JP2017077460A - 架台装置 - Google Patents

Abstract

【課題】回転機構の内部を効率的に冷却すること。【解決手段】実施形態の架台装置は、回転フレームと、固定機構と、送風機構とを備える。回転フレームは、Ｘ線管と、前記Ｘ線管から照射されたＸ線を検出するＸ線検出器とを含む。固定機構は、前記回転フレームを、回転軸を中心に回転可能に支持する。送風機構は、前記回転軸に対して前記回転フレームの外周側の側面に設置され、前記回転フレームの外部から吸入された空気を、前記回転フレームの前記回転軸側に送風する。そして、前記送風機構は、前記回転フレームに対してオフセットした状態で設置される。【選択図】図４

Description

本発明の実施形態は、架台装置に関する。

従来、Ｘ線ＣＴ装置は、架台装置内の熱を冷却する際に、例えば架台装置の前面下部から吸入した空気を、架台装置の上部に設置されたファンにより架台装置の天井面へと流し、架台装置の天井面から架台装置の外部へ排気する。

特開２００４−１２１７１７号公報

本発明が解決しようとする課題は、回転機構の内部を効率的に冷却することができる架台装置を提供することである。

実施形態の架台装置は、回転フレームと、固定機構と、送風機構とを備える。回転フレームは、Ｘ線管と、前記Ｘ線管から照射されたＸ線を検出するＸ線検出器とを含む。固定機構は、前記回転フレームを、回転軸を中心に回転可能に支持する。送風機構は、前記回転軸に対して前記回転フレームの外周側の側面に設置され、前記回転フレームの外部から吸入された空気を、前記回転フレームの前記回転軸側に送風する。そして、前記送風機構は、前記回転フレームに対してオフセットした状態で設置される。

図１は、第１の実施形態に係る架台装置を示す正面図である。 図２は、第１の実施形態に係る架台装置を示す正面図である。 図３Ａは、従来技術に係る冷却機構を説明するための図である。 図３Ｂは、従来技術に係る冷却機構を説明するための図である。 図４は、第１の実施形態に係る送風機構を説明するための図である。 図５Ａは、第１の実施形態に係る送風機構を説明するための図である。 図５Ｂは、第１の実施形態に係る送風機構を説明するための図である。 図６は、第１の実施形態の変形例に係る送風機構を説明するための図である。 図７は、第２の実施形態に係る整形機構を説明するための図である。 図８は、第２の実施形態に係る整形機構を説明するための図である。 図９は、第２の実施形態に係る整形機構を説明するための図である。

以下、図面を参照して、実施形態に係る架台装置を説明する。実施形態の架台装置は、Ｘ線ＣＴ（Computed Tomography）装置が有する架台装置である。なお、実施形態は、以下の実施形態に限られるものではない。また、一つの実施形態に記載した内容は、原則として他の実施形態にも同様に適用される。

（第１の実施形態）
図１及び図２は、第１の実施形態に係る架台装置１０を示す正面図である。図１では、カバーが装着された状態の架台装置１０を示し、図２では、カバーが装着されていない状態の架台装置１０を示す。

図１に示すように、架台装置１０は、回転機構２０と、固定機構３０とを備える。また、架台装置１０には、被検体が挿入される開口４０が設けられる。また、架台装置１０において、図１に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸からなる直交座標系を定義する。すなわち、Ｘ軸は水平方向を示し、Ｙ軸は鉛直方向を示し、Ｚ軸は開口４０の中心軸方向を示す。直交座標系において、矢印で示す方向を正方向とする。

図２に示すように、回転機構２０は、カバー２１と、回転フレーム２２とを有する。カバー２１は、回転フレーム２２を覆い、回転フレーム２２を保護する。このカバー２１には、後述する排気ファン２７ａ及び２７ｂが設置される。なお、図２中においてカバー２１を破線で示す。

