JP2017068509A

JP2017068509A - 透明導電性フィルムおよびそのムラ抑制方法

Info

Publication number: JP2017068509A
Application number: JP2015192185A
Authority: JP
Inventors: 徹梅本; Toru Umemoto; 勝則高田; Katsunori Takada; 尚樹橋本; Naoki Hashimoto; 和宏猪飼; Kazuhiro Igai; 寛之鷹尾; Hiroyuki Takao
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2015-09-29
Filing date: 2015-09-29
Publication date: 2017-04-06

Abstract

【課題】本発明の目的は、反射率を低減しつつ、色ムラの視認を抑制できる透明導電性フィルム、および、色ムラの抑制方法を提供すること。
【解決手段】
透明導電性フィルム１は、透明基材２と、樹脂層３と、光学調整層４と、透明導電層５とを順に備える。光学調整層４の屈折率は、１．６０以上１．７０以下、光学調整層４の厚みが、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下であり、透明導電層５の屈折率は、１．８５以上２．００以下、透明導電層５の厚みが、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下である。透明導電性フィルム１について、前後方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、左右方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を測定し、得られた１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する割合が、１．１５未満である。
【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルムおよびそのムラ抑制方法、詳しくは、タッチパネル用フィルムなどに用いられる透明導電性フィルムおよびそのムラを抑制する方法に関する。

従来から、画像表示装置は、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などからなる透明配線層が形成されたタッチパネル用フィルムを備えることが知られている。タッチパネル用フィルムは、一般的に、ＩＴＯ層などを透明基材に積層した透明導電性フィルムにおいて、ＩＴＯ層を配線パターンにパターニングすることにより製造される。

このような透明導電性フィルムでは、ＩＴＯ層が透明基材に対して屈折率が大きく異なるため、ＩＴＯ層の配線パターンが視認される場合がある。この視認を抑制するために、ＩＴＯ層と透明基材との間に、光学調整層を配置することが知られている（特許文献１参照。）。

特開２０１３−２５７３７号公報

しかるに、透明導電性フィルムには、視認性の観点から、反射率が低いものが求められている。

しかしながら、透明導電性フィルムの反射率を低くすると、透明導電性フィルムは完全無色透明ではないため、フィルム表面の色の濃淡（色ムラ）が視認され易くなる。特に、光学調整層を配置した透明導電性フィルムでは、光学調整層の厚みのばらつきなどから、色ムラの不具合が発生し易い。

本発明の目的は、反射率を低減しつつ、ムラの視認を抑制できる透明導電性フィルム、および、ムラの抑制方法を提供することにある。

本発明は、
［１］透明基材と、樹脂層と、光学調整層と、透明導電層とを順に備える透明導電性フィルムであって、前記光学調整層の屈折率が、１．６０以上１．７０以下、前記光学調整層の厚みが、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下であり、前記透明導電層の屈折率が、１．８５以上２．００以下、前記透明導電層の厚みが、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、前記透明導電性フィルムについて、厚み方向に対して直交する第１方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、前記厚み方向および前記第１方向に対して直交する第２方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を測定し、得られた１５点の前記反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する割合が、１．１５未満である、透明導電性フィルム、
［２］反射色相ｂ^＊が、−２７．０以上−１５．０以下であり、反射率が、１．８％以下である、上記［１］に記載の透明導電性フィルム、
［３］基材と、樹脂層と、光学調整層と、透明導電層とを順に備える透明導電性フィルムのムラを抑制する方法であって、前記光学調整層の屈折率を、１．６０以上１．７０以下に、前記光学調整層の厚みを、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下に設定し、前記透明導電層の屈折率を、１．８５以上２．００以下に、前記透明導電層の厚みを、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下に設定し、前記透明導電性フィルムについて、厚み方向に対して直交する第１方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、前記厚み方向および前記第１方向に対して直交する第２方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を測定し、得られた１５点の前記反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する割合を、１．１５未満に設定する、透明導電性フィルムのムラ抑制方法
である。

本発明のムラの抑制方法によって設定される透明導電性フィルムは、反射率を低減しつつ、色ムラの視認を抑制することができる。

図１は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の側断面図を示す。図２は、本発明の透明導電性フィルムの反射色相差を測定する際の測定サンプルの側断面図を示す。図３は、図２の測定サンプルの平面図を示す。図４は、本発明の透明導電性フィルムの他の実施形態（透明基材の下面に透明導電層を備えない実施形態）の側断面図を示す。

