JP2017068887A - 塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法、および塗布型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物であって、金属酸化物粒子の分散性に優れ、かつ磁性層表面と磁気ヘッドとの摺動による磁性層の表面状態の変化が抑制された塗布型磁気記録媒体の製造を可能にする金属酸化物粒子分散物を提供すること。【解決手段】金属酸化物粒子、溶媒、ならびに、カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有するポリエステル化合物を含み、ただし強磁性粉末を実質的に含まない、塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法。塗布型磁気記録媒体の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法、および塗布型磁気記録媒体の製造方法に関する。

磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に強磁性粉末と結合剤を溶媒に分散させた磁性層形成用組成物を塗布することで作製された磁性層を有する塗布型磁気記録媒体と、非磁性支持体上に強磁性粉末を被着製膜する金属薄膜型の磁気記録媒体があるが、生産性や汎用性の点で、塗布型磁気記録媒体が優れることが知られている。以下、特記しない限り、磁気記録媒体とは、塗布型磁気記録媒体をいうものとする。

塗布型磁気記録媒体においては、磁性層成分として、非磁性粒子の一種である金属酸化物粒子が用いられることが多い（例えば特許文献１参照）。金属酸化物粒子が磁性層表面から適度に突出することにより、磁気ヘッドに付着した異物（ヘッド汚れ）を除去する研磨性を磁性層表面に付与したり、磁性層表面と磁気ヘッドとが摺動（接触）する際の摩擦係数を低減し走行安定性を向上することができるからである。

特開２０１３−１３１２８５号公報

磁性層表面への研磨性の付与や摩擦係数低減のために用いられる金属酸化物粒子が磁性層に粗大な凝集物の状態で存在すると、磁性層表面が粗くなり、磁気記録媒体に記録された信号を再生する際の信号抜けや磁気ヘッドの摩耗等を引き起こす可能性がある。したがって、磁性層における金属酸化物粒子の凝集を抑制することが望ましい。

近年、磁性層における金属酸化物粒子の凝集抑制のために、強磁性粉末とは別に金属酸化物粒子を溶媒と混合し分散させて調製した金属酸化物粒子分散物を、強磁性粉末を溶媒と混合し分散させた分散物（「磁性液」と呼ばれる。）と混合して磁性層形成用組成物を調製すること（いわゆる別分散）が提案されている。例えば特許文献１には、そのような金属酸化物粒子分散物の一例として、アルミナ分散物が開示されている。特許文献１には、このアルミナ分散物がフェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物を含有することにより、分散物中のアルミナの分散性が向上すると記載されている。

金属酸化物粒子分散物における金属酸化物粒子の分散性を向上することは、この分散物を磁性液と混合して調製した磁性層形成用組成物を用いて形成される磁性層における金属酸化物粒子の凝集抑制につながるため好ましい。金属酸化物粒子の凝集を抑制することにより、磁性層表面の平滑性を高めることができるが、本発明者らは、更に優れた性能を発揮することができる磁気記録媒体を提供するためには、走行を繰り返すうちに磁性層の表面状態が変化することを抑制することが望ましいと考えるに至った。磁性層の表面状態の変化を抑制できれば、走行を繰り返しても、磁性層表面の研磨性を良好に維持してヘッド汚れを除去することができ、かつ良好な走行安定性（低摩擦係数）を維持することができるからである。

そこで本発明の目的は、塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物であって、金属酸化物粒子の分散性に優れ、かつ磁性層表面と磁気ヘッドとの摺動による磁性層の表面状態の変化が抑制された塗布型磁気記録媒体の製造を可能にする金属酸化物粒子分散物を提供することにある。

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、
金属酸化物粒子、
溶媒、ならびに
カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有するポリエステル化合物、
を含み、ただし強磁性粉末を実質的に含まない、塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物（以下、単に「金属酸化物粒子分散物」または「分散物」ともいう。）、
を見出すに至った。詳しくは、上記分散物中で金属酸化物粒子は良好に分散することができ、かつこの分散物を強磁性粉末と混合して作製した磁性層形成用組成物を用いて形成された磁性層を有する磁気記録媒体は、繰り返し走行中も磁性層の表面状態の変化（具体的には磁性層表面粗さや摩擦係数の変化）の抑制が可能であることが、本発明者らの鋭意検討の結果、新たに見出された。この点に関する本発明者らによる推察は、後述する。

本発明および本明細書において、上記分散物が「強磁性粉末を実質的に含まない」とは、上記分散物の構成成分として添加しないことを意味するものであって、意図せず混入した不純物として微量の強磁性粉末が存在することは許容されるものとする。例えば、通常の磁性層形成用組成物では、金属酸化物粒子よりも強磁性粉末が多く含まれるが、上記分散物は、そのような磁性層形成用組成物ではない。上記分散物は、強磁性粉末と混合することにより、磁性層形成用組成物の調製に使用することができるものである。

本発明および本明細書において、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ）の塩とは、−ＣＯＯ⁻Ｍ^＋で表される塩である。リン酸基（−Ｐ＝Ｏ（ＯＨ）_２）の塩は、−Ｐ＝Ｏ（Ｏ⁻Ｍ^＋）_２で表される塩である。上記において、Ｍ^＋はアルカリ金属イオン等のカチオンを表す。以下において、「カルボキシ（塩）基」は、カルボキシ基とその塩とを包含する意味で用いるものとし、「リン酸（塩）基」も同様である。
また、「窒素置換アルキレン基」とは、アルキレン基の主鎖を構成する炭素原子の１つ以上が窒素原子に置換されている構造をいい、具体例としてはアルキレンイミンの開環により生成する後述の式Ａ、式Ｂで表される部分構造が挙げられる。

一態様では、上記ポリエステル化合物は、カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有する。

一態様では、上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１０００以上２００００以下である。本発明および本明細書において、重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ；Gel permeation chromatography）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量をいうものとする。具体的な測定条件の一例は、後述する。

一態様では、上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１０００以上１００００以下である。

一態様では、上記ポリエステル化合物は、窒素置換アルキレン基を有するポリエステル化合物を含み、かつ上記窒素置換アルキレン基はポリアルキレンイミン化合物である。ポリアルキレンイミン化合物とは、アルキレンイミンが開環して生成した部分構造を１分子中に２つ以上有する化合物である。かかるポリアルキレンイミン化合物は、上記ポリエステル化合物でもある。以下において、ポリエステル化合物であり、かつポリアルキレンイミン化合物でもある化合物を、ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物という。詳細は後述する。

一態様では、上記ポリエステル化合物は、下記一般式（１）で表されるポリエステル化合物を含む。

（一般式（１）中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ^１００−を表し、ＲおよびＲ^１００は、それぞれ独立に水素原子または一価の置換基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｚはカルボキシ基およびその塩からなる群から選ばれる基を少なくとも１つ有するｎ価の部分構造を表し、ｍは２以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表す。）

一態様では、一般式（１）中、Ｚは、カルボン酸無水物の反応残基を表す。なおカルボン酸無水物とは、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−で表される部分構造を有する化合物である。カルボン酸無水物では、上記部分構造が反応部位となって、一般式（１）中の−（（Ｃ＝Ｏ）−Ｌ−Ｏ）ｍ−の酸素原子とＺとが、カルボニル結合（−（Ｃ＝Ｏ）−）を介して結合するとともにカルボキシ（塩）基がもたらされる。こうして生成した部分構造が、カルボン酸無水物の反応残基である。上記カルボン酸無水物は、一態様では、テトラカルボン酸無水物である。詳細は後述する。

一態様では、上記金属酸化物粒子は、アルミナ粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子およびジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物粒子である。

一態様では、上記金属酸化物粒子の平均粒子サイズは、２５〜２００ｎｍの範囲である。

一態様では、上記溶媒は、有機溶媒を含む。

一態様では、上記溶媒は、ケトン溶媒を含む。

一態様では、上記分散物は、結合剤を更に含む。本発明および本明細書において、「結合剤」とは、一種以上の樹脂である。「樹脂」とは、同一または異なる２つ以上の繰り返し単位を有する重合体であって、単一重合体（ホモポリマー）であっても共重合体（コポリマー）であってもよい。結合剤の詳細は、後述する。

一態様では、結合剤は、ポリウレタン樹脂および塩化ビニル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の樹脂を含む。

一態様では、上記分散物は、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製に使用される。

一態様では、上記分散物は、上記ポリエステル化合物を、金属酸化物粒子１００．０質量部に対して１．０〜５０．０質量部含む。

本発明の更なる態様は、上記分散物を、強磁性粉末と混合することを含む、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法に関する。