回転フレーム２２は、図２に示すように、開口４０を形成する円環領域２２ａと、この円環領域２２ａを囲う円環領域２２ｂとで形成される円環状のフレームである。この回転フレーム２２は、例えば、Ｘ線管２３と、Ｘ線検出器２４と、ＤＡＳ（Data Acquisition System）２５と、オイルクーラー２６とを構成要素として含む。なお、回転フレーム２２には、電装部品等の他の構成要素が含まれてもよい。

ここで、回転フレーム２２に含まれる各構成要素は、回転フレーム２２の円環領域２２ｂの内側に直接的又は間接的に取り付けられる。すなわち、各構成要素は、回転フレーム２２が回転した場合、遠心力が作用する側に取り付けられる。これにより、各構成要素は、回転フレーム２２が回転した場合でも、安定に回転フレーム２２に固定される。なお、以下では、円環領域２２ｂの近傍を回転フレーム２２の外周側と称し、円環領域２２ａの近傍を回転フレーム２２の内周側と称す。より詳細には、回転フレーム２２の内周側は、回転フレーム２２において、円環領域２２ｂの内側に直接的又は間接的に取り付けられた各構成要素と、円環領域２２ａとの間の領域である。

また、例えば、回転フレーム２２は、Ｘ線を照射するＸ線管２３と、Ｘ線管２３から照射されたＸ線を検出するＸ線検出器２４とを被検体の周囲で回転可能に支持する。すなわち、回転フレーム２２は、Ｘ線管２３とＸ線検出器２４とを被検体を挟んで対向支持し、後述する駆動機構３３によって回転軸を中心とした円軌道にて高速に回転する。ここで、例えば、被検体は、回転軸の中心に被検体が載置されるように開口４０に挿入される。なお、回転フレーム２２の回転軸は、開口４０の略中心を通過するＺ軸方向に設定される。

ＤＡＳ２５は、Ｘ線検出器２４が検出したＸ線の検出データから、投影データを収集する。そして、ＤＡＳ２５は、収集したデータを図示しないコンソールに出力する。これによりコンソールは、収集された投影データからＣＴ画像データを再構成する。

固定機構３０は、カバー３１と、固定フレーム３２とを有する。カバー３１は、固定フレーム３２を保護する。なお、図２中においてカバー３１を破線で示す。固定フレーム３２は、駆動機構３３を有し、回転フレーム２２を、回転軸を中心に回転可能に支持する。すなわち、駆動機構３３は、回転フレーム２２を回転駆動させることによって、被検体を中心とした円軌道上でＸ線管２３とＸ線検出器２４とを旋回させる。また、固定機構３０は、チルト軸３４ａ及び３４ｂと、軸受け３５ａ及び３５ｂとを有する。この固定機構３０は、チルト軸３４ａ及び３４ｂに対して所定の角度で回転フレーム２２を傾けて支持可能である。なお、チルト軸３４ａ及び３４ｂを区別しない場合には、チルト軸３４と記載し、軸受け３５ａ及び３５ｂを区別しない場合には、軸受け３５と記載する。

また、架台装置１０は、撮像時にＸ線管２３が発生する熱を外部に排出する冷却機構を備えている。例えば、Ｘ線管２３で発生した熱は、絶縁油の循環により冷却機構であるオイルクーラー２６に誘導され、回転フレーム２２内部から外周方向に排出される。しかし、全てが外周に排出されるわけではなく、回転フレーム２２内部に留まってしまうものがある。また、カバー２１の天井部には排気ファン２７ａ及び２７ｂが設置される。これにより、回転フレーム２２内部に排出される熱は、排気ファン２７ａ及び２７ｂから架台装置１０の外部により効率的に排出される。なお、排気ファン２７ａ及び２７ｂを区別しない場合には、排気ファン２７と記載する。

