JP2021031358A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021031358A5 JP2021031358A5 JP2019156145A JP2019156145A JP2021031358A5 JP 2021031358 A5 JP2021031358 A5 JP 2021031358A5 JP 2019156145 A JP2019156145 A JP 2019156145A JP 2019156145 A JP2019156145 A JP 2019156145A JP 2021031358 A5 JP2021031358 A5 JP 2021031358A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide film
- crystalline oxide
- laminated structure
- structure according
- raw material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019156145A JP7045014B2 (ja) | 2019-08-28 | 2019-08-28 | 積層構造体の製造方法 |
| JP2022033298A JP7306640B2 (ja) | 2019-08-28 | 2022-03-04 | 結晶性酸化物膜 |
| JP2023100733A JP7610229B2 (ja) | 2019-08-28 | 2023-06-20 | 積層構造体、半導体装置及び積層構造体の製造方法 |
| JP2024150923A JP7868812B2 (ja) | 2019-08-28 | 2024-09-02 | 積層構造体及び半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019156145A JP7045014B2 (ja) | 2019-08-28 | 2019-08-28 | 積層構造体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022033298A Division JP7306640B2 (ja) | 2019-08-28 | 2022-03-04 | 結晶性酸化物膜 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021031358A JP2021031358A (ja) | 2021-03-01 |
| JP2021031358A5 true JP2021031358A5 (enExample) | 2021-07-26 |
| JP7045014B2 JP7045014B2 (ja) | 2022-03-31 |
Family
ID=74675335
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019156145A Active JP7045014B2 (ja) | 2019-08-28 | 2019-08-28 | 積層構造体の製造方法 |
| JP2022033298A Active JP7306640B2 (ja) | 2019-08-28 | 2022-03-04 | 結晶性酸化物膜 |
| JP2023100733A Active JP7610229B2 (ja) | 2019-08-28 | 2023-06-20 | 積層構造体、半導体装置及び積層構造体の製造方法 |
| JP2024150923A Active JP7868812B2 (ja) | 2019-08-28 | 2024-09-02 | 積層構造体及び半導体装置 |
Family Applications After (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022033298A Active JP7306640B2 (ja) | 2019-08-28 | 2022-03-04 | 結晶性酸化物膜 |
| JP2023100733A Active JP7610229B2 (ja) | 2019-08-28 | 2023-06-20 | 積層構造体、半導体装置及び積層構造体の製造方法 |
| JP2024150923A Active JP7868812B2 (ja) | 2019-08-28 | 2024-09-02 | 積層構造体及び半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (4) | JP7045014B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7610231B2 (ja) * | 2021-05-04 | 2025-01-08 | 信越化学工業株式会社 | 原料溶液の製造方法、成膜方法及び製品ロット |
| EP4579715A1 (en) * | 2022-08-26 | 2025-07-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Film forming method, film forming device, susceptor, and a-gallium oxide film |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2927934B1 (en) | 2014-03-31 | 2017-07-05 | Flosfia Inc. | Crystalline multilayer structure and semiconductor device |
| JP2015196603A (ja) | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 株式会社Flosfia | 結晶性積層構造体、半導体装置 |
| EP2933825B1 (en) * | 2014-03-31 | 2017-07-05 | Flosfia Inc. | Crystalline multilayer structure and semiconductor device |
| JP6422159B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2018-11-14 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | α−Ga2O3単結晶、α−Ga2O3の製造方法、および、それを用いた半導体素子 |
| JP6758569B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2020-09-23 | 株式会社タムラ製作所 | 高耐圧ショットキーバリアダイオード |
| JP6904517B2 (ja) * | 2016-06-30 | 2021-07-14 | 株式会社Flosfia | 結晶性酸化物半導体膜およびその製造方法 |
| JP6618216B2 (ja) | 2018-10-11 | 2019-12-11 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | α−Ga2O3単結晶、α−Ga2O3の製造方法、および、それを用いた半導体素子 |
-
2019
- 2019-08-28 JP JP2019156145A patent/JP7045014B2/ja active Active
-
2022
- 2022-03-04 JP JP2022033298A patent/JP7306640B2/ja active Active
-
2023
- 2023-06-20 JP JP2023100733A patent/JP7610229B2/ja active Active
-
2024
- 2024-09-02 JP JP2024150923A patent/JP7868812B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5575852B2 (ja) | グラフェンを含む導電性薄膜および透明導電膜 | |
| JP2015199649A5 (enExample) | ||
| CN105074868B (zh) | 复合基板、半导体装置及半导体装置的制法 | |
| JP2018002544A5 (enExample) | ||
| JP6142145B2 (ja) | ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法 | |
| TWI642086B (zh) | Substrate substrate and method for manufacturing composite substrate for semiconductor | |
| JP2014082500A5 (ja) | グリーンシートの製造方法およびグリーンシート | |
| JP2012509581A5 (enExample) | ||
| JP2018014372A5 (enExample) | ||
| JPWO2016121642A1 (ja) | SiC被覆炭素複合材 | |
| JPWO2010023934A1 (ja) | グラフェン/SiC複合材料の製造方法及びそれにより得られるグラフェン/SiC複合材料 | |
| JP2014189422A5 (enExample) | ||
| JPWO2015129302A1 (ja) | 半導体用複合基板のハンドル基板 | |
| JP2015214448A5 (enExample) | ||
| Hu et al. | Substrate dielectric effects on graphene field effect transistors | |
| JP5404135B2 (ja) | 支持基板、貼り合わせ基板、支持基板の製造方法、及び貼り合わせ基板の製造方法 | |
| JP2018058758A (ja) | 多孔質セラミック構造体 | |
| JP2016058631A (ja) | グラフェン積層体の製造方法 | |
| JP2020111495A5 (enExample) | ||
| CN101120124A (zh) | 碳化硅单晶的制造方法 | |
| RU2015104036A (ru) | Подложка для электронной литографии высокого разрешения и соответствующий способ литографии | |
| CN107400923B (zh) | 一种增强金刚石热导率的方法 | |
| JP3848584B2 (ja) | カーボンナノチューブの製造方法 | |
| KR102887755B1 (ko) | 그래핀층을 포함하는 그라파이트 서셉터의 열전도도 향상 방법 | |
| JPWO2007000963A1 (ja) | 段差を有するセラミックス基板の製造方法 |