図３において、紙面上下方向は、前後方向（第１方向）であって、紙面上側が、前側（第１方向一方側）、紙面下側が、後側（第１方向他方側）である。紙面左右方向は、左右方向（第１方向に直交する第２方向、幅方向）であって、紙面左側が、左側（第２方向一方側）、紙面右側が、右側（第２方向他方側）である。また、紙面紙厚方向は、上下方向（第１方向および第２方向に直交する第３方向、厚み方向）であって、紙面手前側が上側（第３方向一方側）、紙面奥側が下側（第３方向他方側）である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。

１．透明導電性フィルム
透明導電性フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）を有し、厚み方向と直交する所定方向（面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などの一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム１は、画像表示装置などを作製するための部品であり、ＬＣＤモジュールなどの画像表示素子を含まず、後述する透明基材２と樹脂層３と光学調整層４と透明導電層５とからなり、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、図１に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、その両面に、樹脂層３と、光学調整層４と、透明導電層５とを順に備える。より具体的には、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上面に配置される第１樹脂層３Ａ、第１樹脂層３Ａの上面に配置される第１光学調整層４Ａと、第１光学調整層４Ａの上面に配置される第１透明導電層５Ａと、透明基材２の下面に配置される第２樹脂層３Ｂと、第２樹脂層３Ｂの下面に配置される第２光学調整層４Ｂと、第２光学調整層４Ｂの下面に配置される第２透明導電層５Ｂとを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層５Ｂ、第２光学調整層４Ｂ、第２樹脂層３Ｂ、透明基材２、第１樹脂層３Ａ、第１光学調整層４Ａおよび第１透明導電層５Ａを備える。

透明導電性フィルム１は、好ましくは、透明基材２と、樹脂層３（第１樹脂層３Ａおよび第２樹脂層３Ｂ）と、光学調整層４（第１光学調整層４Ａおよび第２光学調整層４Ｂ）と、透明導電層５（第１透明導電層５Ａおよび第２透明導電層５Ｂ）とからなる。以下、各層について詳述する。

２．透明基材
透明基材２は、透明導電性フィルム１の機械強度を確保する基材である。透明基材２は、透明導電層５を、樹脂層３および光学調整層４とともに、支持している。

透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。透明性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＰＥＴ、ＣＯＰが挙げられる。

透明基材２の厚みは、機械的強度、耐擦傷性、透明導電性フィルム１をタッチパネル用フィルムとした際の打点特性などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。透明基材２の厚みは、例えば、マイクロゲージ式厚み計を用いて測定することができる。

なお、透明基材２の上面および／または下面には、必要に応じて、ブロッキング防止層、易接着層、接着剤層などが設けられていてもよい。

３．第１樹脂層
第１樹脂層３Ａは、複数の透明導電性フィルム１を積層した場合などに、透明導電層５の表面（すなわち、第１透明導電層５Ａの上面、第２透明導電層５Ｂの下面）に擦り傷を生じにくくするための擦傷保護層（ハードコート層）である。また、第１樹脂層３Ａは、第１透明導電層５Ａを配線パターンにエッチングした後に、パターン部と、パターン部が形成されていない非パターン部との相違が認識されないように（すなわち、配線パターンの視認を抑制するように）、後述する第１光学調整層４Ａとともに、透明導電性フィルム１の屈折率を調整する屈折率調整層となる場合もある。

第１樹脂層３Ａは、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、例えば、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面に接触するように、配置されている。より具体的には、第１樹脂層３Ａは、透明基材２と第１光学調整層４Ａとの間に、透明基材２の上面および第１光学調整層４Ａの下面に接触するように、配置されている。

第１樹脂層３Ａは、例えば、樹脂組成物から形成される樹脂層である。

樹脂組成物は、例えば、樹脂を含有し、好ましくは、樹脂からなる。

樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。

硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。

また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などが挙げられる。

樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。

また、樹脂組成物は、樹脂に加えて、粒子を含有することができる。

粒子としては、第１樹脂層３Ａの求める耐擦傷性、屈折率などに応じて好適な材料を選択することができ、例えば、後述する第１光学調整層４Ａで例示する粒子を用いることができる。

第１樹脂層３Ａの厚みは、耐擦傷性、配線パターンの視認抑制の観点から、例えば、１００ｎｍ以上、好ましくは、５００ｎｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。

第１樹脂層３Ａの厚みは、例えば、フィルムの反射干渉スペクトルの波形を基に算出される。測定には、例えば、瞬間マルチ測光システム（ＭＣＰＤ２０００、大塚電子社製）などを用いることができる。