図３Ａ及び図３Ｂを用いて従来技術に係る冷却機構について説明する。図３Ａ及び図３Ｂは、従来技術に係る冷却機構を説明するための図である。図３Ａ及び図３Ｂでは、従来技術に係る架台装置９１０を示す。なお、架台装置９１０は、回転機構９２０と、固定機構９３０とを備える。回転機構９２０は、カバー９２１と、回転フレーム９２２とを有する。回転フレーム９２２は、Ｘ線管９２３とＸ線検出器９２４とＤＡＳ９２５とオイルクーラー９２６とを構成要素として含む。また、カバー９２１には、排気ファン９２７ａ及び９２７ｂが設置される。

図３Ａに示すように、従来技術に係る架台装置９１０は、架台装置９１０の床面側から外気を吸入する。ここで、回転フレーム９２２が停止中である場合、架台装置９１０の床面側から吸入された空気は、回転フレーム９２２内を経由して、カバー９２１の天井部に設置された排気ファン９２７ａ及び９２７ｂから架台装置９１０の外部に排出される。排気ファン９２７ａから排出される空気は、例えば図３Ａに示すように、回転フレーム９２２の外周側を経由する流れＦ１と、回転フレーム９２２の内周側を経由する流れＦ２とを含む。また、排気ファン９２７ｂから排出される空気は、例えば図３Ａに示すように、回転フレーム９２２の外周側を経由する流れＦ３と、回転フレーム９２２の内周側を経由する流れＦ４とを含む。なお、回転フレーム９２２の外周側とは、回転フレーム９２２において円環領域９２２ｂの近傍を示し、回転フレーム９２２の内周側とは、円環領域９２２ａの近傍を示す。

この一方で、架台装置９１０において、回転フレーム９２２の回転時には、回転フレーム９２２の回転による遠心力のため架台装置９１０の床面側から回転フレーム９２２内部に外気を吸入しづらくなる。より具体的には、回転中の回転フレーム９２２には、例えば図３Ｂに示すように、遠心力Ｃ１〜Ｃ８が作用する。この結果、架台装置９１０の床面側から吸入する外気Ｆ５及びＦ６は、例えば遠心力Ｃ４〜Ｃ６により床面側に押し戻されるので、回転フレーム９２２の内部には吸気されづらくなる。この結果、回転中の回転フレーム９２２において、図３Ａに示す空気の流れＦ１〜Ｆ４の形成は妨げられる。このため、回転フレーム９２２の回転時にも回転フレーム９２２の内部を冷却するためには、回転フレーム９２２内周側に直接冷たい風を送る必要がある。

例えば、架台装置９１０において開口９４０側に吸気口を設ければ回転フレーム９２２の内周側に直接冷たい風を送ることが可能である。しかしながら、架台装置９１０は、被検体の手術時に用いられる場合がある。手術時には、被検体の血液や嘔吐物等の液体が架台装置９１０の開口９４０付近に飛散することがある。開口９４０側に吸気口を設けた場合には、液体が吸気口に付着したり、吸気口内に吸入されたりする可能性がある。このため、架台装置９１０において開口９４０側に吸気口を設けることは望ましくない。

また、架台装置９１０前面の床面側に吸気口を設け、この吸気口からダクトを介して回転機構９２０の内周面に外気を送風する技術が知られている。しかしながら、かかる技術では、埃等の溜まりやすい架台装置９１０の床面側から積極的に吸気して、回転機構９２０に送風することになる。回転機構９２０には、Ｘ線検出器９２４などの繊細な部品を含んでいるので、この技術を用いる場合には吸気口にフィルターを設けて異物を除去することが必須となる。しかしながら、フィルターは、時間の経過に伴って目詰まりし、吸気量が減る可能性がある。このような場合には、回転フレーム９２２の内部を冷却することができなくなる。また、架台装置９１０前面に吸気口を設けることになるため、騒音が増し患者への負担が大きくなる。

このようなことから架台装置１０において、騒音を抑制し、かつ、回転フレーム２２の内周側に空気を送り回転フレーム２２を冷却することが望まれる。そこで、第１の実施形態では、回転軸に対して回転フレーム２２の外周側の側面に設置され、回転フレーム２２の外部から吸入された空気を、回転フレーム２２の回転軸側に送風する送風機構を備える。図４、図５Ａ及び図５Ｂを用いて、第１の実施形態に係る送風機構について説明する。図４、図５Ａ及び図５Ｂは、第１の実施形態に係る送風機構を説明するための図である。なお、図４、図５Ａ及び図５Ｂでは、送風機構が、吸気ファンである場合について説明する。