本発明および本明細書において、「強磁性粉末」とは、複数の強磁性粒子の集合を意味するものとする。集合とは、これを構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤や添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。なお粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。以上の点は、非磁性粉末等の、本発明および本明細書における各種粉末についても同様とする。

一態様では、上記混合を、上記強磁性粉末、溶媒および結合剤を含む磁性液を、上記分散物と混合することによって行われる。

本発明の更なる態様は、上記製造方法によって磁性層形成用組成物を製造すること、および製造した磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布する工程を経て磁性層を形成すること、を含む塗布型磁気記録媒体の製造方法に関する。

本発明の更なる態様は、上記製造方法によって製造された塗布型磁気記録媒体に関する。かかる塗布型磁気記録媒体は、本発明者らにより新たに見出された上記の分散物を用いて形成された磁性層を有する磁気記録媒体であり、繰り返し走行中の磁性層の表面状態の変化の抑制が可能であるという、従来の磁気記録媒体にはない新規な特性および／または構成を有する磁気記録媒体である。

本発明の一態様によれば、金属酸化物粒子が良好に分散した金属酸化物粒子分散物を提供することができ、かつ、この分散物を用いて磁性層を形成することにより、走行中の磁性層表面と磁気ヘッドとの摺動による磁性層の表面状態の変化が抑制された磁気記録媒体を提供することができる。

［塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物］
本発明の一態様にかかる塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物は、金属酸化物粒子、溶媒、ならびに、カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有するポリエステル化合物を含む。ただし先に記載したように、上記分散剤は、強磁性粉末を実質的に含まない。
上記分散物は、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製のために好適に使用することができる。詳しくは、上記分散物を、強磁性粉末と混合して磁性層形成用組成物を調製することができる。詳細は後述する。

上記分散物に関して、本発明者らは次のように推察している。
上記分散物に含まれるポリエステル化合物は、カルボキシ（塩）基、リン酸（塩）基、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有する。上記の基は、極性を有する基（極性基）であって、金属酸化物粒子表面との親和性が高いと考えられる。そのため、上記の基は、溶媒中で金属酸化物粒子の表面に吸着する吸着部として機能することができると推察される。この吸着部によってポリエステル化合物が金属酸化物粒子の表面に吸着し、ポリエステル化合物の複数のエステル結合を含むポリマー鎖（以下、「ポリエステル鎖」という。）が粒子表面に広がり金属酸化物粒子同士が直接接触して凝集することを抑制することが、金属酸化物粒子の分散性向上に寄与すると、本発明者らは考えている。
また、繰り返し走行中の磁性層の表面状態の変化（具体的には磁性層表面粗さや摩擦係数の変化）は、走行中に磁性層表面と磁気ヘッドが摺動する際に、磁気ヘッドから受ける圧力によって、磁性層表面から適度に突出していた金属酸化物粒子が磁性層内部に押し込まれることが原因ではないかと、本発明者らは考えている。これに対し、上記分散物を用いて形成した磁性層では、金属酸化物粒子表面に吸着したポリエステル化合物のポリエステル鎖が、結合剤のポリマー鎖と絡まり合うと考えられ、これにより金属酸化物粒子が磁性層中で動き難くなるのではないかと、本発明者らは考えている。このことが、金属酸化物粒子が磁気ヘッドによって磁性層内部に押し込まれることを抑制することに寄与し、この結果、繰り返し走行中の磁性層の表面状態の変化（具体的には磁性層表面粗さや摩擦係数の変化）を抑制することにつながると本発明者らは推察している。
ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。

以下、上記分散物について、更に詳細に説明する。

＜金属酸化物粒子＞
金属酸化物粒子としては、アルミナ粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子およびジルコニア（酸化ジルコニウム）粒子、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステンを挙げることができ、アルミナ粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子およびジルコニア（酸化ジルコニウム）粒子が好ましい。なおアルミナ粒子を構成するアルミナは、α−アルミナ（好ましくはα化率５０％以上のαアルミナ）、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ等であることができる。

上記金属酸化物粒子の粒子サイズの指標としては、平均粒子サイズを用いることもできる。平均粒子サイズは、２５〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、６０〜１５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。

上記金属酸化物粒子の平均粒子サイズは、金属酸化物粒子の粉末（金属酸化物粉末）を透過型電子顕微鏡を用いて観察し、以下の方法により測定する値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、金属酸化物粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明および本明細書において、各種粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。

なお、粒子サイズ測定のために磁性層から試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚さまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚さまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

以上記載した金属酸化物粒子は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。

＜溶媒＞
上記分散物に含まれる溶媒は、特に限定されるものではないが、上記分散物に含まれるポリエステル化合物の溶解性の観点からは、有機溶媒が含まれることが好ましく、溶媒全量に対する有機溶媒の含有量が８０質量％以上または９０質量％以上であることが好ましく、１００質量％が有機溶媒であってもよい。溶媒は、一種のみ用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。二種以上の溶媒を用いる場合、上記含有量とは、二種以上の有機溶媒の合計に関していうものとする。なお本発明および本明細書において、ある成分は、一種のみ用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてよい。二種以上を組み合わせて用いる場合の含有量とは、これら成分の合計に関していうものとする。

有機溶媒としては、塗布型磁気記録媒体の製造に用いられる各種有機溶媒を挙げることができる。具体例としては、磁性液の調製に含まれる有機溶媒として後述する各種有機溶媒を挙げることができ、中でも、塗布型磁気記録媒体の製造に広く用いられているケトン溶媒が好ましい。ケトン溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。溶媒全量に対するケトン溶媒の含有量は、８５質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることが好ましい。また、溶媒全量に対するケトン溶媒の含有量は、例えば９８質量％以下であるが、１００質量％がケトン溶媒であってもよい。ケトン溶媒以外の有機溶媒の例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができ、これらの一種または二種以上を、ケトン溶媒に代えて、またはケトン溶媒とともに、溶媒として使用して上記分散物を調製することができる。

＜ポリエステル化合物＞
上記分散物は、金属酸化物粒子および溶媒を含み、カルボキシ（塩）基、リン酸（塩）基、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有するポリエステル化合物を更に含む。ポリエステル化合物は、ポリエスエル鎖（複数のエステル結合を含むポリマー鎖）を含む重合体であり、ポリエステル鎖とともに上記の基を含む。かかるポリエステル化合物が奏する作用に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。

上記ポリエステル化合物は、カルボキシ（塩）基、リン酸（塩）基、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有し、カルボキシ（塩）基、リン酸（塩）基および窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有することが好ましく、カルボキシ（塩）基および窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有することがより好ましい。

＜＜重量平均分子量＞＞
上記ポリエステル化合物は、上記の基とポリエステル鎖を有するものであればよく、重量平均分子量は限定されるものではない。上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、繰り返し走行中の金属酸化物粒子の磁性層内部への沈み込みをより効果的に抑制する観点からは、一般に磁性層に用いられる結合剤よりも小さいことが好ましいと、本発明者らは推察している。この点からは、上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１，０００以上２０，０００以下であることが好ましい。上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１２，０００以下であることがより好ましく、１０，０００以下であることがより好ましい。また、一般式（１）で表される化合物は、例えば１，０００以上であり、１，５００以上であることが好ましく、２，０００以上であることがより好ましい。なお、２種以上の構造異性体の混合物について重量平均分子量とは、この混合物に含まれる２種以上の構造異性体の重量平均分子量をいうものとする。

上記ポリエステル化合物の好ましい態様としては、以下に記載する一般式（１）で表される化合物およびポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物を挙げることができる。ただし上記ポリエステル化合物は、下記態様に限定されるものではない。

＜＜一般式（１）で表されるポリエステル化合物＞＞
上記ポリエステル化合物の具体的態様としては、一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。なお以下において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば炭素数１〜６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシ（塩）基等を挙げることができる。また、置換基を有する基について「炭素数」とは、置換基を含まない部分の炭素数を意味するものとする。

（一般式（１）中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ^１００−を表し、ＲおよびＲ^１００は、それぞれ独立に水素原子または一価の置換基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｚはカルボキシ基およびその塩からなる群から選ばれる基（カルボキシ（塩）基）を少なくとも１つ有するｎ価の部分構造を表し、ｍは２以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表す。）

なお一般式（１）中、Ｌはｍ×ｎ個含まれる。また、Ｒ、Ｘは、それぞれｎ個含まれる。Ｌが一般式（１）中に複数含まれる場合、複数のＬは同一であってもよく異なっていてもよい。この点は、Ｒ、Ｘについても同様である。

