JP2017130596A - 熱電変換モジュールおよびその製造方法 - Google Patents
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本発明の熱電変換モジュールの一例として、金属膜を両面に有するセラミック基板と、複数のセラミック基板に挟まれた状態で接合され、少なくとも一部が電気的にそれぞれ接続された複数のP型およびN型の熱電変換素子とを備え、複数のセラミック基板のうち、少なくとも一方のセラミック基板とその両面に形成された金属膜には間隙が形成され、セラミック基板に形成された間隙の方がセラミック基板の両面の金属膜に形成された間隙よりも小さいことを特徴とする。
以下、P型熱電変換素子51をマンガン−シリコン素子、N型熱電変換素子52をマグネシウム−シリコン素子として説明する。
例えば、電極部材が90質量%以上のCu成分を有する場合には、Cuが主成分である。また、シリコン−ゲルマニウム系熱電素子であれば、シリコン−ゲルマニウム以外にも不純物等の他の成分が含まれるが、シリコン−ゲルマニウムが主成分である。
熱膨張率(線膨張率)が実質的に同じ金属とは、同一の金属部材である必要はなく、合金や異なる金属部材であってもよい。
金属膜は、円形状、楕円形状、正方形、長方形等でよいが、その金属膜内の形状内に空隙または空間がないものが好ましい。
この場合は、セラミック基板を挟み込む金属膜23によってセラミック基板の反りを抑制できるからである。
ここでは、パターニングされていない金属膜21とパターニングされた電極金属膜23で説明する。
また、セラミック基板に形成する隙間は、熱電変換モジュールの使用温度において、セラミック基板が当接しない幅とすればよい。具体的には1μm以上の切れ込みを入れるのが望ましい。
図2では、図1Aに加えて支持治具41、加圧治具42が追加されている。P型熱電変換素子51、N型熱電変換素子52、金属膜21、セラミック基板22、電極金属膜23、接合材31は、図1と同様の構成である。
また、パターニングされた電極金属膜23および金属膜21を両面に有する低温側用セラミック基板とパターニングされた電極金属膜23および電極膜21を両面に有する高温側セラミック基板を用いても良い。
このような一括接合を行なうことで、接合材を1種類にすることができるとともに、熱処理回数を低減できる。
第3の実施形態では、高温側用セラミック基板25と熱電変換素子を、第1の実施形態同様にAg−Cu−Tiろう材を用いて接合するが、低温側用セラミック基板26と熱電変換素子を接合する接合材33としてアルミニウム箔を使用する点が第1の実施形態と異なる。
なお、第4の実施形態における応力緩和型熱電変換素子組立体の製造方法も、基本的に図2で説明した実施の形態1の製造方法と同様である。
なお、第5の実施形態における応力緩和型熱電変換素子組立体の製造方法も、基本的に図4で説明した第3の実施形態の製造方法と同様である。
なお、本実施形態における応力緩和型熱電変換素子組立体の製造方法も、基本的に図2で説明した第1の実施形態の製造方法と同様である。
低温側の電極は、シャーシ等の低温の部材に絶縁層を介して接触させてもよいし、冷却水が流れる構造体に接触させてもよい。
上記第1〜第7の実施形態に示したプロセスを適用し、図9に示す熱電変換モジュール組立体10を作製する。この熱電変換モジュールは、ケースに封入して使用しても良いし、このまま使用しても良い。
応力評価温度条件は、熱電変換モジュール稼働時を想定し、高温側を550℃、低温側を25℃とした。低温側セラミック基板の隙間有無による素子への影響を最大応力で比較した。
そのため、本発明の熱電変換モジュールは、高温の環境下において、例えば、溶鉱炉、焼却炉等の工業炉の配管や自動車の排気管などに取り付けて発電に用いることができる。
10 熱電変換モジュール組立体
21 金属膜
22 セラミック基板
23 電極金属膜
25 高温側用セラミック基板
26 低温側用セラミック基板
31 接合材
32 中間層
33 接合材
34 中間層
35 メタライゼーション
41 支持治具
42 加圧治具
51 P型熱電変換素子
52 N型熱電変換素子
53 隙間(低温側)
54 隙間(高温側)
Claims (15)
- 金属膜を両面に有するセラミック基板と、
複数の前記セラミック基板に挟まれた状態で接合され、少なくとも一部が電気的にそれぞれ接続された複数のP型およびN型の熱電変換素子とを備え、
