JP2017061428A - 1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法 - Google Patents

1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】光学レンズや光学フィルムに代表される光学部材を構成する樹脂(光学樹脂)を形成するモノマーとして好適な、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの工業的製法の提供。【解決手段】原料として1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとエチレンカーボネートとを用いることにより、高純度な1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが、工業的に、かつ高収率で製造可能であることを見出した。【選択図】なし

Description

本発明は、光学レンズや光学フィルムに代表される光学部材を構成する樹脂(光学樹脂)を形成するモノマーとして好適な、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法に関する。
光学部材として、小型化、軽量化が可能で、加工性、生産性に優れる点から樹脂材料が広く用いられており、また、近年の技術の高度化にともない、光学特性だけでなく、耐熱性にも優れた樹脂材料が求められている。近年、芳香族基と環状脂肪族基とを分子内に持ち、カルド構造と呼ばれる立体配置を持ったビスフェノキシエタノールシクロドデカン類を原料とした樹脂材料(例えばポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリエーテルケトン)は、優れた透明性及び耐熱性を有することが報告されている(例えば特許文献1)。また、本願出願人は、ビスフェノキシエタノールシクロドデカン類をはじめとする、シクロアルカン骨格を有するビスフェノキシエタノール類とエピハロヒドリンとを反応して得られるグリシジルエーテル体の硬化物が、近年、先端電子機器分野で要求されている、高周波数領域での低誘電率、低誘電正接といった電気特性に優れることを見出した。(特許文献2)しかしながら、ビスフェノキシエタノールシクロドデカン類の工業的な製造方法は殆ど知られておらず、工業的優位な製造方法の開発が求められていた。
特開2010−189629号公報 特願2015−178124号
本発明の目的は、光学樹脂、電子材料を形成するポリマー用の原料モノマーとして好適な、ビスフェノキシエタノールシクロドデカン類の中でもその製法が殆ど知られていない、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを工業的に有利に製造する方法を提供することにある。
本発明者らは、前記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、原料として1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとエチレンカーボネートとを用いることにより、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを工業的に有利に製造することが可能であることを見出した。具体的には以下の発明を含む。
[1]1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとエチレンカーボネートとを反応させる1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
[2]エチレンカーボネートの使用量が1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し3.1モル以上使用する、[1]記載の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
[3]エチレンカーボネートの使用量が1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し3.1〜4.0モルである、[1]または[2]記載の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
本発明によれば、光学樹脂、電子材料用のモノマーとして好適に用いられる高純度な1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが、工業的に、かつ高収率で製造可能となる。
本発明においては、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとエチレンカーボネートとを反応させて1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを得ることを特徴とする。目的とする1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとは1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネート2モルが反応した化合物であるが、この他に副反応物として1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネート1モルが反応した化合物(以下1モル付加体と記載する場合がある)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネート3モルが反応した化合物(以下3モル付加体と記載する場合がある)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネート4モル以上が反応した化合物(以下4モル以上付加体と記載する場合がある)、目的物が炭酸エステル結合で2モル以上重合した化合物(以下重合体と記載する場合がある)などが生成する。
本発明で使用する1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンは工業的に入手可能な化合物であるが、必要に応じ酸存在下、シクロドデカノンとo−クレゾールとを反応させ製造することもできる。
エチレンカーボネートの使用量として例えば、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し2モル以上、好ましくは3.1モル以上、更に好ましくは3.1モル〜4.0モル使用する。一般的なエチレンカーボネートを用いたビスフェノール類のフェノール性水酸基のエタノール化反応においては、3モル付加体や4モル以上付加体の物性が目的物と近く除去しにくい一方、1モル付加体はフェノール性水酸基が残っている為、物性が異なり除去しやすいことから、できる限りビスフェノール類1モルに対しエチレンカーボネートを2モル前後使用し、できる限り3モル付加体や4モル以上付加体の生成を抑制することが行われている。しかしながら、本発明の1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとの反応においては、3.1モル以上使用しないと、1モル付加体が一定量より減少しないか、もしくは、1モル付加体の減少速度より、3モル付加体の増加速度が上回るため、収率や品質が低下する場合があることが判明した。従って、収率よく、高純度な1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを得る為には、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し、エチレンカーボネートを3.1モル以上使用する。また、エチレンカーボネートの使用量を1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し4.0モル以下とすることにより、3モル付加体や4モル以上付加体の生成が抑制され易くなる。
本反応を実施する際、溶媒は用いても用いなくてもよいが、不活性有機溶媒存在下で反応することにより、より効率的に1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが得られることから好ましい。使用可能な不活性有機溶媒としては例えば、芳香族炭化水素(例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等)、脂肪族炭化水素(例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン等)、ハロゲン化芳香族炭化水素(例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素(例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等)、エーテル類(例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、モノエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等)、ニトリル類(例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル等)、アミド類(ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)が使用可能である。好ましくは、反応後の後処理工程で、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを含む有機層を、溶媒置換をすることなく直接水を用いて洗浄し、反応で用いた無機分等が除去可能であることから疎水性の溶媒が好ましく、特に、トルエン、キシレン、シクロペンチルメチルエーテルが好ましい。不活性有機溶媒を使用する場合の使用量は、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1重量倍に対し0.1〜4重量倍、好ましくは0.5〜2重量倍である。溶媒の使用量を0.1重量倍以上とすることにより、撹拌が容易となることから十分な反応速度を得ることができ、また4重量倍以下とすることにより、反応系の希釈に伴う反応速度の低下を回避することが可能となる。また、不活性有機溶媒は1種、あるいは必要に応じ2種以上混合して使用することもできる。