図４では、図１及び図２に示す回転フレーム２２の回転軸側から右半分を回転軸側から斜視している。図４に示すように、カバー２１には板金２８が取り付けられている。この板金２８の回転フレーム２２側には、吸気ファン１００ａ、１００ｂ、及び１００ｃが設置される。なお、吸気ファン１００ａ、１００ｂ、及び１００ｃを区別しない場合には、吸気ファン１００と記載する。なお、板金２８においてファン１００が設置される面と反対側の面は、例えば網目状に形成されており、吸気口として外気を吸気ファン１００に吸入させることが可能である。

ここで、吸気ファン１００は、回転フレーム２２に対してオフセットした状態で設置される。ここで、回転フレーム２２に対してオフセットした状態とは、回転フレーム２２の回転軸方向において、回転フレーム２２の外側に設置されることを示す。言い換えると、吸気ファン１００は、オフセットした状態として、カバー２１において、回転フレーム２２の回転軸方向における、回転フレーム２２の外側に設置される。例えば、吸気ファン１００は、オフセットした状態として、回転フレーム２２に対して、回転軸方向（図４中のＺ軸方向）において、回転フレーム２２の前面側の回転面よりも前方及び回転フレーム２２の背面側の回転面より後方の少なくともいずれか一方にずらした位置に配置される。図４に示す例では、吸気ファン１００は、回転軸方向（図４中のＺ軸方向）において例えば、回転フレーム２２の前面側の回転面より前方に配置される。また、吸気ファン１００は、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して配置される。これにより、図４に示すように、吸気ファン１００によって吸入された空気は、回転フレーム２２の回転軸方向に対して斜め方向に吹き付けられる。すなわち、吸気ファン１００によって吸入された空気は、回転フレーム２２の内周側に送風される。より具体的には、図４に示すように、吸気ファン１００から吸入された空気は、例えば、Ｘ線検出器２４と円環領域２２ａとの間の領域に送風される。この結果、吸気ファン１００は、回転フレーム２２が回転中であり遠心力の影響を受ける場合であっても、吸入した空気を回転フレーム２２の内部に送風することができる。

また、送風機構は、チルト軸３４の近傍に設置される。図５Ａでは、回転機構２０をマイナス３０°チルトさせた場合を示し、図５Ｂでは、回転機構２０をプラス３０°チルトさせた場合を示す。また、図５Ａ及び図５Ｂでは、固定機構３０のカバー３１及びチルト軸３４を破線で示す。例えば、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、吸気ファン１００は、回転機構２０のカバー２１においてチルト軸３４の近傍に設置される。

このため、例えば図５Ａに示すように、回転機構２０をマイナス３０°チルトさせても、吸気ファン１００と固定機構３０のカバー３１との位置関係に大きな変化はない。このため、吸気ファン１００は、固定機構３０のカバー３１内部に収められる。同様に、例えば図５Ｂに示すように、回転機構２０をプラス３０°チルトさせても、吸気ファン１００と固定機構３０のカバー３１との位置関係に大きな変化はない。このため、吸気ファン１００は、固定機構３０のカバー３１内部に収められる。

このように、吸気ファン１００が、チルト軸３４の近傍に吸気ファン１００が設置されることにより、回転機構２０をチルトさせても固定機構３０のカバー３１の内側に吸気ファン１００を収めることが可能である。更に、吸気ファン１００は、被検体から離れた場所に位置する架台装置１０の横側に設置される。この結果、吸気ファン１００による騒音を低減できる。

上述したように、第１の実施形態では、回転フレーム２２の回転時及び停止時に関わらず、吸気ファン１００によって常に回転機構２０の回転軸側に外気を送風するので、回転機構２０の内部を効率的に冷却することができる。