複数の前記セラミック基板のうち、少なくとも一方の前記セラミック基板とその両面に形成された金属膜には間隙が形成され、前記セラミック基板に形成された間隙の方が前記セラミック基板の両面の金属膜に形成された間隙よりも小さいことを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記セラミック基板の両面に接合された金属膜は、両面に同一形状にパターニングされていることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記セラミック基板の両面に接合された金属膜は、一方のセラミック基板は電極がパターニングされた金属膜、他方のセラミック基板はパターニングがなされていない金属膜であることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記セラミック基板の両面に接合された金属膜は、線膨張率が実質的に同じであることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
当該熱電変換モジュールは、300〜650℃の高温環境下に配置されることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記P型熱電変換素子および前記N型熱電変換素子が、シリコン−ゲルマニウム系、鉄−シリコン系、ビスマス−テルル系、マグネシウム−シリコン系、マンガン−シリコン系、鉛−テルル系、コバルト−アンチモン系、ビスマス−アンチモン系やホイスラー合金系、ハーフホイスラー合金系の何れかの組合せであることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記金属膜を有するセラミック基板が、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミナから選ばれる少なくとも1種を主成分とするセラミックからなることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記金属膜を有するセラミック基板と前記熱電変換素子とを接合する接合材として、アルミニウム、ニッケル、錫、銅、ゲルマニウム、マグネシウム、金、銀、シリコン、インジウム、鉛、ビスマス、テルル、または、これらの金属のうちいずれかを主成分とし、チタン、ジルコニウムおよびハフニウムから選ばれる少なくとも1種の活性金属を0.1〜10質量%含有する活性金属ろう材を用いたことを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記金属膜を有するセラミック基板と前記熱電変換素子とを接合する接合材として、アルミニウム、インジウム、亜鉛等から選ばれる少なくとも1種の金属箔を用いたことを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項1に記載の熱電変換モジュールにおいて、
前記金属膜が、90質量%以上のCuを含有することを特徴とする熱電変換モジュール。 - 支持治具上に、金属膜を両面に有する第1のセラミック基板を設置するステップと、
前記一方のセラミック基板の金属膜上に、接合材とP型およびN型の熱電変換素子を設置するステップと、
前記熱電変換素子上に、金属膜を両面に有する第2のセラミック基板と接合材とを設置するステップと、
加圧治具により加圧を行うと共に、加熱を行い、前記金属膜と前記熱電変換素子とを一括接合するステップと、
前記第1のセラミック基板または前記第2のセラミック基板のうち少なくとも一方の前記セラミック基板に両面の金属膜に形成された間隙よりも小さい間隙を形成するステップと
を備える熱電変換モジュールの製造方法。 - 請求項11に記載の熱電変換モジュールの製造方法において、
前記金属膜と前記熱電変換素子とを一括接合するステップでは、モジュール稼働温度よりも高い融点を有する接合材により接合されることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 支持治具上に、金属膜を両面に有する第1のセラミック基板と、接合材と、P型およびN型の熱電変換素子を設置するステップと、
加圧治具により加圧を行うと共に、加熱を行い、前記金属膜と前記熱電変換素子とを接合材により接合するステップと、
前記熱電変換素子上に、金属膜を両面に有する第2のセラミック基板と接合材とを設置するステップと、
加圧治具により加圧を行うと共に、加熱を行い、前記金属膜と前記熱電変換素子とを接合材により接合するステップと、
前記第1のセラミック基板または前記第2のセラミック基板のうち少なくとも一方の前記セラミック基板に両面の金属膜に形成された間隙よりも小さい間隙を形成するステップと
を備える熱電変換モジュールの製造方法。 - 請求項13に記載の熱電変換モジュールの製造方法において、
前記金属膜と前記熱電変換素子とを接合するステップでは、モジュール稼働温度よりも高い融点を有する接合材により接合されることを特徴とする熱電変換モジュール。 - 請求項11に記載の熱電変換モジュールの製造方法において、
前記第1のセラミック基板または前記第2のセラミック基板のうち少なくとも一方の前記セラミック基板の両面の金属膜は、同一形状にパターニングされていることを特徴とする熱電変換モジュールの製造方法。
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