４．第１光学調整層
第１光学調整層４Ａは、第１樹脂層３Ａとともに、第１透明導電層５Ａにおける配線パターンの視認を抑制しつつ、透明導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、透明導電性フィルム１の光学物性（例えば、屈折率）を調整する層である。

第１光学調整層４Ａは、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、例えば、第１樹脂層３Ａの上面全面に、第１樹脂層３Ａの上面に接触するように、配置されている。より具体的には、第１光学調整層４Ａは、第１樹脂層３Ａと第１透明導電層５Ａとの間に、第１樹脂層３Ａの上面および第１透明導電層５Ａの下面に接触するように、配置されている。

第１光学調整層４Ａは、光学調整組成物から形成される樹脂層である。

光学調整組成物は、例えば、樹脂を含有する。光学調整組成物は、好ましくは、樹脂と、粒子とを含有し、より好ましくは、樹脂と粒子とからなる。

樹脂としては特に限定されないが、樹脂組成物で用いる樹脂と同一のものが挙げられる。樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。

樹脂の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、１０質量％以上、好ましくは、２５質量％以上であり、また、例えば、９５質量％以下、好ましくは、６０質量％以下である。

粒子としては、第１光学調整層４Ａの求める屈折率に応じて好適な材料を選択することができ、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫などからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。

粒子としては、好ましくは、無機粒子、より好ましくは、金属酸化物粒子、さらに好ましくは、酸化ジルコニウム粒子（ＺｎＯ_２）が挙げられる。

粒子の平均粒子径（メジアン径）は、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。

粒子の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、５質量％以上、好ましくは、４０質量％以上であり、また、例えば、９０質量％以下、好ましくは、７５質量％以下である。

第１光学調整層４Ａの屈折率は、１．６０以上１．７０以下である。好ましくは、１．６０以上１．６５以下である。

本明細書において、屈折率は、分光エリプソメーターにより測定される。

第１光学調整層４Ａの厚みは、例えば、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下である。好ましくは、１２０ｎｍ以上１３５ｎｍ以下である。厚みを上記下限以上とすることにより、それにより薄い場合と比較して、反射色相ｂ^＊を低くすることができ、色ムラの視認を抑制することができる。また、厚みを上記上限以下とすることにより反射率を良好にすることができる。

第１光学調整層４Ａの厚みは、例えば、分光エリプソメーターにより測定することができる。

第１光学調整層４Ａの屈折率および厚みを上記範囲に設定することにより、透明導電性フィルム１の反射率を低減することができる。また、上記範囲では、後述する反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の変化を抑制することができ、後述する色相割合を１．１５未満に好適に設定することができる。

５．第１透明導電層
第１透明導電層５Ａは、後工程で配線パターンに形成して、パターン部を形成するための導電層である。

第１透明導電層５Ａは、透明導電性フィルム１の最上層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、第１光学調整層４Ａの上面全面に、第１光学調整層４Ａの上面に接触するように、配置されている。

第１透明導電層５Ａの材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。

第１透明導電層５Ａの材料は、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。

第１透明導電層５Ａの材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ_２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。酸化スズの含有量を上記下限以上とすることにより、ＩＴＯ層の耐久性をより一層良好にすることができる。酸化スズの含有量を上記上限以下とすることにより、ＩＴＯ層の結晶転化を容易にし、透明性や比抵抗の安定性を向上させることができる。

本明細書中における「ＩＴＯ」とは、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。

第１透明導電層５Ａの屈折率は、１．８５以上２．００以下である。好ましくは、１．８５以上１．９５以下である。

第１透明導電層５Ａの厚みは、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下である。好ましくは、２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。

第１透明導電層５Ａの厚みは、例えば、分光エリプソメーターにより測定することができる。

第１透明導電層５Ａの屈折率および厚みを上記範囲に設定することにより、透明導電性フィルム１の反射率を低減することができる。また、上記範囲では、後述する反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の変化を抑制することができ、後述する色相割合を１．１５未満に好適に設定することができる。

第１透明導電層５Ａは、結晶質および非晶質のいずれであってもよく、また、結晶質および非晶質の混合体であってもよい。第１透明導電層５Ａは、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。これにより、第１透明導電層５Ａの透明性を向上させ、また、第１透明導電層５Ａの比抵抗値をより一層低減させることができる。

透明導電層５（第１透明導電層５Ａおよび第２透明導電層５Ｂ）が結晶質膜であることは、例えば、透明導電層５がＩＴＯ層である場合は、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。本明細書においては、塩酸（２０℃、濃度：５質量％）への浸漬・水洗・乾燥後に、１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以下である場合、ＩＴＯ層が結晶質であるものとする。