（第１の実施形態の変形例）
第１の実施形態では、送風機構が吸気ファン１００である場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、送風機構は、ダクトであってもよい。図６は、第１の実施形態の変形例に係る送風機構を説明するための図である。

図６では、図４と同様に、図１及び図２に示す回転フレーム２２の回転軸側から右半分を回転軸側から斜視している。図６に示すように、カバー２１には板金２８が取り付けられている。この板金２８の回転フレーム２２側には、ダクト２００が設置される。なお、板金２８においてダクト２００が設置される面と反対側の面は、例えば網目状に形成されており、吸気口として外気をダクト２００に吸入させることが可能である。なお、ダクト２００は、送風機構として吸気ファン１００を設置する場合と同様に、チルト軸３４の近傍に設置される。

ここで、ダクト２００は、図６に示すように、回転フレーム２２の外周側のカバー２１から回転フレーム２２の内周側に延伸する経路である。なお、図６に示す例では、回転フレーム２２の背面側に、例えばベアリング等の駆動機構が設置され、回転フレーム２２の前面側に、Ｘ線管２３やＸ線検出器２４が設置されるものとする。かかる場合、ダクト２００は、回転フレーム２２に対してオフセットした状態で設置される。例えば、ダクト２００は、回転軸方向において、回転フレーム２２の前方側及び後方側の少なくともいずれか一方に配置される。より具体的には、ダクト２００は、図６に示すように、回転軸方向（図６中のＺ軸方向）において、回転フレーム２２の回転面の前方側に配置される。また、図６に示すダクト２００は、回転フレーム２２内において、回転フレーム２２の外周側のカバー２１から円環領域２２ａの開口４０より内側に延伸する。ここで、回転フレーム２２が回転することによって回転フレーム２２内が陰圧になるので、ダクト２００を介して外気が吸入される。そして、図６に示すように、ダクト２００によって吸入された空気は、回転フレーム２２内部の気流の影響を受けずに、回転フレーム２２の内周側に直接送風される。より具体的には、図６に示すように、ダクト２００から吸入された空気は、例えば、Ｘ線検出器２４と円環領域２２ａとの間の領域に送風される。更に、排気ファン２７によって回転フレーム２２内が陰圧になるので、回転フレーム２２が停止時でもダクト２００を介して外気が吸入される。このように、回転フレーム２２の回転時及び停止時に関わらず、ダクト２００によって常に回転機構２０の回転軸側に外気を送風するので、回転機構２０の内部を効率的に冷却することができる。

また、上述した実施形態では、送風機構として、吸気ファン１００或いはダクト２００である場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、架台装置１０は、吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構を有してもよい。かかる場合、ダクト２００は、吸気ファン１００により吸引された外気を回転フレーム２２の回転軸側に送風する。ここで、吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構では、吸気ファン１００及びダクト２００が、回転フレーム２２に対してオフセットした状態で設置される。例えば、吸気ファン１００は、オフセットした状態として、図４と同様に、回転フレーム２２の回転軸方向において、当該回転フレーム２２の外側に設置される。また、かかる場合、吸気ファン１００は、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して配置されてもよい。或いは、吸気ファン１００は、ダクト２００と組み合わされる場合、オフセットした状態として、回転軸方向において回転フレーム２２の回転軸方向において、回転フレーム２２の内側で、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して配置される。例えば、吸気ファン１００は、オフセットした状態として、カバー２１において、回転軸方向において回転フレーム２２の回転軸方向における、回転フレーム２２の内側で、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して配置される。言い換えると、吸気ファン１００は、回転フレーム２２に対して、回転軸方向において回転フレーム２２の外側には位置をずらさずに、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜することによりオフセットした状態として配置される。なお、架台装置１０が、吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構を有する場合、ダクト２００は、回転フレーム２２に対してオフセットした状態で設置されるので、吸気ファン１００は、回転フレーム２２に対してオフセットした状態で設置されなくてもよく、回転フレーム２２の回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して配置されなくてもよい。

