JP2017087138A5 - - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims 20
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims 20
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 5
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 4
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015220512A JP6795884B2 (ja) | 2015-11-10 | 2015-11-10 | 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス |
| PCT/JP2016/082140 WO2017082088A1 (ja) | 2015-11-10 | 2016-10-28 | 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス |
| KR1020187016143A KR102072749B1 (ko) | 2015-11-10 | 2016-10-28 | 액체를 피정제물로 하는 정제 방법, 규소 화합물 함유액을 피정제물로 하는 정제 방법, 실릴화제 약액, 막형성용 재료 또는 확산제 조성물의 제조 방법, 필터 미디어, 및 필터 디바이스 |
| US15/772,931 US10525418B2 (en) | 2015-11-10 | 2016-10-28 | Purification method for purifying liquid, purification method for purifying silicon compound-containing liquid, method for producing silylating agent liquid, film forming material or diffusing agent composition, filter medium and filter device |
| TW105136138A TWI724052B (zh) | 2015-11-10 | 2016-11-07 | 將液體純化成被純化物之純化方法、將含矽化合物之液體純化成被純化物之純化方法、矽烷化劑藥液或膜形成用材料或擴散劑組成物之製造方法、過濾介質及過濾元件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015220512A JP6795884B2 (ja) | 2015-11-10 | 2015-11-10 | 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017087138A JP2017087138A (ja) | 2017-05-25 |
| JP2017087138A5 true JP2017087138A5 (enExample) | 2018-10-04 |
| JP6795884B2 JP6795884B2 (ja) | 2020-12-02 |
Family
ID=58695203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015220512A Active JP6795884B2 (ja) | 2015-11-10 | 2015-11-10 | 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10525418B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6795884B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102072749B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI724052B (enExample) |
| WO (1) | WO2017082088A1 (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6486161B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2019-03-20 | 東京応化工業株式会社 | シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法 |
| JP7127937B2 (ja) * | 2016-11-01 | 2022-08-30 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | ポリイミド |
| JP6941504B2 (ja) * | 2017-08-28 | 2021-09-29 | 東京応化工業株式会社 | 強誘電体及びこれを備えるメモリー素子、並びに強誘電体の製造方法 |
| KR102690290B1 (ko) * | 2018-01-12 | 2024-08-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 및 약액의 제조 방법 |
| JP6526894B1 (ja) * | 2018-09-20 | 2019-06-05 | 日東電工株式会社 | 分離膜 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4637476Y1 (enExample) | 1967-06-21 | 1971-12-24 | ||
| JPH0957069A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-04 | Mitsubishi Chem Eng Corp | 浸透気化法による有機液体の精製方法及びそれに用いる装置並びにこれらを利用した蒸気乾燥 |
| JP4637476B2 (ja) | 2002-12-19 | 2011-02-23 | 東京応化工業株式会社 | ホトレジスト組成物の製造方法 |
| JP5128044B2 (ja) | 2003-12-10 | 2013-01-23 | 東京応化工業株式会社 | シリコン基板又は金属配線パターンが設けられたシリコン基板被覆用シリカ系被膜形成用材料の製造方法 |
| JP5249503B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2013-07-31 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体粉末の製造方法およびレジスト組成物の製造方法 |
| JP5092721B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2012-12-05 | Jsr株式会社 | フォトレジスト用樹脂の製造方法 |
| US7838425B2 (en) | 2008-06-16 | 2010-11-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of treating surface of semiconductor substrate |
| JP5541766B2 (ja) * | 2009-05-19 | 2014-07-09 | 株式会社ダイセル | フォトレジスト用高分子化合物の製造方法 |
| WO2011125988A1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | 宇部興産株式会社 | 多孔質ポリイミド膜及びその製造方法 |
| SG185632A1 (en) * | 2010-06-07 | 2012-12-28 | Central Glass Co Ltd | Liquid chemical for foaming protecting film |
| US9228120B2 (en) | 2010-06-07 | 2016-01-05 | Central Glass Company, Limited | Liquid chemical for forming protecting film |
| WO2013094528A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | オルガノ株式会社 | 液体管理システム、および洗浄液の回収再生装置 |
| JP2014094501A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Daicel Corp | 多孔膜積層体及びその製造方法 |
| BR112015017689A2 (pt) * | 2013-01-25 | 2017-07-11 | Sumitomo Bakelite Co | membrana de pervaporação e método para concentrar fenóis |
| WO2015020101A1 (ja) * | 2013-08-08 | 2015-02-12 | 東京応化工業株式会社 | 多孔質ポリイミド系樹脂膜の製造方法、多孔質ポリイミド系樹脂膜、及びそれを用いたセパレータ |
| US9446355B2 (en) * | 2014-02-28 | 2016-09-20 | Pall Corporation | Porous polymeric membrane with high void volume |
-
2015
- 2015-11-10 JP JP2015220512A patent/JP6795884B2/ja active Active
-
2016
- 2016-10-28 KR KR1020187016143A patent/KR102072749B1/ko active Active
- 2016-10-28 WO PCT/JP2016/082140 patent/WO2017082088A1/ja not_active Ceased
- 2016-10-28 US US15/772,931 patent/US10525418B2/en active Active
- 2016-11-07 TW TW105136138A patent/TWI724052B/zh active
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