６．第２樹脂層
第２樹脂層３Ｂは、透明基材２の下面全面に、透明基材２の下面に接触するように、配置されている。より具体的には、第２樹脂層３Ｂは、透明基材２と第２光学調整層４Ｂとの間に、透明基材２の下面および第２光学調整層４Ｂの上面に接触するように、配置されている。

第２樹脂層３Ｂは、第１樹脂層３Ａと同様の層であり、例えば、第１樹脂層３Ａで上述したものと同一のものが挙げられる。

７．第２光学調整層
第２光学調整層４Ｂは、第２樹脂層３Ｂの下面全面に、第２樹脂層３Ｂの下面に接触するように、配置されている。より具体的には、第２光学調整層４Ｂは、第２樹脂層３Ｂと第２透明導電層５Ｂとの間に、第２樹脂層３Ｂの下面および第２透明導電層５Ｂの上面に接触するように、配置されている。

第２光学調整層４Ｂは、第１光学調整層４Ａと同様の層であり、例えば、第１光学調整層４Ａで上述したものと同一のものが挙げられる。

８．第２透明導電層
第２透明導電層５Ｂは、透明導電性フィルム１の最下層であって、第２光学調整層４Ｂの下面全面に、第２光学調整層４Ｂの下面に接触するように、配置されている。

第２透明導電層５Ｂは、第１透明導電層５Ａと同様の層であり、例えば、第１透明導電層５Ａで上述したものと同一のものが挙げられる。

９．透明導電性フィルムの製造方法
次いで、透明導電性フィルム１を製造する方法を説明する。

透明導電性フィルム１を製造するには、例えば、透明基材２の両面に、樹脂層３、光学調整層４および透明導電層５を順に設ける。すなわち、透明基材２の上面に第１樹脂層３Ａ、その下面に第２樹脂層３Ｂを設け、次いで、第１樹脂層３Ａの上面に第１光学調整層４Ａ、第２樹脂層３Ｂの下面に第２光学調整層４Ｂを設け、次いで、第１光学調整層４Ａの上面に第１透明導電層５Ａ、第２光学調整層４Ｂの下面に第２透明導電層５Ｂを設ける。以下、詳述する。

まず、公知または市販の透明基材２を用意する。

その後、必要に応じて、透明基材２と樹脂層３との密着性の観点から、透明基材２の表面に、例えば、スパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を実施することができる。また、溶剤洗浄、超音波洗浄などにより透明基材２を除塵、清浄化することができる。

次いで、透明基材２の両面に、樹脂層３を設ける。例えば、透明基材２の両面に樹脂組成物を湿式塗工することにより、透明基材２の上面に第１樹脂層３Ａ、透明基材２の下面に第２樹脂層３Ｂを形成する。

具体的には、例えば、樹脂組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製し、続いて、希釈液を透明基材２の両面に塗布して、希釈液を乾燥する。

溶媒としては、例えば、有機溶媒、水系溶媒（具体的には、水）などが挙げられ、好ましくは、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール化合物、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン化合物、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）などのエーテル化合物、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物などが挙げられる。これら溶媒は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、エステル化合物、エーテル化合物が挙げられる。

希釈液における固形分濃度は、例えば、１質量％以上、好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。

塗布方法としては希釈液および透明基材に応じて適宜選択することができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。

乾燥温度は、例えば、５０℃以上、好ましくは、６０℃以上、より好ましくは、７０℃以上であり、例えば、２００℃以下、好ましくは、１５０℃以下、より好ましくは、１００℃以下である。

乾燥時間は、例えば、０．５分以上、好ましくは、１分以上であり、例えば、６０分以下、好ましくは、２０分以下である。

上記した塗布および乾燥により、透明基材２の上面に、樹脂組成物をフィルム形状に形成する。

その後、樹脂組成物の樹脂が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、希釈液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。

なお、樹脂組成物の樹脂として、熱硬化性樹脂を含有する場合は、この乾燥工程により、溶媒の乾燥とともに、熱硬化性樹脂を熱硬化することができる。

次いで、樹脂層３が両面に形成された透明基材２の両面に光学調整層４を設ける。例えば、樹脂層３（第１樹脂層３Ａ、第２樹脂層３Ｂ）の表面に光学調整組成物を湿式塗工することにより、第１樹脂層３Ａの上面に第１光学調整層４Ａ、第２樹脂層３Ｂの下面に第２光学調整層４Ｂを形成する。