また、上述した実施形態では、カバー２１においてチルト軸３４ｂの近傍に送風機構を有する場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、吸気ファン１００やダクト２００等の送風機構は、カバー２１においてチルト軸３４ａ及びチルト軸３４ｂの近傍にそれぞれ設置されてもよい。例えば、架台装置１０は、カバー２１においてチルト軸３４ａ及びチルト軸３４ｂの近傍それぞれに、吸気ファン１００を有してもよい。或いは、架台装置１０は、カバー２１においてチルト軸３４ａ及びチルト軸３４ｂの近傍それぞれに、ダクト２００を有してもよい。或いは、架台装置１０は、送風機構として吸気ファン１００とダクト２００とをそれぞれ独立に有してもよい。例えば、チルト軸３４ａの近傍に吸気ファン１００を有し、チルト軸３４ｂの近傍にダクト２００を有してもよい。或いは、チルト軸３４ａの近傍に吸気ファン１００を有し、チルト軸３４ｂの近傍に吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構を有してもよい。或いは、チルト軸３４ａの近傍にダクト２００を有し、チルト軸３４ｂの近傍に吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構を有してもよい。

また、図４では、吸気ファン１００が３つ設置される場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、架台装置１０に設置される吸気ファンの数は任意に変更可能である。

また、図６では、ダクト２００が１つ設置される場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、架台装置１０に設置される、ダクト２００の数は任意に変更可能である。ここで、架台装置１０に複数のダクトが設置される場合、回転フレーム２２の外周側のカバー２１から回転フレーム２２の内周側に延伸するダクト２００以外のダクト２００ａが設置されてもよい。例えば、架台装置１０に複数のダクトが設置される場合には、回転フレーム２２の回転面の前方側から円環領域２２ａの開口４０側を経由して回転フレーム２２の背面側まで延伸するダクト２００ａがダクト２００とは別に更に設置されてもよい。かかる場合、ダクト２００ａは、前方側から送られた空気を架台装置１０の背面側にも送風することが可能になる。

また、図６に示す例では、ダクト２００が、回転軸方向（図６中のＺ軸方向）において、回転フレーム２２の回転面の前方側に配置される場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、回転フレーム２２の前面側にベアリング等の駆動機構が設置され、回転フレーム２２の背面側にＸ線管２３やＸ線検出器２４が設置される場合、ダクト２００は、回転軸方向において、例えば回転フレーム２２の背面側に配置されてもよい。

また、架台装置１０は、回転フレーム２２の停止中にも、主な熱源に対して送風機構による冷却を行うようにしてもよい。例えば、回転フレーム２２は、主な熱源であるＸ線管２３及びＸ線検出器２４の少なくともいずれか一方と、送風機構とが近接する位置で停止するようにしてもよい。例えば、チルト軸３４ｂの近傍に吸気ファン１００が設置される場合、コンソール装置の制御下において、回転フレーム２２は、Ｘ線検出器２４と吸気ファン１００とが近接する位置で停止してもよい。

（第２の実施形態）
第１の実施形態では、送風機構を備えることで、外部から吸入した空気を回転機構２０の内周側へ直接的に送風する場合について説明した。第２の実施形態では、回転フレーム２２の回転によって形成される気流を、回転軸に対して前後方向に整形可能な整形機構を備えることで、回転機構２０の内周側へ空気を送風する場合について説明する。なお、第２の実施形態に係る架台装置１０の全体構成は、図１及び図２に示した構成例と同様であるので、ここでは説明を省略する。

図７から図９は、第２の実施形態に係る整形機構を説明するための図である。図７から図９では、整形機構として、回転フレーム２２の回転によって形成される気流を、回転軸に対して前後方向に整形可能なフィン３００がカバー２１に形成される場合について説明する。

