JP2017072769A - Light irradiation device - Google Patents
Light irradiation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017072769A JP2017072769A JP2015200575A JP2015200575A JP2017072769A JP 2017072769 A JP2017072769 A JP 2017072769A JP 2015200575 A JP2015200575 A JP 2015200575A JP 2015200575 A JP2015200575 A JP 2015200575A JP 2017072769 A JP2017072769 A JP 2017072769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- stage
- illuminance
- irradiation
- illuminometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 58
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 24
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 14
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 9
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J2001/4247—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors for testing lamps or other light sources
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
Description
この出願の発明は、対象物に光を照射する装置に関するものである。 The invention of this application relates to an apparatus for irradiating an object with light.
光の産業上の利用は様々な分野で進んでおり、種々の目的で対象物に光を照射することが行われている。特に、対象物の性質を光によって変化させる光処理の技術は、各種製品の製造プロセスにおいて盛んに利用されている。
例えば、液晶ディスプレイの製造プロセスでは、近年、光配向と呼ばれる光処理が多く採用されるようになってきている。光配向は、液晶ディスプレイ用の配向層や視野角補償フィルム用の配向層を得る際、配向層用の膜材に対して光照射することによりにより配向膜(配向層となる膜)を得る技術である。
Industrial use of light is progressing in various fields, and light is irradiated to an object for various purposes. In particular, optical processing technology that changes the properties of an object by light is actively used in manufacturing processes of various products.
For example, in the manufacturing process of liquid crystal displays, in recent years, a lot of light processing called photo-alignment has been adopted. Photo-alignment is a technique for obtaining an alignment film (film that becomes an alignment layer) by irradiating the film material for the alignment layer with light when an alignment layer for a liquid crystal display or an alignment layer for a viewing angle compensation film is obtained. It is.
このような光処理の分野では、ある設定された領域に光を照射しておき、光処理の対象物(以下、ワークという)をこの領域(以下、照射領域という)を通過するようにして搬送することで光処理を行う構成が採用されることがある。上記光配向の分野でも、特許文献1に示すようにこの種の構成が採用された装置が使用される。
図9は、この種の従来の光照射装置の概略図であり、図9(1)は正面概略図、図9(2)は側面概略図である。図9に示すように、光照射装置は、照射領域に光を照射する光照射器1と、ワークWを搬送する搬送機構3とを備えている。
In such a field of light processing, a predetermined area is irradiated with light, and an object of light processing (hereinafter referred to as a workpiece) is conveyed so as to pass through this area (hereinafter referred to as an irradiation area). Thus, a configuration for performing optical processing may be employed. Also in the field of photo-alignment, as shown in
FIG. 9 is a schematic view of this type of conventional light irradiation apparatus, FIG. 9 (1) is a schematic front view, and FIG. 9 (2) is a schematic side view. As shown in FIG. 9, the light irradiation apparatus includes a
図9において、照射領域はワークWの幅より少し広い幅の方形の領域である。光照射器1は、この方形のパターンで光照射できるよう光源11やミラー12を備えた構成とされる。例えば、幅方向に長い棒状の光源11と、光源11を上側から覆う長尺なミラー12とを備えた構成される。搬送機構3による搬送路は、水平な方向とされ、照射領域を貫いて設定される。
ワークWはステージ2上に保持され、ステージ2が照射領域を通過しながら移動することでワークWに光照射がされる。光配向を行う場合、光照射器1は、光源11の出射側に偏光素子14を保持した構造とされ、偏光素子14を通過した光(偏光光)がワークWに照射される。
In FIG. 9, the irradiation area is a rectangular area having a width slightly wider than the width of the workpiece W. The
The workpiece W is held on the
上述したような光処理を行う光照射装置では、ワークに対して十分な光量が与えられることが必要で、光量が不足すると、一般的に光処理が不十分となる。ここで、光照射装置が備える光源は、光出力が徐々に低下する場合が多い。これは、劣化による場合が多いが、劣化とはいえないまでも光出力性能が当初の状態から若干低下することがある。 In the light irradiation apparatus that performs light processing as described above, it is necessary that a sufficient amount of light is given to the workpiece. If the amount of light is insufficient, the light processing is generally insufficient. Here, the light output of the light irradiation device often decreases gradually. This is often due to deterioration, but the light output performance may be slightly reduced from the initial state even if it is not a deterioration.
上述したような光照射装置は、照射領域において所定の照度で光照射がされていることを前提として所定の速度でワークを搬送して照射領域を通過させることで所定量の光量をワークに対して与える。したがって、照度が予定されている値から低下すると、光量の低下に直結し、光処理不足となる。
このため、定期的に照度を測定し、十分な照射強度又は照射量が得られているかチェックすることがしばしば行われる。そして、限度以上に照射強度又は照射量が低下している場合、光源の交換等の措置が講じられる。
照射強度や照射量のチェックに必要な照度計6は、従来、図9(2)に示すように、光照射器1内に設けられている。照度計6の位置は、照射領域への光照射を遮蔽しない位置である。
The light irradiation apparatus as described above is configured to deliver a predetermined amount of light to the workpiece by transporting the workpiece at a predetermined speed and passing through the irradiation region on the assumption that light irradiation is performed at a predetermined illuminance in the irradiation region. Give. Therefore, when the illuminance decreases from the planned value, it directly leads to a decrease in the amount of light, resulting in insufficient light processing.
For this reason, it is often performed to regularly measure illuminance and check whether sufficient irradiation intensity or irradiation amount is obtained. And when irradiation intensity or irradiation amount is falling beyond a limit, measures, such as exchange of a light source, are taken.
Conventionally, the
このような従来の光照射装置において、照度測定している位置は、ワークWに対して実際に光照射がされる位置(照射領域内の位置)ではないため、ワークWに対する実際の照射強度又は照射量の低下を忠実にモニタしているのではないという問題がある。
例えば、光処理の分野では、紫外域の光の高いエネルギーを利用して処理を行う場合が多く、棒状の光源として高圧水銀ランプのような放電ランプが使用されることが多い。棒状の放電ランプについては、経時的に両端の電極付近において黒化等が生じ、光出力が低下することがある。両端部において光出力が低下していても、中央部を含むその他の部分では十分な光出力があり、十分に使用可能な場合が多い。即ち、照射領域では十分な照度で光照射がされている場合が多い。
In such a conventional light irradiation apparatus, the position at which the illuminance is measured is not a position where light is actually irradiated on the workpiece W (a position within the irradiation region). There is a problem that the decrease in irradiation dose is not monitored faithfully.
For example, in the field of light processing, processing is often performed using high energy of ultraviolet light, and a discharge lamp such as a high-pressure mercury lamp is often used as a rod-shaped light source. In the case of a rod-shaped discharge lamp, blackening or the like may occur near the electrodes at both ends over time, and the light output may decrease. Even if the light output is reduced at both ends, there are many cases where there is sufficient light output in other parts including the central part and it can be used sufficiently. That is, light irradiation is often performed with sufficient illuminance in the irradiation region.