具体的には、例えば、必要に応じて光学調整組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製し、続いて、希釈液を第１樹脂層３Ａの上面および第２樹脂層３Ｂの下面に塗布して、希釈液を乾燥する。

光学調整組成物の調製、塗布、乾燥などの条件は、樹脂組成物で例示した調製、塗布、乾燥などの条件と同一のものが挙げられる。

特に、光学調整組成物の塗布および乾燥において、蒸発する溶媒を効率よく排気するために、塗布から乾燥までの間に、光学調整組成物（塗布膜）に向かって送風を実施してもよいが、本発明では、反射色相差の低減の観点から、好ましくは、塗布から乾燥までの間、無風状態または微風状態とする。具体的には、光学調整組成物に対する風（空気）の速度が、垂直方向において、例えば、１．０ｍ／ｓ未満、好ましくは、０．５ｍ／ｓ未満、より好ましくは、０．１ｍ／ｓ未満である。

また、樹脂組成物の樹脂が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、希釈液の乾燥後に、活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させる。

次いで、光学調整層４が両面に形成された透明基材２の両面に透明導電層５を設ける。例えば、乾式方法により、第１光学調整層４Ａの上面に第１透明導電層５Ａ、第２光学調整層４Ｂの下面に第２透明導電層５Ｂを形成する。

乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法によって薄膜の透明導電層５を形成することができる。

スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、透明導電層５を構成する上述の無機物が挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、ＩＴＯ層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。

スパッタガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。

スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．１Ｐａ以上０．７Ｐａ以下である。

スパッタリング法に用いる電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。

また、所望厚みの透明導電層５を形成するために、ターゲット材やスパッタリングの条件などを適宜設定して複数回スパッタリングを実施してもよい。

これにより、透明導電性フィルム１が得られる。

次いで、必要に応じて、透明導電性フィルム１の透明導電層５（第１透明導電層５Ａおよび第２透明導電層５Ｂ）に対して、結晶転化処理を実施する。

具体的には、透明導電性フィルム１に大気下で加熱処理を実施する。

加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。

加熱温度は、例えば、１００℃以上、好ましくは、１２０℃以上であり、また、例えば、２００℃以下、好ましくは、１６０℃以下である。加熱温度を上記範囲内とすることにより、透明基材２の熱損傷および透明基材２から発生する不純物を抑制しつつ、結晶転化を確実にすることができる。

加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、１０分以上、好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、５時間以下、好ましくは、３時間以下である。

これにより、結晶化された透明導電層５を備える透明導電性フィルム１が得られる。

なお、必要に応じて、結晶転化処理の前または後に、公知のエッチング手法によって透明導電層５をストライプ状などの配線パターンに形成してもよい。

なお、上記製造方法では、透明基材２の両面に、樹脂層３、光学調整層４および透明導電層５をそれぞれ同時に形成していたが、例えば、透明基材２の上面に第１樹脂層３Ａ、第１光学調整層４Ａおよび第１透明導電層５Ａを順に設けた後に、続いて、透明基材２の下面に第２樹脂層３Ｂ，第２光学調整層４Ｂおよび第２透明導電層５Ｂを順に形成してもよい。

また、上記製造方法では、ロールトゥロール方式にて、透明基材２を搬送させながら、その透明基材２の上面に、樹脂層３、光学調整層４および透明導電層５を順に形成してもよく、また、これらの層の一部または全部をバッチ方式（枚葉方式）にて形成してもよい。

ロールトゥロール方式にて透明導電性フィルム１を作製する場合、図１〜図３において、好ましくは、前後方向を搬送方向（塗工方向）に対応させ、左右方向をロールの幅方向に対応させる。

得られる透明導電性フィルム１の総厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。

透明導電性フィルム１では、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ））の、最小値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｘ））に対する割合（色相割合；Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ）／（Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））が、１．１５未満である。好ましくは、１．１０以下、より好ましくは、１．０５以下であり、また、例えば、１．００以上である。これにより、透明導電性フィルム１の色ムラの視認を抑制することができる。

反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ）および最小値Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ）は、以下の１〜８の手順に従って求めることができる。

１．まず、図２に示すように、透明導電性フィルム１の上面に粘着剤層６を介して測定用透明基材７を貼付し、透明導電性フィルム１の下面に黒板８を配置して、測定用積層体を得る。続いて、測定用積層体を前後方向１５ｃｍおよび左右方向２５ｃｍに切断して、測定サンプル１０を作製する。