図７では、カバー２１のうち底面部分を示し、図８では、回転フレーム２２を覆うカバー２１全体を示す。図９では、図１及び図２に示す架台装置１０の回転軸側から右半分の領域をＹ軸方向から見た断面を示す。図９では、回転フレーム２２に含まれる構成要素を斜線で示している。図７に示すように、回転機構２０のカバー２１の内面にフィン３００が形成される。ここで、図８に示すように、フィン３００は、カバー２１の少なくとも底面に形成される。このようにカバー２１にフィン３００が形成されることにより、回転フレーム２２の回転によって生じた風の流れが、フィン３００に沿った方向に向きを変えられる。すなわち、フィン３００は、図７に示すように架台装置１０のＺ軸方向に向かう風を、回転フレーム２２の回転によって整形することができる。また、図９に示すように、図７示すように整形された風がカバー２１に沿って流れることで、最終的には回転フレーム２２の内周側に外気が送風されることになる。すなわち、フィン３００がカバー２１に形成されることにより、回転フレーム２２内で生じた空気を、カバー２１に沿って回転フレーム２２の回転軸側に供給することが可能となる。

上述したように、第２の実施形態によれば、回転機構２０のカバー２１の内面にフィン３００を形成することで、回転フレーム２２の回転によって起きる風の向きを変えることができる。これにより、架台装置１０の外部から空気を吸入しなくても、回転フレーム２２内で発生する風を利用して、回転フレーム２２の内周側に空気を送風することが可能となる。また、回転フレーム２２内で発生する風を利用するので、騒音の影響がない。

なお、第２の実施形態では、フィン３００が形成される場合について説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、フィン３００と同様に回転フレーム２２の内周側に空気を送風することが可能であれば整形機構の形状は任意に変更可能である。

（その他の実施形態）
実施形態は、上述した実施形態に限られるものではない。

例えば、第１の実施形態に係る架台装置１０は、第２の実施形態において説明した整形機構を備えるようにしてもよい。すなわち、第１実施形態に係る架台装置１０は、回転フレーム２２の回転によって形成される気流を、回転軸に対して前後方向に整形可能な整形機構３００を更に備えるようにしてもよい。かかる場合、架台装置１０は、送風機構として吸気ファン１００を有し、整形機構としてフィン３００を有してもよい。また、架台装置１０は、送風機構としてダクト２００を有し、整形機構としてフィン３００を有してもよい。また、架台装置１０は、送風機構として吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構を有し、整形機構としてフィン３００を有してもよい。また、架台装置１０は、送風機構として吸気ファン１００とダクト２００とをそれぞれ独立に有し、整形機構としてフィン３００を有してもよい。また、架台装置１０は、送風機構として吸気ファン１００及びダクト２００のいずれか一方と、吸気ファン１００とダクト２００とが組み合わされた送風機構とを有し、整形機構としてフィン３００を有してもよい。

また、上述した実施形態では、吸気ファン１００は、回転軸方向（図４中のＺ軸方向）において例えば、回転フレーム２２の前面側の回転面より前方に配置されるものとして説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、吸気ファン１００は、回転軸方向（図４中のＺ軸方向）において例えば、回転フレーム２２の背面側の回転面より後方に配置されてもよい。

また、上述した実施形態に係る架台装置１０は、図示しないコンソール装置によって制御される。このコンソール装置は、例えば、架台装置１０によって収集された投影データを用いてＣＴ画像データを再構成する。また、コンソール装置は、例えば、Ｘ線管２３及びＸ線検出器２４の少なくともいずれか一方と、送風機構とが近接する位置で停止するように回転フレーム２２を制御する。また、コンソール装置は、例えば、Ｘ線管２３からのＸ線の照射終了の際、Ｘ線検出器２４がチルト軸近傍且つ送風機構に近接する位置にて停止するように回転フレーム２２を制御する。

上記の実施形態の説明において、図示した各装置の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部又は一部を、各種の負荷や使用状況等に応じて、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。例えば、図２に示すＸ線管２３及びＸ線検出器２４が配置される回転フレーム２２中の位置が回転軸に対して左右逆転してもよい。かかる場合、Ｘ線検出器２４の近傍にＤＡＳ２５が配置され、Ｘ線管２３の近傍にオイルクーラー２６が配置される。さらに、各装置にて行なわれる各処理機能は、その全部または任意の一部が、ＣＰＵおよび当該ＣＰＵにて解析実行されるプログラムにて実現され、或いは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現され得る。