本反応時、必要に応じ触媒を使用する。使用する触媒は、アルカリ触媒、酸触媒、4級アンモニウム塩のいずれであってもよいが、反応の進行が速く、不純物が少なくなる点からアルカリ触媒が好ましい。アルカリ触媒としては、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられる。中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムが好ましい。酸触媒として例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などが挙げられる。4級アンモニウム塩として例えば、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩等などが挙げられる。触媒は一種、あるいは必要に応じ、同種のもの、またはアルカリ触媒と4級アンモニウム塩、酸触媒と4級アンモニウム塩の組み合わせで2種以上混合して使用しても良い。触媒の使用量は通常、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対して0.01〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.15モルである。触媒の使用量を1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対して0.01モル以上とすることにより、十分な反応速度を得ることができ、使用量を0.2モル以下とすることにより、多量体などの副反応物の生成を抑制することができ、その結果、収率や純度の向上や着色の低減が可能となる。
反応温度は通常、150℃以下、好ましくは140〜40℃、更に好ましくは130〜70℃、特に120〜90℃である。反応温度を150℃以下とすることにより、副反応物の増加による収率低下や色相悪化を低減させることが可能となり、反応温度を40℃以上とすることにより、十分な反応速度を得ることが可能となる。反応は大気下でも実施することができるが、安全性や製品の着色低減の観点から、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。反応は液体クロマトグラフィーなどの分析手段で追跡することができる。
反応後、反応混合物がスラリー状態の場合は溶媒を加えて溶解した後、未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解、除去するためにアルカリ水溶液または/および水で洗浄を行うと良い。さらに必要に応じて脱水、濾過、吸着処理などの後処理操作を適宜施した後、1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンを蒸留、晶析、カラムクロマトグラフィー等の定法により取り出すことができる。また、得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンは必要に応じ、洗浄、吸着、水蒸気蒸留、再晶析などの精製操作を行っても良い。
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下各実施例・参考例においては、下記測定条件にて高速液体クロマトグラフィー(HPLC)測定を行い、得られた面積百分率値を各成分の残存率、生成率及びHPLC純度とした。(但し、反応で使用した溶媒が検出される場合は、溶媒のピークを除いた修正面百値である。)
<HPLC測定条件>
装置:(株)島津製作所製「LC−2010AHT」
カラム:一般財団法人 化学物質評価研究機構製「L−column ODS」
(5μm、4.6mmφ×250mm)
カラム温度:40℃
検出波長:UV 254nm
移動相:A液=30%メタノール、B液=メタノール
移動相流量:1.0ml/分
移動相グラジエント:B液濃度:57%(0分)→57%(10分後)→85%(20分後)→85%(30分後)→100%(35分後)→100%(55分後)
(実施例1)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート28.5g(0.324mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびトルエン38gを仕込み、120℃まで昇温し、120℃で16時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが70.8%、3モル付加体が4.9%、重合体が19.3%生成していた。この反応混合液を濃縮し、トルエンを留去した後、シクロペンチルメチルエーテル570gを加えて希釈し、更に6%水酸化ナトリウム水溶液48gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶40.3g(収率86.0%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は97.0%、3モル付加体の含量は1.3%であった。
(実施例2)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート28.5g(0.324mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で10時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン0.2%、1モル付加体の残量は1.6%であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが67.6%、3モル付加体が5.4%、重合体が17.4%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に29%水酸化ナトリウム水溶液15gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶41.8g(収率89.2%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は97.4%、3モル付加体の含量は1.8%、1モル付加体の含量は0.5%であった。
(実施例3)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート30.8g(0.350mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で6時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが77.0%、3モル付加体が4.3%、重合体が14.4%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に29%水酸化ナトリウム水溶液15gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶42.3g(収率90.3%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は98.1%、3モル付加体の含量は1.3%であった。
(実施例4)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート34.9g(0.396mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、120℃まで昇温し、120℃で7.5時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが66.5%、3モル付加体が6.3%、重合体が19.0%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に8%水酸化ナトリウム水溶液57gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶40.9g(収率87.3%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は97.1%、3モル付加体の含量は2.7%であった。