このような場合でも、図9(2)に示すように照度計6が照射領域を外れた位置に設置されていると、照度計6が照度低下を検出してしまうため、光源11の交換時期が到来したと判断されてしまうことがある。つまり、まだ十分に使用できるのにもかかわらず光源11の交換をすべき旨の指示が表示されてしまうことがある。
したがって、照度計6は、できるだけ照射領域に近い場所に配置されることが好ましい。この場合、照度計6を照射領域内に配置して照射領域における照度を測定するとより好ましいが、ワークWの処理中(照射領域を通過する際)に照射領域内に位置することはできないから、結局、光源11を点灯させたままにしておいて処理の合間に照度計6を照射領域に配置したり、ないしは照射領域を通過させたりして照度測定をすることになる。この構成が、特許文献1に示されている。
Even in such a case, as shown in FIG. 9B, if the
Therefore, it is preferable that the
特許文献1のように処理の合間に照度計を照射領域に配置したり照射領域を通過させたりしながら照度測定する際の問題は、大きく二つある。一つは、照度計の移動のために特別の機構が別途必要になり、機構的に複雑になる点である。もう一つの問題は、処理の合間に照度測定するステップを設けるため、生産性に影響を与えてしまう点である。特許文献1では、後者の問題について、処理終了後のワークの排出時間を利用して照度測定を行うとしているのでタクトタイムに影響がないとしている。しかしながら、この種の装置におけるワークの排出は、通常、ロボットを使用して行われ、その動作速度は比較的速い。一方、特許文献1は、ワークの速度と同じ速度で照度センサを移動させるとしており、照射光量の多い処理の場合には速度は遅くなり、照度センサの移動速度も遅くなる。この場合には、ワークの排出が終了しても照度センサの移動(照度測定)は終了していない可能性もあり、タクトタイムに影響を与えてしまう。
There are two major problems when measuring the illuminance while placing the illuminometer in the irradiation area or passing the irradiation area between the processes as in
本願の発明は、上記のような事情を考慮して為されたものであり、光源の劣化等に起因した照度低下を監視する機能を備えた光照射装置であって、機構的に複雑にならず、且つ生産性に影響を与えることのない構造を有する光照射装置を提供することをその目的とする。 The invention of the present application has been made in consideration of the above-described circumstances, and is a light irradiation apparatus having a function of monitoring a decrease in illuminance caused by deterioration of a light source, etc. It is an object of the present invention to provide a light irradiation apparatus having a structure that does not affect productivity.
上記課題を解決するため、この出願の請求項1記載の発明は、照射領域に光を照射する光照射器と、対象物が上側に保持されるステージと、照射領域を通過する状態で設定された搬送路に沿ってステージを移動させて対象物を搬送する搬送機構とを備えた光照射装置であって、
ステージの側面には、光照射器からの光による照度を測定する照度計が取り付けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、前記請求項1の構成において、照射領域に光を照射する光照射器と、対象物が上側に保持されるステージと、照射領域を通過する状態で設定された搬送路に沿ってステージを移動させて対象物を搬送する搬送機構とを備えた光照射装置であって、
ステージには光照射器からの光による照度を測定する照度計が取り付けられており、照度計の取り付け位置は、光照射器からの光を対象物に対して遮蔽せず且つ対象物によって遮蔽されない位置であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、前記請求項1又は2の構成において、前記照度計は、前記照射領域を通過する位置に取り付けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項1、2又は3の構成において、前記ステージを上下方向を軸として回転させるθ移動機構が設けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記ステージの平面視の輪郭形状は少なくとも一つの角部を有しており、
前記照度計は、角部を挟んで隣り合う二つの側面のそれぞれに取り付けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項6記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記ステージの平面視の輪郭形状は方形であり、
前記照度計は、各側面に少なくとも一つ取り付けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項7記載の発明は、前記請求項6の構成において、前記照度計は、前記方形の輪郭形状のうち向かい合う辺に位置する側面のそれぞれに取り付けられた照度計は、前記搬送路の方向に延びる同一直線上には位置していないか又は前記ステージを上下方向を軸として回転させて姿勢を変化させるθ機構が設けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項8記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記ステージの平面視の輪郭形状は向かい合う二つの辺を有する形状であり、
前記照度計は、向かい合う辺に位置する側面のそれぞれに取り付けられているとともに、各照度計は、前記搬送路の方向に延びる同一直線上には位置していないか又は前記ステージを上下方向を軸として回転させて姿勢を変化させるθ機構が設けられているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項9記載の発明は、前記請求項1乃至8いずれかの構成において、前記搬送路の方向に交差する方向に前記ステージを直線移動させる補助移動機構を備えているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項10記載の発明は、前記請求項1乃至9いずれかの構成において、前記照度計の測定値を積算して光量を算出する光量算出手段と、算出した光量を記憶部する記憶部とを備えているという構成を有する。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
On the side surface of the stage, an illuminometer that measures the illuminance by light from the light irradiator is attached.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
The stage is equipped with an illuminometer that measures the illuminance by the light from the light illuminator, and the illuminometer mounting position does not shield the light from the light irradiator from the object and is not shielded by the object It has a configuration of being a position.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in
In order to solve the above problem, the invention according to
In order to solve the above problem, the invention according to
The illuminance meter is configured to be attached to each of two side surfaces adjacent to each other with a corner portion interposed therebetween.
In order to solve the above problem, the invention according to
The illuminance meter has a configuration in which at least one illuminance meter is attached to each side surface.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
In order to solve the above problem, the invention according to
The illuminance meter is attached to each of the side surfaces located on opposite sides, and each illuminance meter is not positioned on the same straight line extending in the direction of the transport path, or the stage is pivoted in the vertical direction. And a θ mechanism for changing the posture by rotating the motor.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 9 includes an auxiliary movement mechanism that linearly moves the stage in a direction crossing the direction of the transport path in the configuration according to any one of the first to eighth aspects. It has the composition of being.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 10 is the light intensity calculation means for calculating the light intensity by integrating the measured values of the illuminometer in the configuration according to any one of
以下に説明する通り、この出願の請求項1記載の発明によれば、対象物への光照射の強度又は量をモニタするための照度計がステージの側面に取り付けられているため、対象物により近い条件で照度測定が行われる。このため、光源の劣化等が誤って判断されてしまうことがない。また、照射領域又はその付近に照度計を配置したり照射領域又はその付近を通過させたりするための機構を別途設ける必要はないので、機構的に簡略化される。また、対象物の排出の時間帯において照度を測定する必要はないので、生産性に影響を与えてしまうこともない。
また、請求項2記載の発明によれば、対象物への光照射の強度又は量をモニタするための照度計がステージに取り付けられているため、対象物により近い条件で照度測定が行われる。このため、光源の劣化等が誤って判断されてしまうことがない。また、照射領域又はその付近に照度計を配置したり照射領域又はその付近を通過させたりするための機構を別途設ける必要はないので、機構的に簡略化される。また、対象物の排出の時間帯において照度を測定する必要はないので、生産性に影響を与えてしまうこともない。
また、請求項3記載の発明によれば、上記効果に加え、照度計が照射領域を通過する位置に取り付けられているので、この点でさらに対象物に近い条件で照度測定が行われる。このため、誤った判断の可能性がさらに低くなる。
また、請求項4記載の発明によれば、上記効果に加え、ステージを上下方向を軸として回転させるθ移動機構が設けられているので、照度計も回転することになり、照射領域のうちの任意の位置を通過するよう照度計を位置させることができ、任意の位置で照度を測定することができる。
また、請求項5記載の発明によれば、上記効果に加え、照度計は、角部を挟んで隣り合う二つの側面のそれぞれに取り付けられているので、二カ所の照度を測定して照度分布を得ることができる。
また、請求項6記載の発明によれば、上記効果に加え、ステージの平面視の輪郭形状は方形であり、照度計はステージの各側面に少なくとも一つ取り付けられているので、三カ所又は四カ所で照度を測定して照度分布を得ることができる。
また、請求項7記載の発明によれば、上記効果に加え、四カ所で照度を測定して照度分布を得ることができる。
また、請求項8記載の発明によれば、上記効果に加え、二カ所で照度を測定して照度分布を得ることができる。
また、請求項9記載の発明によれば、上記効果に加え、搬送路の方向に交差する方向にステージを直線移動させる補助移動機構を備えているので、この方向の任意の位置で照度を測定することができる。
また、請求項10記載の発明によれば、上記効果に加え、照度計の測定値を積算することで得られた光量が記憶部に記憶されるので、光量の監視を行うことができる。
As described below, according to the invention described in
According to the second aspect of the present invention, since the illuminance meter for monitoring the intensity or amount of light irradiation to the object is attached to the stage, the illuminance measurement is performed under conditions closer to the object. For this reason, deterioration of the light source and the like are not erroneously determined. In addition, since it is not necessary to separately provide a mechanism for arranging an illuminometer in or near the irradiation region or passing the irradiation region or the vicinity thereof, the mechanism is simplified. In addition, since it is not necessary to measure the illuminance during the time when the object is discharged, the productivity is not affected.
