 |