(実施例5)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート37.0g(0.420mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で6時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが69.2%、3モル付加体が10.6%、重合体が13.3%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に8%水酸化ナトリウム水溶液57gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶39.0g(収率83.3%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は95.1%、3モル付加体の含量は4.7%であった。
(実施例6)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート39.6g(0.450mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で6時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが64.5%、3モル付加体が11.5%、重合体が14.0%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に8%水酸化ナトリウム水溶液57gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶38.0g(収率は81.1%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は94.8%、3モル付加体の含量は5.0%であった。
(実施例7)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート44.0g(0.500mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で6時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン及び1モル付加体の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが60.4%、3モル付加体が16.2%、重合体が11.2%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に8%水酸化ナトリウム水溶液57gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶36.1g(収率77.0%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は92.5%、3モル付加体の含量は6.9%であった。
(実施例8)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート26.1g(0.297mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびトルエン38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で28時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが0.5%、1モル付加体が16.5%残存しており、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが62.0%、3モル付加体が1.3%、重合体が14.1%生成していた。この反応混合液を濃縮し、トルエンを留去した後、シクロペンチルメチルエーテル570gを加え、更に6%水酸化ナトリウム水溶液48gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶28.4g(収率60.6%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は96.0%、3モル付加体の含量は0.1%、1モル付加体の含量は2.6%であった。
(実施例9)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)38.1g(0.100mol)、エチレンカーボネート22.0g(0.250mol)、炭酸カリウム1.9g(0.014mol)およびシクロペンチルメチルエーテル38gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で6時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンは0.1%以下となっていたが、1モル付加体が16.6%残存しており、また、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが70.4%、3モル付加体が1.5%、重合体が9.6%生成していた。そこで、1モル付加体を更に減らす為、さらに9時間(合計15時間)同温度で撹拌を継続した。反応後、反応液をHPLCにて分析したところ、1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの1モル付加体の残量は0.1%以下となり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンが71.5%、3モル付加体が19.4%、重合体が1.8%生成していた。この反応混合液にシクロペンチルメチルエーテル380gを加え、更に8%水酸化ナトリウム水溶液57gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの白色結晶33.9g(収率72.4%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は90.4%、3モル付加体は8.3%であった。
(参考例1)
攪拌器、冷却器、および温度計を備えたガラス製反応器に、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン(田岡化学工業(株)製)35.3g(0.100mol)、エチレンカーボネート19.4g(0.220mol)、炭酸カリウム1.8g(0.013mol)およびトルエン18gを仕込み、115℃まで昇温し、115℃で17時間反応した。反応液をHPLCにて分析したところ、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン及び1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカンに対しエチレンカーボネートが1モル付加した化合物の残量は0.1%以下であり、目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシフェニル)シクロドデカンが93.3%、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネートが3モル付加した化合物が1.0%、重合体が4.0%生成していた。この反応混合液にトルエン124gを加え、更に10%水酸化ナトリウム水溶液53gを加え、80℃で撹拌することで未反応のエチレンカーボネートや重合体を分解した。分解後、撹拌を停止し静置後、水層を分離し、更に洗浄水が中性となるまで水洗を行った。水洗後、有機溶媒相を還流脱水した後、25℃まで冷却することにより結晶を析出させ、析出した結晶を濾過、乾燥して目的物の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシフェニル)シクロドデカンの白色結晶38.2g(収率86.7%)を得た。得られた1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシフェニル)シクロドデカンをHPLCにて分析した所、HPLC純度は99.2%、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン1モルに対しエチレンカーボネートが3モル付加した化合物の含量は0.1%以下であった。

Claims (3)

  1. 1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンとエチレンカーボネートとを反応させる1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
  2. エチレンカーボネートの使用量が1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し3.1モル以上使用する、請求項1記載の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
  3. エチレンカーボネートの使用量が1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン1モルに対し3.1〜4.0モルである、請求項1または2記載の1,1−ビス−(4−ヒドロキシエトキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカンの製造方法。
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