According to the invention described in
According to the invention described in
According to the invention of
According to the invention described in
Further, according to the seventh aspect of the invention, in addition to the above effects, the illuminance distribution can be obtained by measuring the illuminance at four locations.
According to the invention described in
According to the ninth aspect of the invention, in addition to the above-described effect, the auxiliary movement mechanism that linearly moves the stage in the direction intersecting the direction of the conveyance path is provided, so that the illuminance is measured at an arbitrary position in this direction. can do.
According to the invention described in claim 10, in addition to the above effect, the amount of light obtained by integrating the measured values of the illuminometer is stored in the storage unit, so that the amount of light can be monitored.
次に、この出願発明を実施するための形態(以下、実施形態)について説明する。以下の説明では、光照射装置の例として光配向用偏光光照射装置を取り上げる。但し、本願発明は、光配向用偏光光照射装置に限定されるものではない。
図1〜図3は、第一の実施形態の光照射装置の概略図であり、図1は斜視概略図、図2は正面概略図、図3は側面概略図である。図1〜図3に示す光照射装置は、照射領域に光を照射する光照射器1と、対象物Wが上側に保持されるステージ2と、照射領域を通過する状態で設定された搬送路に沿ってステージ2を移動させる搬送機構3とを備えている。この実施形態では、光照射は光処理のために行われる。以下、対象物Wをワークと言い換える。
Next, modes for carrying out the invention of the present application (hereinafter referred to as embodiments) will be described. In the following description, a polarized light irradiation device for photo-alignment will be taken as an example of the light irradiation device. However, the present invention is not limited to the polarized light irradiation device for photo-alignment.
1 to 3 are schematic views of the light irradiation apparatus according to the first embodiment. FIG. 1 is a schematic perspective view, FIG. 2 is a schematic front view, and FIG. 3 is a schematic side view. The light irradiation apparatus shown in FIGS. 1 to 3 includes a
まず、有効照射領域と搬送路について説明する。
単に「照射領域」と言った場合、光が照射されている領域を広く意味する場合と、光を照射すべき領域として設定された領域の二つの意味がある。「有効照射領域」は、ワークWに対する光処理として有効な照度で光が照射される領域として予め設定された領域という意味であり、後者の意味である。この実施形態では、照射面において有効照射領域外に照射される光は実質的には無く、有効照射領域は広い意味の照射領域と一致している。したがって区別する必要はないが、以下の説明において、「照射領域」は有効照射領域(設定領域)の意味で用いられている。
照射領域は、この実施形態では、長方形の領域として設定されている。便宜上、長方形の長尺方向をY方向と呼び、短尺方向をX方向とする。搬送路は、照射領域を通過する状態で設定されているが、この実施形態では、搬送路の向きはX方向に一致している。すなわち、照射領域と搬送路とは交差(Y方向では直交)している。
First, the effective irradiation area and the conveyance path will be described.
When simply saying “irradiation region”, there are two meanings: a region that is widely irradiated with light and a region that is set as a region to be irradiated with light. The “effective irradiation area” means an area preset as an area where light is irradiated with an illuminance effective as light processing for the workpiece W, and is the latter meaning. In this embodiment, there is substantially no light irradiated outside the effective irradiation region on the irradiation surface, and the effective irradiation region coincides with a broad meaning irradiation region. Therefore, although it is not necessary to distinguish, in the following description, “irradiation area” is used to mean an effective irradiation area (setting area).
In this embodiment, the irradiation area is set as a rectangular area. For convenience, the long direction of the rectangle is called the Y direction, and the short direction is the X direction. The conveyance path is set so as to pass through the irradiation area, but in this embodiment, the direction of the conveyance path coincides with the X direction. That is, the irradiation area and the conveyance path intersect (orthogonal in the Y direction).
ワークWについて、Y方向の長さを「幅」とすると、照射領域のY方向の長さは、ワークWの幅よりも十分に長くなっている。このため、ワークWが搬送路に沿って搬送されて照射領域を通過すると、ワークWの上面の全面が光照射される。
尚、この実施形態では、ワークWは方形の板状の部材となっているが、後述するようにステージ2は上下方向を軸とした回転軸の周りに回転可能であるので、回転によってワークWの幅の大きさは変動する。したがって、最も幅が広くなった場合でも、ワークWの幅よりも照射領域のY方向の長さの方が大きくなるように照射領域の大きさが設定されている。
Assuming that the length in the Y direction of the workpiece W is “width”, the length in the Y direction of the irradiation region is sufficiently longer than the width of the workpiece W. For this reason, when the work W is transported along the transport path and passes through the irradiation region, the entire upper surface of the work W is irradiated with light.