また、上記の実施形態で説明した回転フレーム２２の停止制御方法は、予め用意された制御プログラムをパーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータで実行することによって実現することができる。この制御プログラムは、インターネット等のネットワークを介して配布することができる。また、この制御プログラムは、ハードディスク、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−ＲＯＭ、ＭＯ、ＤＶＤ等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録され、コンピュータによって記録媒体から読み出されることによって実行することもできる。

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、回転機構の内部を効率的に冷却することができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

１０ 架台装置
２０ 回転機構
２２ 回転フレーム
３０ 固定機構
１００ 吸気ファン

Claims (15)

1. Ｘ線管と、前記Ｘ線管から照射されたＸ線を検出するＸ線検出器とを含む回転フレームと、
   前記回転フレームを、回転軸を中心に回転可能に支持する固定機構と、
   前記回転軸に対して前記回転フレームの外周側の側面に設置され、前記回転フレームの外部から吸入された空気を、前記回転フレームの前記回転軸側に送風する送風機構と
   を備え、
   前記送風機構は、前記回転フレームに対してオフセットした状態で設置される、架台装置。
2. 前記固定機構は、チルト軸に対して所定の角度で前記回転フレームを傾けて支持可能であり、
   前記送風機構は、前記チルト軸近傍に設置される、請求項１に記載の架台装置。
3. 前記回転フレームを覆うカバーを更に備え、
   前記送風機構は、前記カバーに設置される、請求項１又は２に記載の架台装置。
4. 前記送風機構は、吸気ファンである、請求項１〜３のいずれか一つに記載の架台装置。
5. 前記送風機構は、更にダクトを有し、
   前記ダクトは、前記吸気ファンにより吸引された外気を前記回転フレームの前記回転軸側に送風する、請求項４に記載の架台装置。
6. 前記吸気ファンは、前記オフセットした状態として、前記回転フレームの回転軸方向において、前記回転フレームの外側に設置される、請求項４又は５に記載の架台装置。
7. 前記吸気ファンは、前記回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して設置される、請求項６に記載の架台装置。
8. 前記吸気ファンは、前記オフセットした状態として、前記回転フレームの回転軸方向において、前記回転フレームの内側で、前記回転軸方向に対して所定の角度で傾斜して設置される、請求項５に記載の架台装置。
9. 前記送風機構は、ダクトである、請求項１〜３のいずれか一つに記載の架台装置。
10. 前記回転フレームの回転によって形成される気流を、前記回転軸に対して前後方向に整形可能な整形機構を更に備える、請求項１〜９のいずれか一つに記載の架台装置。
11. 前記回転フレームは、前記Ｘ線管及びＸ線検出器の少なくともいずれか一方と、前記送風機構とが近接する位置で停止する、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の架台装置。
12. 前記回転フレームは、前記Ｘ線管からのＸ線の照射終了の際、前記Ｘ線検出器がチルト軸近傍且つ前記送風機構に近接する位置にて停止する、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の架台装置。
13. Ｘ線管と、前記Ｘ線管から照射されたＸ線を検出するＸ線検出器とを含む回転フレームと、
    前記回転フレームを、回転軸を中心に回転可能に支持する固定機構と、
    前記回転フレームの回転によって形成される気流を、前記回転軸に対して前後方向に整形可能な整形機構と
    を備える、架台装置。
14. 前記回転フレームを覆うカバーを更に備え、
    前記整形機構として、前記回転フレームの回転によって形成される気流を、前記回転軸に対して前後方向に整形可能なフィンが前記カバーに形成される、請求項１３に記載の架台装置。
15. 前記フィンは、前記カバーの少なくとも底面に形成される、請求項１４に記載の架台装置。

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