２．次いで、図３に示すように、測定サンプル１０において、前後方向５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、左右方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点を測定点１１とする。なお、ピッチは、互いに隣り合う測定点１１の距離と測定点１１の直径との合計である。

３．一方、黒板８の上面に粘着剤層６を介して測定用透明基材７を貼付して、参照用積層体（黒板８／粘着剤層６／透明基材７）を得る。続いて、参照用積層体を前後方向１５ｃｍおよび左右方向２５ｃｍに切断して、参照サンプルを作製する。

４．次いで、参照サンプルにおいて、測定サンプル１０と同様に、前後方向５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、左右方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点を測定点とする。

５．次いで、測定サンプル１０において、各測定点１１に対し、分光光度計（反射モード）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲で５ｎｍ間隔に反射率を測定する（全８１点）。同様にして、参照サンプルにおいても、各測定点に対し、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲で５ｎｍ間隔に反射率を測定する（全８１点）。

８１点の各波長ごとに、測定サンプル１０の反射率から参照サンプルの反射率を差し引いて、反射スペクトルを得る。

なお、得られた反射スペクトルが、最上面および最下面における反射を除外した透明導電性フィルム単体の反射スペクトルとなる。

６．次いで、得られた反射スペクトルを用いて、３８０〜７８０ｎｍ全領域における反射率、および、反射色相（ａ^＊、ｂ^＊）を求める。

７．反射色相（ａ^＊、ｂ^＊）から、下記式（１）を用いて、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を算出する。

Δａ^＊ｂ^＊＝｛（ａ^＊）^２＋（ｂ^＊）^２｝^１／２（１）
８．上記手順５〜７に基づいて測定点１５点ごとの反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を得、これら１５の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の中で、最大のものを最大値Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ）と認定し、最小のものを最小値Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ）と認定する。

反射色相ｂ^＊は、例えば、−２７．０以上、好ましくは、−２５．０以上であり、また、−１５．０以下、好ましくは、−２０．０以下である。反射色相ｂ^＊を上記範囲とすることにより、透明導電性フィルム１の色味を僅かに全体的に青色にすることにできる。そのため、透明導電性フィルム１の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の変化が緩やかな構造とすることができる。その結果、色相割合を１．１５未満に好適に調整することができる。

反射色相ｂ^＊は、反射光により求めた色相であって、具体的には、上記手順６にて求められる反射色相ｂ^＊の、測定点１５点における平均値である。

また、透明導電性フィルム１の反射率は、例えば、１．８％以下、好ましくは、１．５％以下である。

透明導電性フィルム１の反射率は、上記手順６にて測定される３８０〜７８０ｎｍの反射率の、測定点１５点における平均値である。

そして、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、その両面に樹脂層３（第１樹脂層３Ａおよび第２樹脂層３Ｂ）と、光学調整層４（第１光学調整層４Ａおよび第２光学調整層４Ｂ）と、透明導電層５（第１透明導電層５Ａおよび第２透明導電層５Ｂ）とを順に備えている。また、光学調整層４の屈折率が、１．６０以上１．７０以下、光学調整層４の厚みが、１２０ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下であり、透明導電層５の屈折率が、１．８５以上２．００以下、透明導電層５の厚みが、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下である。
このため、透明導電性フィルム１の反射率を低減することができる。また、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の変化を緩やかにすることができる。

また、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する色相割合（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ）／Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））が、１．１５未満である。このため、透明導電性フィルム１の色ムラの視認を抑制することができる。

この透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材に用いられる。タッチパネルの形式としては、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。

また、透明導電性フィルムのムラを抑制する方法は、このような構成となる透明導電性フィルム１となるように透明導電性フィルムを製造することである。すなわち、ムラの抑制方法は、光学調整層４の屈折率を１．６０以上１．７０以下、その厚みを１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下に設定し、透明導電層５の屈折率を１．８５以上２．００以下、その厚みを２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下に設定し、かつ、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する色相割合（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ）／Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））を１．１５未満に設定する工程を備える。これにより、得られる透明導電性フィルム１の反射率を低減することができ、かつ、透明導電性フィルム１の色ムラの視認を抑制することができる。

（変形例）
図１の実施形態では、透明導電性フィルム１は、透明基材２の両面に、樹脂層３、光学調整層４および透明導電層５をこの順に備えるが、例えば、透明基材２の上面または下面にのみに、樹脂層３、光学調整層４および透明導電層５を備えていてもよい。

具体的には、例えば、図４に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２の上面に、第１樹脂層３Ａ、第１光学調整層４Ａおよび第１透明導電層５Ａを備える一方、透明基材２の下面には、第２樹脂層３Ｂ、第２光学調整層４Ｂおよび第２透明導電層５Ｂを備えなくてもよい。