In this embodiment, the workpiece W is a rectangular plate-shaped member. However, as will be described later, the
このような照射領域に光照射する光照射器1は、光源11と、光源11の背後を覆うミラー12と、これらを収容したランプハウス13等から構成されている。光源11には、上記のように照射領域が長方形であるため、Y方向に長い発光部を有する棒状のものが採用される。この実施形態の装置は、紫外線を照射する装置であるため、紫外線を放射する高圧水銀ランプやメタルハライドランプのような棒状の放電ランプが採用される。光源11は、長手方向がY方向に一致した状態で配置される。尚、光源11としては、LEDやLD等で構成された紫外線発光素子が複数Y方向にアレイ状に配置されたものを使用することもできる
ミラー12もY方向に長いものであり、いわゆる樋状ミラーである。ミラー12の反射面のX方向での断面形状は、楕円円弧又は放物線となっている。
The
この実施形態は、光配向用の光照射装置となっており、光照射器1は所定の向きに偏光した光を照射領域に照射するものとなっている。具体的には、図2及び図3に示すように、ランプハウス13内には偏光素子14が設けられている。偏光素子14としては、この実施形態ではグリッド偏光素子が使用されている。グリッド偏光素子は、透明基板上に微細な縞(ラインアンドスペース)状のグリッドが形成された構造の素子であり、グリッドを構成する各線状部の離間間隔を、偏光させる光の波長程度又はそれより短い距離とした構造の素子である。
This embodiment is a light irradiating apparatus for photo-alignment, and the
幅広の照射領域を一つの偏光素子14でカバーすることが難しいため、この実施形態では、複数の偏光素子14をY方向に並べてユニット化した構造が採用されている。即ち、Y方向に並べられた複数の偏光素子14と、各偏光素子14を保持した不図示のフレームなどから成る偏光素子ユニットがランプハウス13内に搭載されている。各偏光素子14は、光源11と照射領域の間に位置する。
Since it is difficult to cover a wide irradiation area with one
図1に示すように、ステージ2は台状の部材であり、この実施形態では平面視で輪郭形状が方形の部材となっている。ステージ2は、複数の不図示の支持ピンを備えたものである。各支持ピンは、ステージ2の上面から少し突出している。各支持ピンのうち一部は管状であり、真空吸着のための吸気を行うようになっている。ステージ2は、各支持ピン上で真空吸着されながら保持される。
尚、ステージ2は、不図示のアライメント機構を備えている。アライメント機構は、ワークWに設けられた不図示のマークを読み取ってワークWの位置や姿勢を微調整する機構である。
As shown in FIG. 1, the
The
搬送機構3は、この実施形態では、リニアモータを採用した機構となっている。具体的には、搬送機構3は、X方向に平行に延びるリニアガイド31と、磁石がX方向に延びるよう配置されたリニアモータの固定子32とを備えている。そして、固定子32に対して駆動される可動子が設けられた移動台(以下、X方向移動台という)33が設けられている。X方向移動台33の移動は、可動子の各磁極の極性を順次変えることで行われる。尚、X方向移動台33は、リニアガイド31に嵌合する溝を有しており、リニアモータ32の動作に伴い、リニアガイド31にガイドされながらX方向に移動するようになっている。なお、搬送機構としては、ボールねじを用いた機構を採用することもできる。
In this embodiment, the
また、この実施形態では、ステージ2をY方向に直線移動させる機構(以下、補助移動機構という)4と、各ステージ2を上下方向の軸の周りに回転させる機構(以下、θ移動機構という)5とが設けられている。補助移動機構4についても、リニアモータ方式の搬送機構が採用されている。
In this embodiment, a mechanism (hereinafter referred to as an auxiliary movement mechanism) 4 that linearly moves the
そして、図1に示すように、Y方向移動台43上にθ移動機構5が固定され、このθ移動機構5により軸支された状態でステージ2が取り付けられている。θ移動機構5は、サーボモータを含み、基準方向に対して指定された角度にステージ2を回転させ、その姿勢を保持することが可能な機構とされる。基準方向は例えばX方向とされる。このような機構により、ステージ2は、X方向に搬送されるとともに、Y方向及びθ方向に移動可能となっている。
As shown in FIG. 1, the
このような実施形態の光照射装置は、ワークWに対する光照射の強度又は量を監視するため、照度計6を備えている。実施形態の説明において、照度とは光照射の強度であって放射照度(W/m2)である。照度計は、照射領域の放射照度を測定する。また照射量は照射領域における光エネルギー量であり、「光量」、厳密には「積算光量」である。積算光量(J/m2)=照度(W/m2)×照射時間(sec)である。
実施形態の装置の大きな特徴点は、照度計6がステージ2に取り付けられている点である。照度計6がステージ6に取り付けられていることには、二つの意味がある。一つは、光照射されるワークWになるべく近い位置で照度を測定するという意味であり、ステージ2と一体に移動する結果、ワークWが光照射される状況下で同じように光照射されて照度が測定されるという意味である。
The light irradiation device of such an embodiment includes an
A major feature of the apparatus of the embodiment is that the
より具体的に説明すると、この実施形態では、照度計6はステージ2の側面21に取り付けられている。前述したように、ステージ2は平面視の輪郭形状が方形の台状の部材である。方形の一辺の方向がX方向に平行又は垂直に向けている状態を定常姿勢とすると、この実施形態では、定常姿勢のステージ2のX方向に沿った側面21に固定されている。
照度計6のステージ2への取付で重要な点は、照度計6が光照射器1による照射領域を通過する位置に取り付けられる点である。
More specifically, in this embodiment, the
An important point in attaching the
光処理のため光照射する際には、処理の均一性を確保する観点から、長方形を成す照度の高い領域は、同時に照度の均一な領域となるよう光源11やミラー12の形状、配置が採用される。この場合、均一で高い照度の領域が光処理に利用される領域であり、これが照射領域である。
When irradiating light for light processing, the shape and arrangement of the
照射領域は、Y方向に搬送される際のワークの幅(Y方向の長さ)に対して十分に長いものとされる。つまり、処理しようとするワークの幅に対して照射領域の幅(Y方向の長さ)が十分に長くなるよう光源11やミラー12の形状、配置が決定される。したがって、照射領域は、Y方向においてワークWの幅よりも広く、マージンがある。実施形態において、照度計6は、このマージンの領域を通過する位置に配置される。尚、照射領域は、ステージ2の幅に対しても十分に幅広のものとされてマージンが形成される。ステージ2の幅方向の側面に照度計6を取り付けることで、照度計6は照射領域を通過する状態となる。
The irradiation area is sufficiently long with respect to the width of the workpiece (the length in the Y direction) when being conveyed in the Y direction. That is, the shape and arrangement of the
このように照度計6が照射領域を通過する位置に照度計6が取り付けられることは、実際にワークWが受ける光照射の状態とできる限り同じ状態となる位置で照度を測定するという意義がある。尚、照度計6の初期取付位置が照射領域外であったとして、ステージ2に取り付けられている限り、Y方向移動又はθ移動を適宜行うことで照射領域内を通過させるようにしたり、ないしは照射領域に近い場所を通過させたりして測定が可能であるので、ランプハウス13等に取り付けられるのと比べると、ワーク6に対する光照射と遙かに近い状況で照度測定が行えるようになる。
The attachment of the
照度計6としては、Siフォトダイオード等を受光素子として使用したものが使用される。照度計6は、受光面が上方に向いた姿勢で固定されている。図3に示すように、照度計6の受光面は、ステージ2に載置されたワークの上面と同じ高さとなっている。この点も、できる限りワークと同じ状態で照度測定するという意義がある。尚、照度計6の取付については、照度計6を保持するホルダーを用いてステージ2の側面21に固定する構造を採用し得る。
As the
図3に示すように、実施形態の光照射装置は、装置の各部を制御するコントローラ7を備えている。コントローラ7は、搬送機構3の動作を制御する他、光源11の点灯電源11も制御している。図3に示すように、照度計6はコントローラ7に接続されており、照度計6の測定信号は、コントローラ7に入力される。
コントローラ7には、照度計6の出力値をもとに積算光量を算出する光量算出手段71が実装されている。光量算出手段71は、コントローラ7が備えるシーケンスプログラムの一部(ソフトウェア)であるが、ハードウェア的に実現される場合もある。光量算出手段71は、一回の処理(ステージ2の一回の往復動)のたびに照度計6の測定値に従って積算光量を算出し、コントローラ7が備える記憶部(メモリ等)72に記憶するよう構成されている。装置は、記憶部72に記憶されたデータを表示する不図示のディスプレイを備えており、積算光量のデータは履歴データとして適宜ディスプレイに表示され得る。
As shown in FIG. 3, the light irradiation apparatus of the embodiment includes a
The
一方、照度計6とは別に、装置は、光測定ユニット8を備えている。光測定ユニット8は、通常の処理の際には、照射領域から離れたスタンバイ位置にあり、メンテナンス等の際に照射領域に配置されて使用される。光測定ユニット8は、照射領域における照度に加え、照射される偏光光の偏光軸の向きを測定する機能も有している。