一般式（１）中、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ^１００−を表し、Ｒ^１００は水素原子または一価の置換基を表す。一価の置換基としては、上記の置換基を挙げることができ、好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはエチル基である。いっそう好ましくは、Ｒ^１００は、水素原子である。Ｘは、−Ｏ−を表すことが好ましい。

Ｒは、水素原子または一価の置換基を表す。Ｒは、一価の置換基を表すことが好ましい。Ｒで表される一価の置換基としては、例えば、直鎖または分岐のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、脂環基、非芳香族ヘテロ環基等の一価の基、および上記一価の基に二価の連結基が連結した構造等を挙げることができる。二価の連結基としては、例えば、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１０１−（Ｒ^１０１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す）、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、フェニレン基、および炭素数１〜３０のアルキレン基、炭素数２〜３０のアルケニレン基からなる群から選択される１つまたは２つ以上の組み合わせから構成される２価の連結基を挙げることができる。Ｒで表される一価の置換基の具体例としては、例えば下記構造や後述の実施例で用いられている一般式（１）で表される化合物のＲ部に含まれている構造が挙げられる。下記構造において、*はＸとの結合位置を表す。ただし本発明は、これら具体例に限定されるものではない。

一般式（１）中、Ｌは二価の連結基を表す。二価の連結基としては、直鎖、分岐または環構造であってもよいアルキレン基、直鎖、分岐または環構造であってもよいアルケニレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、アリーレン基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる１つまたは２つ以上の組み合わせから構成される二価の連結基を挙げることができる。より詳しくは、直鎖、分岐または環構造であってもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、直鎖、分岐または環構造であってもよい炭素数１〜６のアルケニレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、フェニレン基およびハロゲン原子から選ばれる１つまたは２つ以上の組み合わせから構成される二価の連結基を挙げることができる。上記の二価の連結基は、好ましくは、１〜１０個までの炭素原子、０〜１０個までの酸素原子、０〜１０個までのハロゲン原子、および１〜３０個までの水素原子から成り立つ二価の連結基である。具体例としては、アルキレン基および下記構造である。下記構造中、*は他の構造との結合位置を示す。ただし本発明は、下記具体例に限定されるものではない。

Ｌは、好ましくはアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１〜５の無置換アルキレン基である。

Ｚはカルボキシ基およびその塩からなる群から選ばれる基（カルボキシ（塩）基）を少なくとも１つ有するｎ価の部分構造を表す。

Ｚに含まれるカルボキシ（塩）基の数は、１つのＺあたり少なくとも１つであり、２つ以上であることが好ましく、２〜４つであることがより好ましい。

Ｚは、直鎖構造、分岐構造、環状構造の１つ以上を含むことができる。合成の容易性等の観点から、好ましくは、Ｚはカルボン酸無水物の反応残基である。例えば具体例としては、下記構造が挙げられる。下記構造中、*は他の構造との結合位置を示す。ただし本発明は、下記具体例に限定されるものではない。

カルボン酸無水物として、先に記載した部分構造−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−を１つ有するものを用いて一般式（１）で表される化合物を合成することにより、一価の上記反応残基を有する一般式（１）で表される化合物を得ることができ、２つ有するものを用いることにより二価の上記反応残基を有する一般式（１）で表される化合物を得ることができる。三価以上の上記反応残基を有する一般式（１）で表される化合物も同様である。先に記載した通り、ｎは１以上の整数であり、例えば１〜４の範囲の整数であり、好ましくは２〜４の範囲の整数である。

カルボン酸無水物としては、例えばテトラカルボン酸無水物を用いることにより、ｎ＝２の一般式（１）で表される化合物を得ることができる。なおテトラカルボン酸無水物とは、一分子中に４つのカルボキシ基を有する化合物において、各２つのカルボキシ基の脱水縮合により、上記部分構造を一分子中に２つ有するカルボン酸無水物である。一般式（１）中、Ｚがテトラカルボン酸無水物の反応残基を表す化合物は、金属酸化物粒子の分散性の一層の向上の観点から好ましい。テトラカルボン酸無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸無水物、芳香族テトラカルボン酸無水物、多環式テトラカルボン酸無水物等の各種テトラカルボン酸無水物を挙げることができる。

脂肪族テトラカルボン酸無水物としては、例えば、ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、２，３，５，６−テトラカルボキシシクロヘキサン二無水物、２，３，５，６−テトラカルボキシノルボルナン二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物等を挙げることができる。

芳香族テトラカルボン酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、プロピレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、ブチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、Ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，９−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物等を挙げることができる。

多環式テトラカルボン酸無水物としては、例えば、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−６−メチル−１−ナフタレンコハク酸二無水物等を挙げることができる。

一般式（１）中、ｍは２以上の整数を表す。一般式（１）で表される化合物は、ポリエステル鎖を有する化合物であり、ポリエステル鎖が含まれることにより、金属酸化物粒子の分散性向上や繰り返し走行中の磁性層の表面状態の変化を抑制することが可能になると考えられる。これらの観点から、ｍは、５〜２００の範囲の整数であることが好ましく、５〜１００の範囲の整数であることがより好ましく、５〜６０の範囲の整数であることが更に好ましい。

上記化合物の具体例としては、例えば、後述の実施例に示す各種化合物を例示することができる。

（合成方法）
以上説明した一般式（１）で表される化合物は、公知の方法で合成することができる。合成方法の一例としては、例えば、カルボン酸無水物と、下記一般式（２）で表される化合物とを開環付加反応等の反応に付す方法を挙げることができる。一般式（２）中、Ｒ、Ｘ、Ｌ、ｍは、それぞれ一般式（１）と同義である。Ａは、水素原子、アルカリ金属原子または四級アンモニウム塩基を表し、好ましくは水素原子である。

カルボン酸無水物と一般式（２）で表される化合物との反応は、例えば、ブタンテトラカルボン酸無水物を用いた場合、ヒドロキシ基１当量に対して、０．４〜０．５モルの割合でブタンテトラカルボン酸無水物を混合し、無溶媒、必要に応じて沸点が５０℃以上の有機溶剤、更には三級アミンや無機塩基などの反応触媒存在下で、３〜１２時間程度加熱攪拌することにより実施される。他のカルボン酸無水物を用いる場合にも、上記の反応条件に準じて、または公知の反応条件に準じて、カルボン酸無水物と一般式（２）で表される化合物との反応を実施することができる。

上記反応の後、必要に応じて精製等の後工程を行ってもよい。

また、一般式（２）で表される化合物は、市販品を用いてもよく、公知のポリエステル合成方法によって得ることもできる。例えばポリエステル合成法としては、ラクトンの開環重合を挙げることができる。ラクトンとしては、例えば、ε−カプロラクトン、δ−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン、エナントラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ヘキサノラクトン、γ−オクタノラクトン、δ−ヘキサラノラクトン、δ−オクタノラクトン、δ−ドデカノラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、ラクチド等を挙げることができる。なおラクチドは、Ｌ体であってもＤ体であってもよい。ポリエステル合成において、ラクトンは一種のみ用いてもよく、異なる構造の二種以上を用いてもよい。ラクトンとしては、ε−カプロラクトン、ラクチドまたはδ−バレロラクトンが、反応性・入手性の観点から好ましい。ただし、これらに限定されるものではなく、開環重合によりポリエステルを得ることができるものであれば、いずれのラクトンであってもよい。

ラクトンの開環重合のための求核試薬としては、アルコール、チオール、アミン等を用いることができる。求核試薬は、一種用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。
例えばアルコールを用いる場合、アルコールをＲ^１０２ＯＨで表すと、Ｒ^１０２Ｏ−部が、一般式（１）で表される構造中、ＲＸ−部として存在し得る。ここでＸは−Ｏ−を表す。
チオールを用いる場合、チオールをＲ^１０２ＳＨで表すと、Ｒ^１０２Ｓ−部が、一般式（１）で表される構造中、ＲＸ−部として存在し得る。ここでＸは−Ｓ−を表す。
アミンを用いる場合、アミンをＲＲ^１００ＮＨで表すと、ＲＲ^１００Ｎ−部が、一般式（１）で表される構造中、ＲＸ−部として存在し得る。ここでＸは−ＮＲ^１００−を表す。Ｒ、Ｒ^１００は、それぞれ一般式（１）と同義である。

ただし、一般式（２）で表される化合物は、ラクトンの開環重合により得られたポリエステル由来の構造に限定されるものではなく、公知のポリエステル合成法、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールとの重縮合、ヒドロキシカルボン酸の重縮合、等により得られたポリエステル由来の構造であることもできる。

以上説明した合成方法は一例であって、本発明を何ら限定するものではない。一般式（１）で表される化合物を合成可能な方法であれば、公知の合成方法を、何ら制限なく用いることができる。合成後の反応生成物は、そのまま、または必要に応じて公知の方法により精製を行い、上記分散物の調製のために用いることができる。