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

実施例１
透明基材として、厚み１００μｍからなる長尺なシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ１６」）を用いた。

紫外線硬化性樹脂（ＤＩＣ社製、「ユニディックＲＳ２９−１２０」）を酢酸エチルで希釈した樹脂組成物を、ＣＯＰフィルムの両面にグラビアコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化処理を実施した。これにより、厚み１０００ｎｍの樹脂層（ハードコート層）をＣＯＰフィルムの両面に形成した。

次いで、樹脂層形成ＣＯＰフィルムの両面に、屈折率調整剤として、紫外線硬化性樹脂４７質量部、酸化ジルコニア粒子（メジアン径４０ｎｍ）５７質量部およびＰＧＭＥを含有した光学調整組成物（ＪＳＲ社製、「オプスターＺ７４１２」、固形分１２質量％）をグラビアコーターを用いて塗布し、無風状態（０．１ｍ／ｓ未満）で直ちに６０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化処理を実施した。これにより、厚み１３０ｎｍで屈折率１．６２の光学調整層を、樹脂層形成ＣＯＰフィルムの両面に形成した。

次いで、光学調整層−樹脂層形成ＣＯＰフィルムを、巻き取り式スパッタ装置に投入し、光学調整層−樹脂層形成ＣＯＰフィルムの両面に、厚み２５ｎｍで屈折率１．９０のインジウム・スズ酸化物層を積層した。なお、スパッタリングの条件としては、アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７質量％−酸化スズ３質量％からなる焼結体を用いてスパッタリングを実施した。

これにより透明導電性フィルムを製造した（図１参照）。

実施例２
光学調整層の厚みを１２０ｎｍに変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを製造した。

実施例３
光学調整層の厚みを１４０ｎｍに変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを製造した。

比較例１
光学調整層の厚みを１１０ｎｍに変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを製造した。

比較例２
光学調整層の厚みを１５０ｎｍに変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを製造した。

比較例３
光学調整組成物をフィルムに塗布した後に室温雰囲気（２５℃）の風を１．４ｍ／ｓの速度で光学調整組成物の塗布膜に対して垂直方向に１０秒間当て、その後６０℃で１分間加熱乾燥した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを製造した。

（評価）
各実施例および各比較例で得られた透明導電性フィルムについて下記の評価を実施した。結果を表１に示す。

（厚みの測定）
透明基材の厚みは、マイクロゲージ式厚み計（ミツトヨ社製）を用いて測定した。樹脂層の厚みは、瞬間マルチ測光システム（ＭＣＰＤ２０００、大塚電子社製）を用いて測定した。光学調整層および透明導電層の厚みは、分光エリプソメーター（ジェー・エー・ウーラム社製）を用いて測定した。

（屈折率の測定）
樹脂層および光学調整層の屈折率は、分光エリプソメーター（ジェー・エー・ウーラム社製）を用いて測定した。

（色相割合の測定）
反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ））および最小値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））は、以下の１〜８の手順に従って求めた。

１．まず、各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの上面に粘着剤層（アクリル系接着剤、日東電工社製、「型番Ｎｏ．７」、厚み２５μｍ）を介してシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ１６」、厚み１００μｍ）を貼付し、透明導電性フィルムの下面にアクリル黒板（日東樹脂社製、「ブラックアクリル：ノーマルＦＬＡＴＮ−８８５」、厚み１μｍ）を配置して、測定用積層体を得た。続いて、測定用積層体を前後方向（塗工方向）１５ｃｍおよび左右方向（幅方向）２５ｃｍに切断して、測定サンプルを作製した（図２参照）。

２．次いで、測定サンプルにおいて、前後方向５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、左右方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点を測定点とした（図３参照）。

３．一方、アクリル黒番（上記と同一）の上面に粘着剤層（上記と同一）を介してシクロオレフィンポリマーフィルム（上記と同一）を貼付して、参照用積層体を得た。続いて、参照用積層体を前後方向１５ｃｍおよび左右方向２５ｃｍに切断して、参照サンプルを作製した。

４．次いで、参照サンプルにおいて、測定サンプルと同様に、前後方向５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、左右方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点を測定点とした。

５．次いで、測定サンプルにおいて、各測定点に対し、分光光度計（日立分光社製、「Ｕ４１００」）を用いて、３８０〜７８０の波長範囲で５ｎｍ間隔に反射率を測定した（全８１点）。同様にして、参照サンプルにおいて、各測定点に対し、３８０〜７８０の波長範囲で５ｎｍ間隔に反射率を測定した（全８１点）。なお、測定モードは、反射モードとした。