図1に示すように、光測定ユニット8は、搬送機構3上に搭載されており、通常は、X方向の一方の側の端部に設定されたスタンバイ位置に待機している。スタンバイ位置は、例えばロード位置の外側(照射領域から遠い側)に設定されている。
On the other hand, apart from the
As shown in FIG. 1, the
光測定ユニット8は、リニアガイド31及び固定子32の上に搭載されたX方向移動台81と、X方向移動台81上に搭載されたY方向移動機構82及びY方向移動台83と、Y方向移動台83の上に固定されたマスター照度計84と、同じくY方向移動台83の上に固定された偏光測定器85等から構成されている。
Y方向移動機構82は、同様にY方向移動台83をY方向に移動させる機構であり、リニアモータ方式のものでもよいし、ボールねじを利用したものでもよい。
The
Similarly, the Y-
マスター照度計84は、同様にSiフォトダイオード等の光電変換素子を受光素子として内蔵している。受光面の高さは、ステージ2に設けられた照度計6と同様、ステージ2に保持されたワークWの表面と同じ高さである。
偏光測定器85は、照射領域に照射される偏光光の向きを監視するための測定器である。偏光測定器は、受光素子と、受光素子の入射側に配置された検光子と、検光子を光軸(この例では上下方向)の周りに回転させる回転機構等を備えた測定器である。検光子は、一種の偏光素子であり、ある特定の方向の直線偏光光を選択的に通過させる板以上の光学部品である。
検光子は、板面が光軸に垂直に配置され、回転方向により回転させられる。照射領域には、光照射器1内の偏光素子14により偏光された偏光光が照射されている。この偏光光の偏光軸の向きをチェックする場合、照射領域内に偏光測定器85を位置させ、検光子を回転させる。検光子の回転により、受光素子の出力は周期的に変化する。出力が最も高くなった際の回転角度は、照射されている偏光光の偏光軸の向きを示している。
Similarly, the
The
The analyzer has a plate surface arranged perpendicular to the optical axis and is rotated in the rotation direction. The irradiated region is irradiated with polarized light polarized by the
上述した構成を有する実施形態の光照射装置の動作について、以下に説明する。
AGV(Auto Guided Vehicle)のようなロット搬送機構、又はエアコンベアのような枚葉搬送機構により不図示のロボットの動作範囲内の位置まで搬送される。光照射器1は、予め光源11を点灯させており、照射領域に光照射がされている。動作の初期状態では、ステージ2はロード位置にあり、不図示のロボットにより一枚のワークWがステージ2に載置される。そして、不図示のアライメント機構が動作し、基準方向(例えばX方向)に対してワークWが所定の姿勢となるようにする。また、補助移動機構4が必要に応じて動作し、ワークWをY方向の所定に位置に位置させる。
The operation of the light irradiation apparatus according to the embodiment having the above-described configuration will be described below.
It is transported to a position within the operating range of a robot (not shown) by a lot transport mechanism such as AGV (Auto Guided Vehicle) or a single wafer transport mechanism such as an air conditioner bearer. In the
この状態で搬送機構3が動作し、ステージ2をX方向に移動させて、照射領域を通過させる。この結果、ワークWに光照射される。この実施形態では、光は偏光素子14によって偏光光となっており、所定の向きに偏光した光が照射される。
搬送機構3は、ステージ2上のワークWが照射領域を完全に通過した後、所定の反転位置で反転させる。「完全に通過」とは、ワークWのX方向後方の縁が照射領域を通過し終えることを意味する。また、反転位置は、図2に示す照度分布において、照度が実質的にゼロである位置であり(照射領域外の位置)、ワークWのどの箇所においても照度がゼロとなる位置である。
搬送機構3は、ステージ2を反転位置で反転させた後、X方向に逆向きに移動させてロード位置まで戻す。この実施形態では、この復路においてもワークWに光(偏光光)が照射される。その後、不図示のロボットは、ロード位置に戻ったステージ2からワークWを取り去り、次のワークWをステージ2に載置する。
In this state, the
The
The
尚、この実施形態では、θ方向の回転は、偏光素子14の姿勢(照射される偏光光の偏光軸の向き)に対してワークWを所定の姿勢にするものであるため、ロット(品種)により異なるものとされることがある。この場合、あるロットの処理が終了した後、コントローラ7における設定情報が変更される。この結果、次のロットの各ワークWについては、θ移動機構5が適宜動作し、異なる回転角度とされた状態で搬送されて偏光光が照射される。
In this embodiment, since the rotation in the θ direction is to place the workpiece W in a predetermined posture with respect to the posture of the polarizing element 14 (the direction of the polarization axis of the polarized light to be irradiated), the lot (product type). May vary. In this case, after the processing of a certain lot is completed, the setting information in the
このような動作において、照度計6は、ステージ2と一体に移動し、照射領域を通過する。このため、照度計6は、ステージ2上のワークWと同様に光照射を受け、測定値がコントローラ7に出力される。コントローラ7に実装された光量算出手段71は、照度計6の出力値を積分して積算光量を算出する。光量算出手段71は、一回の処理(ステージ2の一回の往復動)のたびに照度計6の測定値に従って積算光量を算出し、コントローラ7が備える記憶部(メモリ等)72に記憶する。
そして、装置の動作を監視する作業者は、定期的に記憶部72の履歴データをディスプレイに表示し、積算光量が規定の範囲内かチェックする。積算光量が規定値を下回っていたら、光量不足と判断し、光源11の交換等の適宜の処置を実施する。
In such an operation, the
Then, an operator who monitors the operation of the apparatus periodically displays the history data in the
上記動作に係る実施形態の光照射装置では、ワークWへの照射光量を監視するための照度計6がステージ2の側面に取り付けられているため、ワークWにより近い条件で照度測定が行われる。このため、光源11の劣化等が誤って判断されてしまうことがない。また、この実施形態では、照度計6は、照射領域を通過する位置に取り付けられているので、この点でさらにワークWに近い条件で照度測定が行われる。このため、誤った判断の可能性がさらに低くなっている。
さらに、照射領域に照度計6を配置するための機構や照射領域を通過するよう移動させる機構を別途設ける必要はないので、機構的に簡略化される。また、ワークWの排出の時間帯において照度を測定する必要はないので、生産性に影響を与えてしまうこともない。
In the light irradiation apparatus according to the embodiment related to the above operation, the
Furthermore, there is no need to separately provide a mechanism for disposing the
上記装置の動作において、光測定ユニット8は、ある程度の回数の処理を繰り返した後の装置のメンテナンスの際に使用される。即ち、ステージ2を反対側に退避させた状態で、X方向移動台81をX方向に移動させ、光測定ユニット8のうちの例えば偏光測定器85を照射領域内に配置して偏光光を測定する。そして、測定結果から、偏光光の偏光軸の向きが所望の方向に向いているか確認する。
In the operation of the apparatus, the
また、マスター照度計84は、照度計6の性能チェック等に使用される。即ち、照度計6と同じY方向位置にマスター照度計84配置した上でX方向に設定通過速度で通過させながら照度を測定し、光量を算出して照度計6による光量との差異をチェックする。差異が大きければ、照度計6の較正を行う。つまり、マスター照度計84は、各照度計6の較正用として使用され得る。照度計6は、照射領域を頻繁に通過して光照射を受けるため、特性が変化し易い。このため、マスター照度計84を使用して適宜較正が行われる。
The
次に、第二乃至第四の各実施形態について説明する。図4は、第二乃至第四の各実施形態の主要部について示した平面概略図である。第二乃至第四の各実施形態では、取り付けられる照度計6の数及び取付位置が第一の実施形態と異なっている。
即ち、図4(1)に示す第二の実施形態では、平面視で方形のステージ2において一つの角部を挟んで隣り合う二つの側面のそれぞれに照度計6が取り付けられている。また、図4(2)に示す第三の実施形態では、平面視で方形のステージ2の四つの側面のそれぞれに照度計6が取り付けられている。
Next, the second to fourth embodiments will be described. FIG. 4 is a schematic plan view showing the main part of each of the second to fourth embodiments. In each of the second to fourth embodiments, the number of
That is, in the second embodiment shown in FIG. 4A, the