＜＜ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物＞＞
ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物は、アルキレンイミンが開環して生成した部分構造であるアルキレンイミン鎖を２つ以上含む重合構造（ポリアルキレンイミン鎖）を有する。アルキレンイミンが開環して生成した部分構造であるアルキレンイミン鎖としては、下記式Ａで表されるアルキレンイミン鎖および下記式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖を挙げることができる。下記式で表されるアルキレンイミン鎖の中で、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖は、ポリエステル鎖との結合位置を含み得るものである。また、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖は、ポリエステル鎖と塩架橋基（詳細は後述する。）により結合することができる。ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物は、このようなアルキレンイミン鎖を１つ以上含むことにより、ポリアルキレンイミン鎖に１つ以上のポリエステル鎖が結合した構造を有することができる。また、ポリアルキレンイミン鎖としては、直鎖構造のみからなるものであっても、分岐した三級アミン構造を有するものであってもよい。より一層の分散性向上の観点からは、ポリアルキレンイミン鎖に分岐構造を含むものが好ましい。分岐構造を含むものとしては、下記式Ａ中の＊¹において隣接するアルキレンイミン鎖と結合するもの、下記式Ｂ中の＊²において隣接するアルキレンイミン鎖と結合するものを挙げることができる。

式Ａ中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、ａ１は２以上の整数を表し、＊¹はポリエステル鎖、隣接するアルキレンイミン鎖、または水素原子もしくは置換基との結合位置を表す。

式Ｂ中、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、ａ２は２以上の整数を表す。式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖は、アニオン性基を有するポリエステル鎖と、式Ｂ中のＮ⁺とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより結合する。

式Ａ、Ｂ中の＊、および式Ｂ中の＊²は、それぞれ独立に、隣接するアルキレンイミン鎖、または水素原子もしくは置換基と結合する位置を表す。

以下、上記式Ａ、式Ｂについて、更に詳細に説明する。

式Ａ中のＲ¹およびＲ²、ならびに式Ｂ中のＲ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基を挙げることができ、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基またはエチル基であり、更に好ましくはメチル基である。式Ａ中のＲ¹およびＲ²の組み合わせとしては、一方が水素原子であって他方がアルキル基である態様、両方が水素原子である態様、両方がアルキル基（同一または異なるアルキル基）である態様があり、好ましくは両方が水素原子である態様である。以上の点は、式Ｂ中のＲ³およびＲ⁴についても、同様である。

アルキレンイミンとして環を構成する炭素数が最小の構造はエチレンイミンであり、エチレンイミンの開環により得られたアルキレンイミン鎖（エチレンイミン鎖）の主鎖の炭素数は２である。したがって、式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２の下限は２である。即ち、式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２は、それぞれ独立に、２以上の整数である。金属酸化物粒子表面への吸着性の観点からは、式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２は、それぞれ独立に、１０以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、４以下であることが更に好ましく、２または３であることがいっそう好ましく、２であることがよりいっそう好ましい。

式Ａで表されるアルキレンイミン鎖、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖とポリエステル鎖との結合の詳細については、後述する。

上記の各アルキレンイミン鎖は、各式中の＊で表される位置において、隣接するアルキレンイミン鎖、または水素原子もしくは置換基と結合する。置換基としては、例えばアルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）等の一価の置換基を例示することができるが、これらに限定されるものではない。また、置換基として、ポリエステル鎖が結合してもよい。

ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物は、以上説明したポリアルキレンイミン鎖とともに、ポリエステル鎖を含む。ポリエステル鎖は、一態様では、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ａ中の＊¹において、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合し、−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することができる。また、他の一態様では、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖とポリエステル鎖とが、式Ｂ中の窒素カチオンＮ⁺とポリエステル鎖が有するアニオン性基により塩架橋基を形成することができる。塩架橋基としては、ポリエステル鎖に含まれる酸素アニオンＯ^-と式Ｂ中のＮ⁺とにより形成されるものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。

式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合するポリエステル鎖としては、下記式１で表されるポリエステル鎖を挙げることができる。下記式１で表されるポリエステル鎖は、＊¹で表される結合位置において、アルキレンイミン鎖に含まれる窒素原子とポリエステル鎖に含まれるカルボニル基−（Ｃ＝Ｏ）−とが−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することにより、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と結合することができる。

また、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ｂ中のＮ⁺とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより結合するポリエステル鎖としては、下記式２で表されるポリエステル鎖を挙げることができる。下記式２で表されるポリエステル基は、酸素アニオンＯ^-により、式Ｂ中のＮ⁺と塩架橋基を形成することができる。

式１中のＬ¹、式２中のＬ²は、それぞれ独立に二価の連結基を表す。二価の連結基としては、好ましくは炭素数３〜３０のアルキレン基を挙げることができる。なおアルキレン基の炭素数は、アルキレン基が置換基を有する場合には、置換基を除く部分（主鎖部分）の炭素数をいうものとする。

式１中のｂ１１、式２中のｂ２１は、それぞれ独立に２以上の整数を表し、例えば２００以下の整数である。

式１中のｂ１２、式２中のｂ２２は、それぞれ独立に０または１を表す。

式１中のＸ¹、式２中のＸ²は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。一価の置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基（例えばフルオロアルキル基等）、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシアルキル基およびアリール基からなる群から選択される一価の置換基を挙げることができる。

アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基を有するアルキル基としては、ヒドロキシ基が置換したアルキル基（ヒドロキシアルキル基）、ハロゲン原子が１つ以上置換したアルキル基が好ましい。また、炭素原子と結合する全水素原子がハロゲン原子に置換したアルキル基（ハロアルキル基）も好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を挙げることができる。アルキル基としては、より好ましくは炭素数１〜３０、更に好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれであってもよい。ハロアルキル基についても、同様である。

置換または無置換のアルキル基、ハロアルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、へキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、２−エチルヘキシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシルメチル基、オクチルシクロヘキシル基、２−ノルボルニル基、２，２、４−トリメチルペンチル基、アセチルメチル基、アセチルエチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、ヒドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロキシオクタデシル基が挙げられる。

アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシメチル基等を挙げることができる。

ポリアルキレンオキシアルキル基とは、Ｒ¹⁰（ＯＲ¹¹）ｎ（Ｏ）ｍ−で表される一価の置換基である。Ｒ¹⁰はアルキル基を表し、Ｒ¹¹はアルキレン基を表し、ｎは２以上の整数を表し、ｍは０または１を表す。
Ｒ¹⁰で表されるアルキル基については、Ｘ¹、Ｘ²で表されるアルキル基について記載した通りである。Ｒ¹¹で表されるアルキレン基の詳細については、Ｘ¹、Ｘ²で表されるアルキル基に関する上記の記載を、これらアルキレン基から水素原子を１つ取り去ったアルキレン基に読み替えて（例えば、メチル基はメチレン基に読み替えて）適用することができる。ｎは２以上の整数であり、例えば１０以下、好ましくは５以下の整数である。

アリール基は置換基を有していても縮環していてもよく、より好ましくは炭素数６〜２４のアリール基であり、例えばフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニル安息香酸、３−シアノフェニル基、２−クロロフェニル基、２−ナフチル基等を挙げることができる。

以上記載した式１、式２で表されるポリエステル鎖は、公知のポリエステル合成法により得られたポリエステル由来の構造であることができる。ポリエステル合成法としては、例えば、ラクトンの開環重合を挙げることができる。ラクトンについては、一般式（２）に関する上記記載を参照できる。ラクトンの開環重合のための求核試薬については、例えば、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５７を参照できる。ただし、上記ポリエステル鎖は、ラクトンの開環重合により得られたポリエステル由来の構造に限定されるものではなく、公知のポリエステル合成法、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールとの重縮合、ヒドロキシカルボン酸の重縮合、等により得られたポリエステル由来の構造であることもできる。

一態様では、ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物は、この化合物におけるポリアルキレンイミン鎖の占める割合（以下、「ポリアルキレンイミン鎖比率」とも記載する。）が５．００質量％未満であることが好ましく、および／または、ポリアルキレンイミン鎖の数平均分子量が３００〜３，０００の範囲である化合物であることが好ましい。ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物に含まれるポリアルキレンイミン鎖の数平均分子量およびポリアルキレンイミン鎖比率は、特開２０１５−２８８３０号公報に記載の方法により求められる値とする。なお上記で引用した特開２０１５−２８８３０号公報には、上記ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物に包含される化合物（同公報には、ポリアルキレンイミン誘導体と記載されている。）の記載がある。しかし特開２０１５−２８８３０号公報には、かかる化合物を、強磁性粉末を実質的に含まない金属酸化物粒子分散物の調製に用いることにより、分散物中の金属酸化物粒子の分散性が向上になり、かつこの分散物を用いて形成された磁性層を有する磁気記録媒体において繰り返し走行中の磁性層の表面状態の変化を抑制できることについて、示唆となり得る記載はない。以上の点は、本発明は、本発明者らの鋭意検討の結果、初めて見出されたことである。

また上記ポリエステル化合物としては、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２（ビックケミー社製・リン酸基を有するポリエステル）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１（ビックケミー社製）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２６０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３６０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２４０００ＧＲ、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３２０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３９０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ７１０００（いずれもルーブリゾール社製）等を挙げることができる。

＜＜含有量＞＞
以上説明したポリエステル化合物は、上記分散物中に、一種のみ含まれてもよく、構造の異なる二種以上が含まれていてもよい。また、一般式（１）で表される化合物は、２種以上の構造異性体の混合物として用いてもよい。例えば、一般式（１）で表される化合物の合成反応により、二種以上の構造異性体が得られる場合、かかる混合物を上記分散物の調製に用いることもできる。上記分散物における上記ポリエステル化合物の含有量は、金属酸化物粒子１００．０質量部あたり１．０質量部以上とすることが好ましく、３．０質量部以上とすることがより好ましい。一方、記録密度の向上のためには、磁性層における強磁性粉末の充填率を高くすることが好ましい。この点からは、相対的に磁性層における強磁性粉末以外の成分の含有量は低くすることが好ましい。以上の観点から、上記ポリエステル化合物の含有量は、金属酸化物粒子１００．０質量部に対して５０．０質量部以下とすることが好ましく、４０．０質量部以下とすることがより好ましい。

＜その他成分＞
上記分散物は、上記金属酸化物粒子、溶媒および上記ポリエステル化合物を含み、一種以上の他の成分を任意に含むことができる。そのような成分としては、例えば、結合剤を挙げることができる。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常用いられている各種の樹脂を、何ら制限なく用いることができる。具体例については、後述の磁性液に添加可能な結合剤に関する記載を参照できる。上記分散物に含まれる結合剤として好ましい樹脂としては、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂を挙げることができる。ポリウレタン樹脂としては、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂が好適に用いられる。ポリウレタン樹脂は、好適な溶媒であるケトン溶媒への溶解性に優れる点でも、好ましい樹脂である。上記分散物中の結合剤含有量は、金属酸化物粒子１００質量部に対して、例えば０〜２０質量部の範囲であることができる。
先に記載したように、上記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、結合剤として通常用いられる樹脂に比べ小さいことが好ましいと本発明者らは推察している。この点から、上記分散物が結合剤を含む場合、その重量平均分子量は、好ましくは２０，０００超１２０，０００以下の範囲であり、より好ましくは３０，０００〜１００，０００の範囲であり、更に好ましくは３０，０００〜６０，０００の範囲である。なお後述の磁性液に含まれる結合剤の重量平均分子量も、上記範囲であることが好ましい。

＜分散物の調製方法＞
上記分散物は、以上記載した成分を同時または順次混合し分散することによって調製することができる。分散は、分散ビーズを用いるビーズ分散等の公知の分散方法によって行うことができる。分散ビーズとしては、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズ、アルミナビーズが好適である。これら分散ビーズは、ビーズ径と充填率を最適化して用いることが好ましい。分散機は公知のものを使用することができる。上記分散物の固形分濃度は、例えば５〜２０質量％の範囲とすることができる。なお固形分濃度とは、上記分散物における溶媒を除く全成分の合計の濃度をいうものとする。

以上説明した本発明の一態様にかかる金属酸化物粒子分散物は、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製のために好適に用いることができる。この点については、更に後述する。

［塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法］
本発明の更なる態様は、上記金属酸化物粒子分散物を、強磁性粉末と混合することを含む塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法に関する。
以下、上記製造方法について、更に詳細に説明する。

上記分散物については、先に詳述した通りである。

＜強磁性粉末＞
上記分散物と混合される強磁性粉末は、特に限定されるものではないが、好ましくは、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末である。平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末は、近年求められている高密度記録に対応し得る強磁性粉末であるため好ましい。なお磁化の安定性の観点からは、平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。

上記強磁性粉末の好ましい具体例としては、六方晶フェライト粉末を挙げることができる。六方晶フェライト粉末のサイズについては、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、平均粒子サイズ（平均板径）が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６を参照できる。

上記強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末のサイズについては、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、平均粒子サイズ（平均長軸長）が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１を参照できる。

上記磁性層形成用組成物を用いて形成される磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。上記充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜磁性液＞
（溶媒）
強磁性粉末は、粉末として上記分散物と混合してもよいが、強磁性粉末、溶媒および結合剤を含む磁性液として混合することが、強磁性粉末の分散性向上の観点から好ましい。磁性液に含まれる溶媒としては、一般に塗布型磁気記録媒体製造のために使用される各種有機溶媒を挙げることができる。具体的には、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。中でも、磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性および強磁性粉末の表面への結合剤の吸着の点からは、ケトン溶媒を用いることが好ましい。

（結合剤）
磁性液に含まれる結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常用いられている各種の樹脂を、何ら制限なく用いることができる。例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、塩化ビニル樹脂であり、より好ましいものは、ポリウレタン樹脂および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。
以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報段落００２８〜００３１を参照できる。結合剤含有量は、上記分散物と磁性液とを混合して調製される磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性粉末１００．０質量部に対して、例えば５．０〜５０．０質量部の範囲、好ましくは１０．０〜３０．０質量部の範囲とすることができる。

（その他成分）
上記磁性液には、必要に応じて一種以上の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラックなど、塗布型磁気記録媒体形成に通常用いられる各種添加剤を挙げることができる。また、シリカコロイド粒子等の非磁性コロイド粒子を挙げることもできる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して使用することができる。添加量は、適宜設定すればよい。なお先に記載したポリエステル化合物は、強磁性粉末の分散性向上にも寄与する成分（分散剤）としても好適な化合物であると、本発明者らは推察している。したがって、上記ポリエステル化合物の一種または二種以上を、磁性液に添加することも好ましい。この場合、上記ポリエステル化合物の磁性液における含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して、０．５質量部以上とすることが好ましく、１．０質量部以上とすることがより好ましい。一方、記録密度の向上のためには、磁性層における強磁性粉末の充填率を高くすることが好ましい。この点からは、相対的に強磁性粉末以外の成分の含有量は低くすることが好ましい。この観点から、磁性液における上記ポリエステル化合物の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して５０．０質量部以下とすることが好ましく、４０．０質量部以下とすることがより好ましく、３０．０質量部以下とすることが更に好ましい。

また、磁性液および／または磁性液を上記分散物と混合して調製される磁性層形成用組成物は、公知の硬化剤を含むこともできる。硬化剤を含む磁性層形成用組成物を用いて形成された磁性層は、通常、結合剤と硬化剤とが架橋した反応生成物を含む。硬化剤の使用は、磁性層の強度を高めるために好ましい。架橋反応性等の観点から、硬化剤としてはポリイソシアネートが好ましい。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加し使用することができる。

上記磁性液は、以上説明した各種成分を同時にまたは任意の順序で順次添加し混合することにより、調製することができる。磁性液の調製方法は特に限定されるものではなく、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製に関する公知技術を、何ら制限なく適用することができる。また、上記分散物と磁性液との混合についても、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製に関する公知技術を、何ら制限なく適用することができる。また、磁性液と上記分散物の混合と同時に、または混合後に、一種以上の任意成分（例えば上記の各種の添加剤や硬化剤）を添加することもできる。

上記磁性液中の固形分濃度は、１０〜３０質量％程度であることが、磁性液中の強磁性粉末等の分散性および磁性液の調製の容易性の観点から好ましい。なお磁性液中の固形分濃度とは、磁性液における溶媒を除く全成分の合計の濃度をいうものとする。形成される磁性層における強磁性粉末の充填度と、金属酸化物粒子により奏される作用（研磨性、走行中の摩擦係数の低減等）を考慮すると、強磁性粉末１００．０質量部に対する金属酸化物量が１．０〜２０．０質量部となるように、磁性液と上記分散物を混合することが好ましい。

［磁気記録媒体の製造方法］
本発明の更なる態様は、上記の磁性層形成用組成物の製造方法によって磁性層形成用組成物を製造すること、および、製造した磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布する工程を経て磁性層を形成すること、を含む塗布型磁気記録媒体の製造方法に関する。

上記塗布型磁気記録媒体の製造方法においては、以上説明した磁性層形成用組成物の製造方法により磁性層形成用組成物を製造する点以外、塗布型磁気記録媒体に関する公知技術を何ら制限なく適用することができる。例えば、走行下にある非磁性支持体の表面または非磁性支持体上に任意に形成される非磁性層の表面に、磁性層形成用組成物を所定の厚みの磁性層が形成されるように塗布量を調整して塗布することにより磁性層を形成することができる。磁気記録媒体の製造工程については、例えば、特開２０１３−１３１２８５号公報段落００３８および００４０を参照できる。

（非磁性支持体の厚み、各層の厚み）
上記製造方法により製造される磁気記録媒体の非磁性支持体および各層の厚みについては、非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．０〜８０．０μｍである。
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化することができ、一般には１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、更に好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
製造される磁気記録媒体が非磁性層を有する場合、非磁性層の厚みは、例えば０．１〜３．０μｍであり、０．１〜２．０μｍであることが好ましく、０．１〜１．５μｍであることが更に好ましい。なお、本発明における磁気記録媒体の非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
また、製造される磁気記録媒体が、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側にバックコート層を有する場合、バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１〜０．７μｍであることが更に好ましい。

以上説明した製造方法により製造される磁気記録媒体は、好ましくは、後述の実施例に記載の方法で評価される磁性層表面の中心線平均表面粗さＲａの変化および摩擦の変化の評価結果が、ともにＡとなる性質を有することができる。上記ポリエステル化合物を含む金属酸化物粒子分散物を強磁性粉末と混合して調製した磁性層形成用組成物を用いて磁性層を形成することにより、かかる性質を有する磁気記録媒体を提供することができる。また、上記ポリエステル化合物を含む金属酸化物粒子分散物は、金属酸化物粒子を、後述の実施例に記載の方法で評価される金属酸化物粒子の分散性の評価結果がＡとなる状態で分散された状態で含むことができる。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、特記しない限り、以下に記載の「部」および「％」は質量基準である。以下に記載の室温とは、２０〜２５℃の範囲であった。

［ポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物の合成例］
＜ポリエステル化合物１の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、ｎ−オクタン酸（和光純薬社製）４．２ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）２５ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）１．４ｇを混合して得られた混合物を混合物温度１６０℃で１時間加熱した。ε―カプロラクトン２５ｇを５時間かけて滴下し、さらに２時間撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル１を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）０．９６ｇおよび中間体ポリエステル１ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物１を得た。

＜ポリエステル化合物７の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）１．３５ｇおよび上記中間体ポリエステル１ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物７を得た。

＜ポリエステル化合物８の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）０．４６ｇおよび上記中間体ポリエステル１ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物８を得た。

＜ポリエステル化合物２の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、メトキシエトキシエトキシ酢酸（ＡＬＤＲＩＣＨ製）５．２ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）２５ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）１．４ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１６０℃で１時間加熱した。ε―カプロラクトン２５ｇを５時間かけて滴下し、さらに２時間撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル２を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）０．９６ｇおよび中間体ポリエステル２ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物２を得た。

＜ポリエステル化合物３の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、ステアリン酸（和光純薬社製）８．３ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）２５ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）１．４ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１６０℃で１時間加熱した。ε―カプロラクトン２５ｇを５時間かけて滴下し、さらに２時間撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル３を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）０．９６ｇおよび中間体ポリエステル３ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物３を得た。

［一般式（１）で表されるポリエステル化合物の合成例］
＜ポリエステル化合物４の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、２−エチルヘキシルアルコール（和光純薬社製）３．８ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）５０ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）２５ｍｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で５時間加熱撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル４を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬社製）２．２ｇおよび中間体ポリエステル４ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物４を得た。

＜ポリエステル化合物５の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル（和光純薬社製）５．７ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）５０ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）２５ｍｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で５時間加熱撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル５を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬社製）２．１ｇおよび中間体ポリエステル５ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物５を得た。

＜ポリエステル化合物６の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、オクタデカノール（和光純薬社製）７．９ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）５０ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）２５ｍｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で５時間加熱撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル６を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬社製）２．０ｇおよび中間体ポリエステル６ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物６を得た。

＜ポリエステル化合物９の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、２−エチルヘキシルアルコール（和光純薬社製）２．３ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）５０ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）２５ｍｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で５時間加熱撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル７を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬社製）１．３ｇおよび中間体ポリエステル７ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物９を得た。

＜ポリエステル化合物１０の合成＞
３００ｍＬ３口フラスコに、２−エチルヘキシルアルコール（和光純薬社製）１１．４ｇ、ε―カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）５０ｇ、モノブチルスズオキシド（東京化成製）２５ｍｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で５時間加熱撹拌した。その後室温まで冷却し中間体ポリエステル８を得た。
３００ｍＬ３口フラスコに、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬社製）５．７ｇおよび中間体ポリエステル８ ４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱してポリエステル化合物１０を得た。

［比較例で用いる化合物１１の合成例］
３００ｍＬ３口フラスコに、ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）１２．３ｇおよびｎ−オクタン酸（和光純薬社製）４０ｇを混合して得られた混合物を、混合物温度１１０℃で３時間加熱して化合物１１を得た。

［化合物の同定、重量平均分子量の測定］
ポリエステル化合物１〜３、７、８は、式Ａ中のＲ^１およびＲ^２が水素原子であり、かつａ１が２であるエチレンイミン鎖および／または式Ｂ中のＲ^３およびＲ^４が水素原子であり、かつａ２が２であるエチレンイミン鎖を含むポリアルキレンイミン−ポリエステル化合物である。
ポリエステル化合物１〜３、７、８が有するポリエステル鎖は、式Ａで表されるエチレンイミン鎖と結合する構造は、下記部分構造ａであり、式Ｂで表されるエチレンイミン鎖と結合する構造は、下記部分構造ｂである。部分構造ａ中、＊¹は、式Ａ中の＊¹との結合位置を表す。部分構造ｂは、酸素アニオンＯ⁻が、式Ｂで表されるエチレンイミン鎖中のＮ⁺と塩架橋基を形成することにより、式Ｂで表されるエチレンイミン鎖と結合する。ポリエステル化合物１〜３、７、８は、いずいれも下記ｎが１５である。

（上記において、＊は、隣接する酸素原子との結合位置を示す。）

比較例で用いる化合物１１は、式Ａ中のＲ^１およびＲ^２が水素原子であり、かつａ１が２であるエチレンイミン鎖に下記部分構造ｃが結合した構造および／または式Ｂ中のＲ^３およびＲ^４が水素原子であり、かつａ２が２であるエチレンイミン鎖に下記部分構造ｄが結合した化合物である。部分構造ｃ中、＊¹は、式Ａ中の＊¹との結合位置を表す。部分構造ｄは、酸素アニオンＯ⁻が、式Ｂで表されるエチレンイミン鎖中のＮ⁺と塩架橋基を形成することにより、式Ｂで表されるエチレンイミン鎖と結合する。

ポリエステル化合物４〜６、９、１０は、下記構造の化合物とその構造異性体との混合物として得られる。

一例として、ポリエステル化合物４〜６について、構造異性体を以下に示す。

各合成例により目的の化合物が得られたことは、^１Ｈ−ＮＭＲ（nuclear magnetic resonance）、ＧＰＣおよび酸価測定により確認した。酸価測定は、ＪＩＳ Ｋ ２５０１（２００３）にしたがい行った。
各合成例で得た化合物および後述の実施例で使用した市販のポリエステル化合物の重量平均分子量を、下記条件で、ＧＰＣによりポリスチレン換算にて求めたところ、表１に示す値であった。なお上記のポリエチレンイミンの数平均分子量は、メーカーの製品カタログ記載の値である。
（測定条件）
装置：東ソー社製 HLC-8320 GPC EcoSEC
ガードカラム：TOSOH TSKguardcolumn Super AW-H
分離カラム：TOSOH TSKgel Super AWM-H(6.0mm×15cm) ３本連結
溶離液：N-メチルピロリドン（10mmol/L LiBr含有）
流速：0.35ml/min
検出器：RI（Refractive Index）
温度：カラム＝40℃、インレット＝40℃、RI＝40℃
分析時間：35分
サンプル注入量：60μl
測定サンプル濃度：1.0質量%
検量線濃度：0.02質量wt%
検量線用標準サンプル：TOSOH TSKstandard POLYSTYRENE
東ソー社製標準ポリスチレン型番F-80(TS-201) 分子量7.06×10⁵
東ソー社製標準ポリスチレン型番F-20(TS-140) 分子量1.90×10⁵
東ソー社製標準ポリスチレン型番F-4(TS-202) 分子量3.79×10⁴
東ソー社製標準ポリスチレン型番F-1(TS-508) 分子量1.02×10⁴
東ソー社製標準ポリスチレン型番A-2500(TS-502) 分子量2.63×10³
東ソー社製標準ポリスチレン型番A-500(TS-505) 分子量682, 578, 474, 370, 266
（上記の標準ポリスチレンの分子量は東ソー社カタログ値である。）

ポリエステル化合物１、７、８について、特開２０１５−２８８３０号公報に記載されているように、¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果および燃焼法による元素分析の分析結果から、ポリアルキレンイミン鎖比率を算出した。結果を以下に示す。
・ポリエステル化合物１：２．３４質量％
・ポリエステル化合物７：３．３８質量％
・ポリエステル化合物８：１．１５質量％

実施例で使用した後述の下記成分について、上記方法で測定した重量平均分子量は、以下の値であった。
・ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）：３６０００
・ポリ塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ１０４）：２６０００

［金属酸化物粒子分散物の調製例］

＜実施例１・アルミナ分散物の調製＞
アルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）１００．０質量部に対し、ポリエステル化合物１を１０．０質量部、ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．０質量部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（体積比）の混合溶媒８３５．０質量部を混合し、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ（ニッカトー製 ＹＴＺボール）存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、ろ過し分散物とビーズを分け、アルミナ分散物を得た。

＜実施例２・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物２に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例３・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物３に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例４・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例５・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物５に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例６・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物６に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例７・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物７に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例８・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物８に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例９・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物９に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１０・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物１０に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１１・アルミナ分散物の調製＞
アルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）１００．０質量部に対し、ポリエステル化合物１を１０．０質量部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（体積比）の混合溶媒８６７．０質量部を混合し、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、ろ過し分散物とビーズを分け、アルミナ分散物を得た。

＜実施例１２・アルミナ分散物の調製＞
実施例１１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例１１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１３・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、アルミナ粉末を住友化学社製ＨＩＴ−８０に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１４・アルミナ分散物の調製＞
実施例１３のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例１３と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１５・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１を３．０質量部に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１６・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１の添加量を３５．０質量部に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１７・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１をＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２（ビックケミー社製・リン酸基を有するポリエステル化合物）に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜実施例１８・アルミナ分散物の調製＞
アルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）１００．０質量部に対し、ポリエステル化合物１を１０．０質量部、ポリ塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ１０４）の３０％溶液（溶媒はシクロヘキサノン）：３３．３質量部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（体積比）の混合溶媒８３５．０質量部を混合し、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、ろ過し分散物とビーズを分け、アルミナ分散物を得た。

＜実施例１９・酸化チタン分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、アルミナ粉末を酸化チタン粉末（堺化学工業社製ＳＴＲ−１０ＬＦ）に変えた点以外は、実施例１と同様の方法で酸化チタン分散物の調製を行った。

＜実施例２０・酸化チタン分散物の調製＞
実施例１９の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物２に変えた点以外は、実施例１９と同様の方法で酸化チタン分散物の調製を行った。

＜実施例２１・酸化チタン分散物の調製＞
実施例１９の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例１９と同様の方法で酸化チタン分散物の調製を行った。

＜実施例２２・酸化チタン分散物の調製＞
実施例１９の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物５に変えた点以外は、実施例１７と同様の方法で酸化チタン分散物の調製を行った。

＜実施例２３・酸化亜鉛分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、アルミナ粉末を酸化亜鉛粉末（堺化学工業社製ＦＩＮＥＸ−２５−ＬＰＴ）に変えた点以外は、実施例１と同様の方法で酸化亜鉛分散物の調製を行った。

＜実施例２４・酸化亜鉛分散物の調製＞
実施例２３の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物２に変えた点以外は、実施例２３と同様の方法で酸化亜鉛分散物の調製を行った。

＜実施例２５・酸化亜鉛分散物の調製＞
実施例２３の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例２３と同様の方法で酸化亜鉛分散物の調製を行った。

＜実施例２６・酸化亜鉛分散物の調製＞
実施例２３の酸化チタン分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物５に変えた点以外は、実施例２３と同様の方法で酸化亜鉛分散物の調製を行った。

＜実施例２７・ジルコニア分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、アルミナ粉末をジルコニア粉末（ＴＥＣＮＡＮ製ＴＥＣＮＡＰＯＷ−ＺＲＯ２）に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でジルコニア分散物の調製を行った。

＜実施例２８・ジルコニア散物の調製＞
実施例２７のジルコニア分散物の調製において、ポリエステル化合物１をポリエステル化合物４に変えた点以外は、実施例２７と同様の方法でジルコニア分散物の調製を行った。

＜比較例１・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１を、特開２０１３−１３１２８５号公報の実施例でアルミナ分散物の調製に用いられている２，３−ジヒドロキシナフタレンに変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜比較例２・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１を、特開２０１３−１３１２８５号公報の実施例でアルミナ分散物の調製に用いられている１，４−ジヒドロキシナフタレンに変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜比較例３・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、化合物１を添加せず、メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（体積比）の混合溶媒８６９．０質量部を混合した点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜比較例４・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１を、特開２０１３−１３１２８５号公報の比較例でアルミナ分散物の調製に用いられているトランス桂皮酸に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜比較例５・アルミナ分散物の調製＞
実施例１のアルミナ分散物の調製において、ポリエステル化合物１を化合物１１に変えた点以外は、実施例１と同様の方法でアルミナ分散物の調製を行った。

＜評価方法・動的光散乱による分散性評価＞
得られた金属酸化物粒子分散物の分散性を、動的光散乱により測定される液中平均粒子径によって評価した。得られた分散物を固形分０．２質量％となるように、メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（体積比）の混合溶媒で希釈し、１分間超音波分散後、室温に冷却し測定を行った。測定は、ＨＯＲＩＢＡ製ナノ粒子解析装置「ＳＺ−１００」を用いて行った。試料屈折率はアルミナ１．７５６、酸化チタン２．７５０、酸化亜鉛１．９５０、分散媒屈折率１．４０９、分散媒粘度１．０５０ｍＰａ・ｓで測定を行った。平均粒子径は、算術平均径として算出した。
平均粒子径が７５．０ｎｍ未満をＡ、７５．０ｎｍ以上をＢとして、分散性を評価した。

［塗布型磁気記録媒体の製造例］
＜実施例１〜２８、比較例１〜５＞
（磁性液の調製）
下記の組成について、各成分を均一になるまでディスパー混合した後、サンドミルを用いて１５時間分散させて磁性液を調製した。
六方晶バリウムフェライト粉末：１００．０部
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ：Ｆｅ：Ｃｏ：Ｚｎ＝１／９／０．２／１
保磁力Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２２００Ｏｅ）、平均粒子サイズ（平均板径）：２０ｎｍ、平均板状比：３
ＢＥＴ（Brunauer-Emmett-Teller）比表面積：６５ｍ^２／ｇ
飽和磁化σｓ：４９Ａ・ｍ^２／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
オレイン酸 １．５部
ポリエステル化合物１ １０．０部
ポリ塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製）の３０％溶液（溶媒はシクロヘキサノン）：３３．３部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの１：１（質量比）混合溶媒）：１２．５部
メチルエチルケトン：３１．０部
シクロヘキサノン：３１．０部
カーボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）：０．５部

（磁性層形成用組成物の調製）
上記の磁性液に、下記成分を加えさらに２０分間撹拌混合した後、超音波処理し、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過し、磁性層形成用組成物を調製した。
実施例１で調製したアルミナ分散物：８６．０部
ブチルステアレート：１．５部
ステアリン酸：０．５部
ステアリン酸アミド：０．２部
メチルエチルケトン：１００．０部
シクロヘキサノン：１００．０部
トルエン：６部
ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製コロネート３０４１）：５．０部

（非磁性層形成用組成物の調製）
カーボンブラック：１００．０部
ＤＢＰ（Dibutyl phthalate）吸油量：１００ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの１：１（質量比）混合溶媒）：６２．５部
ポリ塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製）の３０％溶液（溶媒はシクロヘキサノン）：１００．０部
トリオクチルアミン：４．０部
シクロヘキサノン：７０．０部
メチルエチルケトン：１３０．０部
ブチルステアレート：２．０部
ステアリン酸：２．０部
ステアリン酸アミド：０．１部
上記の組成物について、各成分をオープンニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散物に下記の成分を加え撹拌した後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過し、非磁性層形成用組成物を調製した。
ブチルステアレート：１．５部
ステアリン酸：１．０部
メチルエチルケトン：５０．０部
シクロヘキサノン：５０．０部
トルエン：３．０部
ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製コロネート３０４１）：５．０部

（バックコート層形成用組成物の調製）
カーボンブラック（平均粒子サイズ４０ｎｍ）：８５．０部
カーボンブラック（平均粒子サイズ１００ｎｍ）：３．０部
ニトロセルロース：２８部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの１：１（質量比）混合溶媒）：１８１．０部
銅フタロシアニン系分散剤：２．５部
ニッポラン２３０１（日本ポリウレタン工業社製）：０．５部
メチルイソブチルケトン：０．３部
メチルエチルケトン：８００．０部
トルエン：１８０．０部
上記成分をロールミルで予備混練した後サンドミルで分散し、ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロン５００）４部、ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製コロネート３０４１）１４部、アルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）５部を添加、撹拌ろ過してバックコート層形成用組成物を調製した。

（磁気テープの作製）
ポリエチレンナフタレート支持体（厚さ５．０μｍ）の両表面にコロナ放電処理を施した。
上記ポリエチレンナフタレート支持体の一方の表面に、上記の非磁性層形成用組成物を乾燥後の厚さが１．０μｍになるように塗布し、さらにその直後にその上に磁性層の厚さが１００ｎｍになるように同時重層塗布した。両層が湿潤状態にあるうちに０．５Ｔ（５０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と０．４Ｔ（４０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向処理を行った後に乾燥処理を施した。
その後、上記ポリエチレンナフタレート支持体のもう一方の表面に上記のバックコート層形成用組成物を乾燥後の厚さが０．５μｍとなるように塗布した。次いで、金属ロールから構成される７段のカレンダーで温度１００℃にて速度８０ｍ／ｍｉｎで処理を行い、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットして磁気テープを作製した。

＜比較例６＞
以下に記載の方法で調製した磁性層形成用組成物を用いた点以外、上記と同様の方法で磁気テープを作製した。

（磁性液の調製）
下記の組成について、各成分を均一になるまでディスパー混合した後、サンドミルを用いて１５時間分散させて磁性液を調製した。
六方晶バリウムフェライト粉末：１００．０部
酸素を除く組成（モル比）：Ｂａ：Ｆｅ：Ｃｏ：Ｚｎ＝１／９／０．２／１
保磁力Ｈｃ：１７６ｋＡ／ｍ（２２００Ｏｅ）、平均粒子サイズ（平均板径）：２０ｎｍ、平均板状比：３
ＢＥＴ比表面積：６５ｍ^２／ｇ
飽和磁化σｓ：４９Ａ・ｍ^２／ｋｇ（４９ｅｍｕ／ｇ）
オレイン酸 １．５部
ポリエステル化合物１ １０．０部
ポリ塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製）の３０％溶液（溶媒はシクロヘキサノン）：３３．３部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−４８００）の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）：１２．５部
メチルエチルケトン：３１．０部
シクロヘキサノン：３１．０部
アルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）：１５．０部
カーボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）：０．５部

（磁性層形成用組成物の調製）
上記の磁性液に、下記成分を加えさらに２０分間撹拌混合した後、超音波処理し、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過し、磁性層形成用組成物を調製した。
ブチルステアレート：１．５部
ステアリン酸：０．５部
ステアリン酸アミド：０．２部
メチルエチルケトン：１００．０部
シクロヘキサノン：１００．０部
トルエン：６部
ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製コロネート３０４１）：５．０部

上記の市販の非磁性粒子の平均粒子サイズを、表２に示す。

＜評価方法・磁性層の中心線平均表面粗さ＞
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ（Atomic Force Microscope）：ＤＩＧＩＴＡＬ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ社製のＮＡＮＯＳＣＯＰＥ ＩＩＩ）を用い、タッピングモードで磁性層表面の４０μｍ×４０μｍの面積において測定を行い、中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した。

＜評価方法・表面粗さの変化＞
ＡＦＭにより測定された中心線平均表面粗さＲａが５ｎｍの円筒ＳＵＳ（Stainless steel）棒に対して、磁気テープの磁性層表面を、１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で加重１００ｇで繰り返し１００往復摺動させた後、上記と同様に磁性層表面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した。走行中の摩擦係数が高すぎて上記円筒ＳＵＳ棒が磁性層表面に貼りついてしまった場合は、貼り付いた時点での中心線平均表面粗さ（Ｒａ）を測定した。
摺動前後のＲａの差（摺動前のＲａ−摺動後のＲａ）が、０．１ｎｍ未満をＡ、０．１ｎｍ以上をＢとした。

＜評価方法・摩擦係数の変化＞
ＡＦＭにより測定された中心線平均表面粗さＲａが５ｎｍの円筒ＳＵＳ棒に、磁気テープを、磁性層表面を内側にして、磁気テープの全巻き角度１７０°にて巻き付け、磁気テープの一方の端に１００ｇの荷重をかけ、他方の端にフォースゲージを付けた状態で、１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で１往復摺動させたときの摩擦係数（μ値）と、繰り返し１００往復摺動したときの摩擦係数（μ値）の差（１００往復摺動したときのμ値−１往復摺動したときのμ値）を求めた。
摩擦係数は、荷重Ｆ１＝１００ｇ、Ｆ２＝フォースゲージにて測定された力として、下記式により求めた。
μ＝ｌｎ（Ｆ２／Ｆ１）（１／θ） θ：ラジアン単位の巻き付け角度
摺動前後の摩擦係数の差が０．１未満をＡ、０．１以上をＢとした。摩擦係数が高すぎて上記円筒ＳＵＳ棒が磁性層表面に貼りついてしまった場合をＣとした。

以上の結果を、表３に示す。

表３に示すように、実施例では、すべての評価項目について、評価結果Ａが得られた。表３に示す結果から、実施例の金属酸化物粒子分散物は金属酸化物粒子の分散性に優れ、かつ、この分散物を磁性液と混合して調製した磁性層形成用組成物を用いて形成した磁性層を有する実施例の磁気記録媒体は、繰り返し走行による磁性層の表面状態の変化（表面粗さの変化、摩擦係数の変化）が抑制されていることが確認できる。

本発明は、バックアップテープ等の長期間繰り返し使用されるデータストレージ用磁気記録媒体の技術分野に有用である。

Claims (18)

1. 金属酸化物粒子、
   溶媒、ならびに
   カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩、ヒドロキシ基ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有するポリエステル化合物、
   を含み、ただし強磁性粉末を実質的に含まない、塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
2. 前記ポリエステル化合物は、カルボキシ基およびその塩、リン酸基およびその塩ならびに窒素置換アルキレン基からなる群から選ばれる一つ以上の基を有する請求項１に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
3. 前記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１０００以上２００００以下である請求項１または２に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
4. 前記ポリエステル化合物の重量平均分子量は、１０００以上１００００以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
5. 前記ポリエステル化合物は、窒素置換アルキレン基を有するポリエステル化合物を含み、かつ前記窒素置換アルキレン基を有するポリエステル化合物は、ポリアルキレンイミン化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
6. 前記ポリエステル化合物は、下記一般式（１）で表されるポリエステル化合物を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物；
   一般式（１）
   一般式（１）中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ^１００−を表し、ＲおよびＲ^１００は、それぞれ独立に水素原子または一価の置換基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｚはカルボキシ基およびその塩からなる群から選ばれる基を少なくとも１つ有するｎ価の部分構造を表し、ｍは２以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表す。
7. 一般式（１）中、Ｚは、カルボン酸無水物の反応残基を表す請求項６に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
8. 前記金属酸化物粒子は、アルミナ粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子およびジルコニア粒子からなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物粒子である請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
9. 前記金属酸化物粒子の平均粒子サイズは、２５〜２００ｎｍの範囲である請求項１〜７のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
10. 前記溶媒は、有機溶媒を含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
11. 前記溶媒は、ケトン溶媒を含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
12. 結合剤を更に含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
13. 前記結合剤は、ポリウレタン樹脂および塩化ビニル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の樹脂を含む請求項１２に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
14. 塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の調製に使用される請求項１〜１３のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
15. 前記ポリエステル化合物を、金属酸化物粒子１００．０質量部に対して１．０〜５０．０質量部含む請求項１〜１４のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物。
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物を、強磁性粉末と混合することを含む、塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法。
17. 前記混合を、前記強磁性粉末、溶媒および結合剤を含む磁性液を、前記塗布型磁気記録媒体製造用金属酸化物粒子分散物と混合することによって行う請求項１６に記載の塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物の製造方法。
18. 請求項１６または１７に記載の製造方法によって磁性層形成用組成物を製造すること、および
    製造した磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布する工程を経て磁性層を形成すること、
    を含む塗布型磁気記録媒体の製造方法。