８１点の各波長ごとに、測定サンプルの反射率から参照サンプルの反射率を差し引いて、反射スペクトルを得た。

６．次いで、得られた反射スペクトルを用いて、３８０〜７８０ｎｍ全領域における反射率、および、反射色相（ａ^＊、ｂ^＊）を求めた。

なお、３８０〜７８０ｎｍ全領域における反射率は、３８０〜７８０ｎｍの範囲で視感度補正して求めた平均反射率とした。また、反射色相は、ＪＩＳＺ８７２２「色の測定方法−反射及び透過物体色」、および、ＪＩＳＺ８７８１−４「測色−第４部：ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間」に記載の方法に準拠して求めた。色相算出に用いる光源は、Ｄ６５光源とした。

７．求めた反射色相（ａ^＊、ｂ^＊）から、下記式（１）を用いて、反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を算出した。

Δａ^＊ｂ^＊＝｛（ａ^＊）^２＋（ｂ^＊）^２｝^１／２（１）
８．上記手順５〜７に基づいて測定点１５点ごとの反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を得た。これら１５の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊の中で、最大のものを最大値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ））と認定し、最小のものを最小値（Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））と認定した。

手順１〜８によって得られた最大値および最小値から、色相割合（Δａ^＊ｂ^＊（ｍａｘ））／（Δａ^＊ｂ^＊（ｍｉｎ））を計算した。

（反射色相ｂ^＊の測定）
上記手順６にて求めた測定点１５点における反射色相ｂ^＊の平均値を算出した。

（反射率の測定）
上記手順６にて測定した測定点１５点における反射率（波長域３８０〜７８０ｎｍ）の平均値を算出した。

（色ムラの評価）
色ムラをより視認しやすくするため、各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの最上面（視認側面）に粘着剤層（上記と同一）を介して反射防止ＡＲフィルム（大日本印刷社製、「ＤＳＣ０３」）を貼付し、透明導電性フィルムの最下面にアクリル黒板（上記と同一）を配置した。なお、透明導電性フィルムのサイズは、前後方向（塗工方向）５００ｍｍ、左右方向（幅方向）２５０ｍｍとした。

次いで、ＬＥＤライドに白色拡散板を取付けた照明の下で、透明導電性フィルムの上方から透明導電性フィルムを観察した。なお、照度は、２５００ｌｕｘとした。

色ムラが目視できなかった場合を○と評価し、色ムラが目視できた場合を×と評価した。

１透明導電性フィルム
２透明基材
３Ａ第１樹脂層
３Ｂ第２樹脂層
４Ａ第１光学調整層
４Ｂ第２光学調整層
５Ａ第１透明導電層
５Ｂ第２透明導電層

Claims

透明基材と、樹脂層と、光学調整層と、透明導電層とを順に備える透明導電性フィルムであって、
前記光学調整層の屈折率が、１．６０以上１．７０以下、前記光学調整層の厚みが、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下であり、
前記透明導電層の屈折率が、１．８５以上２．００以下、前記透明導電層の厚みが、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、
前記透明導電性フィルムについて、厚み方向に対して直交する第１方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、前記厚み方向および前記第１方向に対して直交する第２方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を測定し、得られた１５点の前記反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する割合が、１．１５未満であることを特徴とする、透明導電性フィルム。
反射色相ｂ^＊が、−２７．０以上−１５．０以下であり、
反射率が、１．８％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
基材と、樹脂層と、光学調整層と、透明導電層とを順に備える透明導電性フィルムのムラを抑制する方法であって、
前記光学調整層の屈折率を、１．６０以上１．７０以下に、前記光学調整層の厚みを、１２０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下に設定し、
前記透明導電層の屈折率を、１．８５以上２．００以下に、前記透明導電層の厚みを、２０ｎｍ以上３５ｎｍ以下に設定し、
前記透明導電性フィルムについて、厚み方向に対して直交する第１方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が隔てられた３つの点からなる列が、前記厚み方向および前記第１方向に対して直交する第２方向に５ｃｍのピッチで互いに間隔が３列隔てられた計１５点の反射色相差Δａ^＊ｂ^＊を測定し、得られた１５点の前記反射色相差Δａ^＊ｂ^＊における最大値の最小値に対する割合を、１．１５未満に設定することを特徴とする、透明導電性フィルムのムラ抑制方法。