図4(3)に示す第四の実施形態では、第三の実施形態と同様に四つの側面に照度計6が取り付けられているが、向かい合う二つの辺に位置する側面に取り付けられた照度計6の位置が第三の実施形態と異なっている。即ち、第三の実施形態では、向かい合う二つの辺に位置する各照度計6は、当該辺の延びる方向における位置が同じである。例えば、ステージ2の各辺が前述したX方向、Y方向に沿っているとすると、図4(2)に示すように、第三の実施形態では、Y方向に沿った辺に位置する二つの照度計6は、Y方向で見た際に同じ位置に位置する。一方、図4(3)に示す第四の実施形態では、Y方向に沿った辺に位置する二つの照度計6は、Y方向において互いにずれた位置に位置している。
In the fourth embodiment shown in FIG. 4 (3), the
これら第二乃至第四の実施形態の光照射装置は、第一の実施形態と比較すると、Y方向即ち照射領域の長さ方向において複数の箇所で照度が測定できるという意義、即ち照度分布が測定できるという意義を有する。この意義は、各照度計6がステージ2と一体に移動して照射領域を通過するものであるため、Y方向の異なる複数の位置における照射光量、即ち照射光量分布の測定が可能であるという意義をもたらすことになる。
Compared with the first embodiment, the light irradiation devices of the second to fourth embodiments can measure illuminance at a plurality of locations in the Y direction, that is, the length direction of the irradiation region, that is, the illuminance distribution is measured. It has the meaning of being able to do it. This significance means that each
照度分布測定の意義や照射光量分布測定の意義について、より詳しく説明する。
前述したように、Y方向というのは、ある方向に長い照射領域の当該長さ方向であり、光源11やミラー12は、当該方向において十分に均一に光照射するよう形状や配置が選定される。Y方向での照度が不均一になると、それはそのままY方向での照射光量の不均一化に直結するため、問題となり得る。通常、Y方向での照度均一性についても、±何%というように予め仕様が決められており、その範囲に入っていることが確認された状態で装置の稼働が開始される。
The significance of the illuminance distribution measurement and the significance of the irradiation light amount distribution measurement will be described in more detail.
As described above, the Y direction is the length direction of an irradiation region that is long in a certain direction, and the shape and arrangement of the
しかしながら、何らかの要因で、Y方向の照度分布は不均一になり得る。前述した棒状の放電ランプを使用した場合の端部の黒化も一つの要因である。また、Y方向で複数の光源が配置されている場合、いずれかの光源での出力低下もY方向の照度分布の不均一化の原因となる。Y方向の照度分布が不均一になると、ワークWが受ける照射光量の不均一化に直結するから、その不均一化が許容範囲内かどうかを監視する必要がある。この監視のためには、Y方向の少なくとも二カ所で照度を測定することが必要になる。上述した第二乃至第四の実施形態の光照射装置は、よりワークWに近い状態で光量監視ができるのに加え、このように照度分布不均一化を監視することができるという意義を有する。 However, for some reason, the illuminance distribution in the Y direction can be non-uniform. The blackening of the end when using the rod-shaped discharge lamp described above is also one factor. In addition, when a plurality of light sources are arranged in the Y direction, a decrease in output from any one of the light sources also causes unevenness in the illuminance distribution in the Y direction. If the illuminance distribution in the Y direction becomes non-uniform, it directly leads to non-uniformity in the amount of irradiation light received by the workpiece W, so it is necessary to monitor whether the non-uniformity is within an allowable range. For this monitoring, it is necessary to measure the illuminance at at least two locations in the Y direction. The light irradiation apparatuses according to the second to fourth embodiments described above have the significance that in addition to being able to monitor the light amount in a state closer to the workpiece W, it is possible to monitor the uneven illuminance distribution in this way.
このようなY方向照度分布の測定は、補助移動機構4やθ移動機構5を適宜使用することでさらにその意義が高められる。この点について、一例として第四の実施形態を採り上げて説明する。図5は、第四の実施形態において測定箇所を多くする例について示した平面概略図である。
実施形態の装置では、前述したように往路と復路とでワークWに対する光照射が行われる。この際、往路と復路とでY方向で異なった位置で光照射がされるよう、反転位置で補助移動機構4を動作させる。即ち、反転位置においてステージ2を少しY方向にシフトさせる。シフト量は、隣り合う照度計6のY方向で見た離間間隔未満の距離(例えば半分)である。そして、シフトした位置で復路の搬送を行う。このようにすると、Y方向での照射光量の測定位置は倍増し、この例では八カ所となる。つまり、八カ所で照射光量分布の監視を行いながらワークWの処理をすることが可能になる。説明は省略するが、第二の実施形態や第三の実施形態においても、補助移動機構4を使用することで測定箇所を倍増させることができる点は同様である。
Such measurement of the illuminance distribution in the Y direction can be further enhanced by appropriately using the
In the apparatus according to the embodiment, as described above, light irradiation is performed on the workpiece W in the forward path and the return path. At this time, the
このように異なる箇所で照射光量分布を測定することは、θ移動機構5を使用しても行える。この点について、第三の実施形態を例にして説明する。図6は、第三の実施形態において異なる箇所で照射光量分布を測定する例について示した平面概略図である。
図6には、第三の実施形態において基準方向(X方向)からαだけステージ2を回転させた状態でワークWを搬送する状態が示されている。あるワークWについては、ステージ2の一辺がX方向に向いた状態としてワークWを搬送しながら処理し、別のワークWについてはαだけ回転させた状態でワークWを搬送しながら処理する場合を想定する。この場合、θ=0°の場合には、Y方向の測定箇所は実質的に3カ所であるが、αだけ回転させると、測定箇所は4カ所となる。θ=0°とθ=αとでは、照射光量測定箇所はそれぞれ異なるから、θ=0°での測定結果とθ=αでの測定結果を合わせると、合計で7カ所で照射光量分布ができることになる。このように、θ移動機構5を使用することで異なる箇所で照射光量分布を測定したり、測定箇所を増やしたりすることができる。説明は省略するが、この点は、第二の実施形態や第四の実施形態でも同様である。
Thus, the irradiation light amount distribution can be measured at different locations using the
FIG. 6 shows a state in which the workpiece W is conveyed in a state where the
尚、第三の実施形態では、ステージ2の一辺がX方向に沿った姿勢となった際、Y方向に沿った辺に位置する一対の照度計6は、Y方向で同じ位置に位置する。従って、ステージ2の一辺がX方向に沿った姿勢(θ=0°)の場合、測定箇所は3カ所となる。つまり、Y方向に沿った辺に二つの照度計6を設置するのは無駄ともいえる。しかしながら、使い方によっては、生産性を高くすることに貢献できる。この点について、図7を使用して説明する。図7は、第三の実施形態において生産性を高めるための構成について示した平面概略図である。
In the third embodiment, when one side of the
図7において、Y方向に沿った辺に位置する二つの照度計61,62のうち、紙面上、左側に位置するものを第一照度計61、右側に位置するものを第二照度計62とする。ステージ2は、往路においてX方向を左から右に進み、復路において右から左に進むものとする。この場合、往路では第二照度計62の測定データを積算して積算光量とし、復路では第一照度計61のデータを積算して積算光量とし、両者を合算して当該Y方向位置での全体の積算光量のデータとすることができる。このようにすると、往路においては、ワークWのX方向後方の縁(この例では左側の縁)が照射領域を過ぎた段階で速度を速めて反転位置に到達させることができる。ワークWが照射領域を通過させる速度は、必要な照射光量との関係で遅い所定の速度とされるが、第二照度計62が照射領域を過ぎた後は速度を速めることができる。また、復路において、ワークWのX方向後方の縁(この例では右側の縁)が照射領域を過ぎた後は、速度を速めてロード位置に到達させることができる。このようにすると、タクトタイムが短くなり、生産性が向上する。このような動作が行われるよう、コントローラ7に実装されるシーケンスプログラムがプログラミングされる。
In FIG. 7, of the two
照度計6の取付に関しては、上記第一乃至第四の実施形態以外のものもあり得る。この点について図8を使用して説明する。図8は、他の実施形態における照度計6の取付構造を示した平面概略図である。
まず、図8(1)には、X方向に沿ったステージ2の向かい合う二辺に位置する側面にそれぞれに照度計6が取り付けられている。この場合も、Y方向での照度分布や照射光量分布の測定ができ、特に、棒状の光源11の両方の端部における黒化等に起因した照度低下を監視することができる。
Regarding the attachment of the
First, in FIG. 8A, the
また、図8(2)には、Y方向に沿ったステージ2の一辺に位置する側面に複数の照度計6が取り付けられている。この場合も、Y方向での照度分布や照射光量分布の測定ができる。そして、補助移動機構4やθ移動機構5を適宜使用することで、測定位置を適宜変更することが可能である。
また、図8(3)には、X方向に沿ったステージ2の一辺に位置する側面に複数の照度計6が取り付けられた例が示されている。この場合、当該辺がX方向に沿ったままで固定であると、第一の実施形態と実質的に同じで複数とする意義はないが、図8(3)に破線で示すようにθ方向に回転させる機構を備えていれば、Y方向の複数箇所での照射光量測定が行えることになる。
In FIG. 8B, a plurality of
Further, FIG. 8 (3) shows an example in which a plurality of
また、図8(4)には、ステージ2内に照度計6が取り付けられた例が示されている。ステージ2は、照度計6を取り付けるための凹部を有し、この凹部の落とし込まれた状態で照度計6が取り付けられる。同様に、照度計6の受光面は、ステージ2上に載置されるワークWの上面と同一の高さとされることが好ましい。尚、図8(4)に示す例では、ステージ2内ではあるものの、照度計6は平面視でワークWの載置位置の外側とされる。即ち、ステージ2にワークWが載置された際、光照射器1からの光についてワークWは照度計6を遮らない状態であり、照度計6はワークWを遮らない状態とされる。この場合、同様にY方向において複数の照度計6を設けると照射光量分布が測定できるので、より好適である。また、ステージ2内の照度計6の配置位置が、照射領域を通過する位置であると、よりワークWに近い状態で照度が測定されるので好適である。
この他、ステージ2から離間した位置に照度計6が位置していても、「ステージに取り付けられている」といえる場合もあり得る。例えば、アームの一端のステージ2の側面に固定し、他端に照度計6を固定してアームに保持させる構造でも、当該照度計6はステージ2に取り付けられているといえる。
尚、照度計6は、分光放射照度を測定する測定器(分光器)であり得る。
FIG. 8 (4) shows an example in which the
In addition, even if the
The
上記各実施形態では、ステージ2は平面視の輪郭形状が方形であったが、本願発明の実施に際しては方形に限定される必要はない。三角形や五角形、円形などであっても良い。円形の場合、円の中心に対して180°間隔で二つの照度計6を側面に取り付けたり、90°間隔で四つの照度計6を取り付けたりする構成が想定される。
尚、上記各実施形態の光照射装置は、光配向用偏光光照射装置であったが、本願発明は、他の光照射装置としても構成することができる。例えば、光硬化性樹脂の硬化等の光処理のためにワークWに光を照射する装置として構成することができる。また、製品の外観検査や各種分析のような光処理以外の用途のために光照射する装置として構成することもできる。
In each of the embodiments described above, the
In addition, although the light irradiation apparatus of said each embodiment was a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment, this invention can also be comprised as another light irradiation apparatus. For example, it can be configured as a device that irradiates light to the workpiece W for light processing such as curing of a photocurable resin. Moreover, it can also be comprised as an apparatus which irradiates light for uses other than optical processing like the external appearance inspection of a product, and various analysis.
上述した各実施形態において、特開2014−174352号公報開示されているように、二つのステージを照射領域を挟んでX方向の両側にそれぞれステージを配置し、各々ワークWを保持させて交互に照射領域を通過させることで各ワークWに光照射する構成を採用することもできる。この場合、照度計については片方のステージのみに取り付けても良いし、両方に取り付けても良い。両方に取り付ける場合、一方のステージに取り付けた照度計とY方向位置と、他方のステージに取り付けた照度計のY方向位置とを互いに異なるものにすると、前述したのと同様に照度ないし光量の分布を取得することができるので、好適である。 In each embodiment described above, as disclosed in JP 2014-174352 A, two stages are arranged on both sides in the X direction across the irradiation region, and the work W is held and held alternately. It is also possible to employ a configuration in which each workpiece W is irradiated with light by passing through the irradiation region. In this case, the illuminance meter may be attached to only one stage or both. When both are mounted, if the illuminance meter attached to one stage and the Y-direction position are different from the Y-direction position of the illuminance meter attached to the other stage, the illuminance or light quantity distribution is the same as described above. Is preferable.
尚、照射領域ないし照射領域は、Y方向が長尺方向である長方形としたが、これは必須の条件ではなく、X方向(搬送方向)が長尺方向である長方形でも良く、正方形であっても良い。
補助移動機構4は、照度計6をY方向の任意の位置に配置する意義があるが、このためには、補助移動機構4による移動の方向はX方向に交差する方向であれば足り、必ずしもY方向(X方向に直角な方向)である必要はない。
In addition, although the irradiation area | region thru | or the irradiation area was made into the rectangle whose Y direction is a elongate direction, this is not an essential condition, The rectangle whose X direction (conveyance direction) is a elongate direction may be sufficient, and it is square. Also good.
The
また、光源については、棒状の光源11をY方向に沿って配置する例を説明したが、これは長尺な発光部をY方向に沿って配置する例である。この他、点光源を一直線状に並べて棒状の光源(線状の発光部)と等価なものとする場合もある。さらに、棒状の光源をX方向に沿って配置した場合でも、そのような光源がY方向に多数並べられていれば、Y方向では点光源が並んでいるとみなせるので、同様に作用させることができる。
Moreover, about the light source, although the example which arrange | positions the rod-shaped
1 光照射器
2 ステージ
3 搬送機構
4 補助移動機構
5 θ移動機構
6 照度計
7 コントローラ
71 光量算出手段
DESCRIPTION OF
Claims (10)
ステージの側面には、光照射器からの光による照度を測定する照度計が取り付けられていることを特徴とする光照射装置。 A light irradiator that irradiates light to the irradiation area, a stage on which the object is held on the upper side, and a conveyance mechanism that conveys the object by moving the stage along a conveyance path set in a state of passing through the irradiation area A light irradiation device comprising:
An illuminometer for measuring illuminance by light from a light irradiator is attached to a side surface of the stage.
ステージには光照射器からの光による照度を測定する照度計が取り付けられており、照度計の取り付け位置は、光照射器からの光を対象物に対して遮蔽せず且つ対象物によって遮蔽されない位置であることを特徴とする光照射装置。 A light irradiator that irradiates light to the irradiation area, a stage on which the object is held on the upper side, and a conveyance mechanism that conveys the object by moving the stage along a conveyance path set in a state of passing through the irradiation area A light irradiation device comprising:
The stage is equipped with an illuminometer that measures the illuminance by the light from the light illuminator, and the illuminometer mounting position does not shield the light from the light irradiator from the object and is not shielded by the object A light irradiation device characterized by being a position.
前記照度計は、角部を挟んで隣り合う二つの側面のそれぞれに取り付けられていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。 The contour shape of the stage in plan view has at least one corner,
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the illuminance meter is attached to each of two side surfaces adjacent to each other with a corner portion interposed therebetween.
前記照度計は、各側面に少なくとも一つ取り付けられていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。 The outline shape of the stage in plan view is a square,
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein at least one illuminance meter is attached to each side surface.
前記照度計は、向かい合う辺に位置する側面のそれぞれに取り付けられているとともに、各照度計は、前記搬送路の方向に延びる同一直線上には位置していないか又は前記ステージを上下方向を軸として回転させて姿勢を変化させるθ機構が設けられていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。 The contour shape of the stage in plan view is a shape having two sides facing each other,
The illuminance meter is attached to each of the side surfaces located on opposite sides, and each illuminance meter is not positioned on the same straight line extending in the direction of the transport path, or the stage is pivoted in the vertical direction. The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising: a θ mechanism that is rotated to change a posture.
10. The light according to claim 1, further comprising: a light amount calculation unit that calculates the integrated light amount by integrating the measurement values of the illuminometer; and a storage unit that stores the calculated light amount. Irradiation device.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200575A JP6597149B2 (en) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | Light irradiation device |
CN201610867790.2A CN107102480B (en) | 2015-10-08 | 2016-09-29 | Light irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200575A JP6597149B2 (en) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | Light irradiation device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017072769A true JP2017072769A (en) | 2017-04-13 |
JP6597149B2 JP6597149B2 (en) | 2019-10-30 |
Family
ID=58537758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015200575A Active JP6597149B2 (en) | 2015-10-08 | 2015-10-08 | Light irradiation device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6597149B2 (en) |
CN (1) | CN107102480B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108844625A (en) * | 2018-07-11 | 2018-11-20 | 商洛市虎之翼科技有限公司 | A kind of auxiliary device of luminance detection |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110057549B (en) * | 2019-04-08 | 2021-06-01 | Tcl华星光电技术有限公司 | Light source illumination detection method and system |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002043268A (en) * | 2000-07-25 | 2002-02-08 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus |
JP2008049256A (en) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | Light irradiation device |
JP2013064897A (en) * | 2011-09-19 | 2013-04-11 | Hitachi High-Technologies Corp | Proximity exposure device, exposure amount adjustment method of proximity exposure device, and manufacturing method of display panel substrate |
WO2013157113A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 信越エンジニアリング株式会社 | Photo-orienting illumination device |
JP2014013277A (en) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | V Technology Co Ltd | Exposure equipment |
JP2014174287A (en) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | V Technology Co Ltd | Scanning exposure device and scanning exposure method |
JP2015022068A (en) * | 2013-07-17 | 2015-02-02 | ウシオ電機株式会社 | Device and method for irradiating polarized light for optical alignment |
WO2015040664A1 (en) * | 2013-09-17 | 2015-03-26 | 信越エンジニアリング株式会社 | Photo-alignment irradiation device and method for adjusting aperture of photo-alignment irradiation device |
US20150227056A1 (en) * | 2014-02-13 | 2015-08-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Exposure apparatus and exposure method using the same |
JP2017015887A (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | アイグラフィックス株式会社 | Optical alignment irradiation device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4622409B2 (en) * | 2004-09-16 | 2011-02-02 | ウシオ電機株式会社 | Photo-alignment method |
WO2006052370A2 (en) * | 2004-11-03 | 2006-05-18 | Applied Materials, Inc. | Diamond like carbon films |
-
2015
- 2015-10-08 JP JP2015200575A patent/JP6597149B2/en active Active
-
2016
- 2016-09-29 CN CN201610867790.2A patent/CN107102480B/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002043268A (en) * | 2000-07-25 | 2002-02-08 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus |
JP2008049256A (en) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Seiko Epson Corp | Light irradiation device |
JP2013064897A (en) * | 2011-09-19 | 2013-04-11 | Hitachi High-Technologies Corp | Proximity exposure device, exposure amount adjustment method of proximity exposure device, and manufacturing method of display panel substrate |
WO2013157113A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 信越エンジニアリング株式会社 | Photo-orienting illumination device |
JP2014013277A (en) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | V Technology Co Ltd | Exposure equipment |
JP2014174287A (en) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | V Technology Co Ltd | Scanning exposure device and scanning exposure method |
JP2015022068A (en) * | 2013-07-17 | 2015-02-02 | ウシオ電機株式会社 | Device and method for irradiating polarized light for optical alignment |
WO2015040664A1 (en) * | 2013-09-17 | 2015-03-26 | 信越エンジニアリング株式会社 | Photo-alignment irradiation device and method for adjusting aperture of photo-alignment irradiation device |
US20150227056A1 (en) * | 2014-02-13 | 2015-08-13 | Samsung Display Co., Ltd. | Exposure apparatus and exposure method using the same |
JP2017015887A (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | アイグラフィックス株式会社 | Optical alignment irradiation device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108844625A (en) * | 2018-07-11 | 2018-11-20 | 商洛市虎之翼科技有限公司 | A kind of auxiliary device of luminance detection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6597149B2 (en) | 2019-10-30 |
CN107102480B (en) | 2021-05-04 |
CN107102480A (en) | 2017-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6601128B2 (en) | Light irradiation apparatus and light irradiation method | |
US7463418B2 (en) | Polarization element unit and polarization light emitting apparatus | |
JP6206997B2 (en) | Light irradiation apparatus for exposure apparatus and lighting control method thereof | |
US9354472B2 (en) | Polarized light irradiating apparatus and method of irradiating polarized light for photo alignment | |
JP6119035B2 (en) | Exposure equipment | |
JP5177266B2 (en) | Polarizing element unit, light irradiation device using the polarizing element unit, and transmittance setting method of polarizing element unit | |
TW201510494A (en) | Polarized light irradiation device for light alignment and method for irradiating polarized light for light alignment | |
US9638603B2 (en) | Inspecting device, drawing device and inspecting method | |
US9791783B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method using the same | |
JP6597149B2 (en) | Light irradiation device | |
CN107561784B (en) | Optical alignment control method and optical alignment equipment | |
TWI613460B (en) | Polarized light irradiation device | |
KR101443431B1 (en) | Light irradiation device for exposure device, control method of light irradiation device, exposure device, and exposure method | |
KR102064875B1 (en) | Apparatus for irradiating ultraviolet rays | |
JP5598789B2 (en) | Light irradiation apparatus for exposure apparatus and exposure apparatus | |
TWI802626B (en) | Ultraviolet curing apparatus | |
KR20160146502A (en) | Polarized light illuminating apparatus for photo-alignment | |
JP5935294B2 (en) | Proximity exposure apparatus and proximity exposure method | |
JP6609998B2 (en) | Light irradiation apparatus and light irradiation method | |
TWI666428B (en) | Polarized light measuring device and polarized light irradiation device | |
JP6613949B2 (en) | Polarizing element unit and polarized light irradiation device | |
KR20150090935A (en) | apparatus for forming photo alignment film | |
KR20200135667A (en) | Display Glass alignment device for non-contact type |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190916 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6597149 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |