JPH0296545A - ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 - Google Patents
ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明はジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒド
ロキシエチル）エーテルの製造法に関する。詳しくは、
ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネートとを、脱
炭酸触媒の存在下に、反応させることを特徴とするモノ
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法で
ある。
ロキシエチル）エーテルの製造法に関する。詳しくは、
ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネートとを、脱
炭酸触媒の存在下に、反応させることを特徴とするモノ
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法で
ある。
（ロ）従来の技術
ジヒドロキシベンゼンのモノヒドロキシエチルエーテル
の製法としては１モルのｐ−イソプロペニルフェノール
に対して、エチレンカーボネートを１．１モル、フッ化
カリウムの二水和物０．０２モル、およびＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドの混の化合物をメタノール中硫酸の存
在下に５０％Ｉ１．０２水溶液を用いて４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェノールを得る方法（特開昭６Ｏ−
５１１４２）、エタノール中でレゾルシンのモノナトリ
ウム塩に、還流下にてエチレンクロルヒドリンを滴下す
る方法（Ｒｅｅｄら、 Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
５４（１９３２）１１９５，１１９６） 、レゾルシ
ンとエチレンクロルヒドリンとを苛性ソーダで加熱する
方法（米国特許２０１５１１５号（１９３０））などが
提案されている。
の製法としては１モルのｐ−イソプロペニルフェノール
に対して、エチレンカーボネートを１．１モル、フッ化
カリウムの二水和物０．０２モル、およびＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドの混の化合物をメタノール中硫酸の存
在下に５０％Ｉ１．０２水溶液を用いて４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェノールを得る方法（特開昭６Ｏ−
５１１４２）、エタノール中でレゾルシンのモノナトリ
ウム塩に、還流下にてエチレンクロルヒドリンを滴下す
る方法（Ｒｅｅｄら、 Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、
５４（１９３２）１１９５，１１９６） 、レゾルシ
ンとエチレンクロルヒドリンとを苛性ソーダで加熱する
方法（米国特許２０１５１１５号（１９３０））などが
提案されている。
一方ジヒドロキシベンゼンのビス（ヒドロキシエチル）
エーテルについては、レゾルシンに対して、２倍モルの
エチレンクロルヒドリンおよび４０％苛性カリとを加熱
する方法（Ｍｏｔｗａｎｉら。
エーテルについては、レゾルシンに対して、２倍モルの
エチレンクロルヒドリンおよび４０％苛性カリとを加熱
する方法（Ｍｏｔｗａｎｉら。
Ｊ、Ｕｎ、ｉｖ、［３ｏｍｂａｙ４’ｒＬ、 ２ （１
９３５） １０４）、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキシドを触媒として、精製ジオキサンまたはジエ
チレングリコールジメチルエーテル中にてジヒドロキシ
ベンゼンとエチレンカーボネートとを炭酸ガスの発生が
停止するまで（通常２「１）加熱還流する方法（Ｅ、Ｄ
ｙｅｒら、Ｊ、＾＋ｍ、Ｃｈｅ＋ｉ、Ｓｏｃ、 ７９
６７２−６７５（１９５７））、エチレンオキシドを使
用する方法（ドイツ特許１０９６３６６号（１９６１）
）などが提案されている。
９３５） １０４）、トリメチルベンジルアンモニウム
ヒドロキシドを触媒として、精製ジオキサンまたはジエ
チレングリコールジメチルエーテル中にてジヒドロキシ
ベンゼンとエチレンカーボネートとを炭酸ガスの発生が
停止するまで（通常２「１）加熱還流する方法（Ｅ、Ｄ
ｙｅｒら、Ｊ、＾＋ｍ、Ｃｈｅ＋ｉ、Ｓｏｃ、 ７９
６７２−６７５（１９５７））、エチレンオキシドを使
用する方法（ドイツ特許１０９６３６６号（１９６１）
）などが提案されている。
（ハ）発明が解決しようとする課題
しかし、ｐ−インプロペニルフェノールを出発原料とす
るものは、中間体として２−（４−（１，−メチルエチ
ニル）フェノキシ）エタノールを経由する方法であり、
目的物を得るための工程数が多く、煩雑で、長時間を要
する欠点がある。
るものは、中間体として２−（４−（１，−メチルエチ
ニル）フェノキシ）エタノールを経由する方法であり、
目的物を得るための工程数が多く、煩雑で、長時間を要
する欠点がある。
エチレンクロルヒドリンを用いる方法は、エチレンクロ
ルヒドリンが毒性の強いアルコールであり、取扱いに注
意しなければならないこと、また溶媒を使用するため、
溶媒との分離、精製工程が必要であること、などの問題
がある。
ルヒドリンが毒性の強いアルコールであり、取扱いに注
意しなければならないこと、また溶媒を使用するため、
溶媒との分離、精製工程が必要であること、などの問題
がある。
溶媒中トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシドを
触媒として、ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネ
ートとを反応する方法は反応に長時間（通常２日）を要
することにより、経済的に不利な方法である。
触媒として、ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネ
ートとを反応する方法は反応に長時間（通常２日）を要
することにより、経済的に不利な方法である。
エチレンオキシドを使用する方法については、エチレン
オキシドが引火点−１７，８℃、爆発範囲３．６〜１０
０％の引火および爆発しやすい沸点１０．４℃の液体で
あって、製造設備における安全対策、取扱い時の注意な
ど工業的規模で実施する際の難点がある。
オキシドが引火点−１７，８℃、爆発範囲３．６〜１０
０％の引火および爆発しやすい沸点１０．４℃の液体で
あって、製造設備における安全対策、取扱い時の注意な
ど工業的規模で実施する際の難点がある。
本発明の目的はヒドロオキシエチル化剤に対して特殊な
安全対策を施した設備を必要とせずに、反応を短時間で
行わせ、高い選択率で目的とするエーテル化合物を製造
することにある。また本発明の他の目的はジヒドロキシ
ベンゼンのエーテル化合物のモノ体又はビス体を効率よ
く製造することにある。
安全対策を施した設備を必要とせずに、反応を短時間で
行わせ、高い選択率で目的とするエーテル化合物を製造
することにある。また本発明の他の目的はジヒドロキシ
ベンゼンのエーテル化合物のモノ体又はビス体を効率よ
く製造することにある。
（ニ）ａ題を解決するための手段
本発明者らは、ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス
（ヒドロキシエチル）エーテルの安全でＷＩ索化された
経済的な製法を探索すべく鋭意検討した結果、ジヒドロ
キシベンゼンとエチレンカーボネートとを脱炭酸触媒の
共存下に反応させることにより、高い選択率で容易にジ
ヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルが得られることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
（ヒドロキシエチル）エーテルの安全でＷＩ索化された
経済的な製法を探索すべく鋭意検討した結果、ジヒドロ
キシベンゼンとエチレンカーボネートとを脱炭酸触媒の
共存下に反応させることにより、高い選択率で容易にジ
ヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルが得られることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
すなわち、本発明はジヒドロキシベンゼンとエチレンカ
ーボネートとを、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、または水酸化アルカリ土類金属の
存在下に１００〜２５０ ”（：の範囲で反応させるこ
とを特徴とするジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス
（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法である。
ーボネートとを、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属、または水酸化アルカリ土類金属の
存在下に１００〜２５０ ”（：の範囲で反応させるこ
とを特徴とするジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス
（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法である。
本発明において、エチレンカーボネートの使用量は、モ
ノヒドロキシエチルエーテルを主成分とする反応生成分
を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼンに対し
て０．２〜１．５モル、好ましくは０．４〜１．０モル
の範囲がｊ虐している。
ノヒドロキシエチルエーテルを主成分とする反応生成分
を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼンに対し
て０．２〜１．５モル、好ましくは０．４〜１．０モル
の範囲がｊ虐している。
ビス（ヒドロキシエチル）エーテルを主成分とする反応
組成物を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼン
に対して、１．５〜４．０モル、好ましくは、１．８〜
３．０モルの範囲が適している。
組成物を得る場合には、１モルのジヒドロキシベンゼン
に対して、１．５〜４．０モル、好ましくは、１．８〜
３．０モルの範囲が適している。
この場合４．０モル以上でも差支えないが、収率および
品質面でエチレンカーボネートを増量してもその利益が
ない。
品質面でエチレンカーボネートを増量してもその利益が
ない。
本発明で用い得る炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ金
属、または水酸化アルカリ土類金属の金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネッシ
ウム等があげられ、その使用量はジヒドロキシベンゼン
に対して０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５
重量％の範囲が適している。
属、または水酸化アルカリ土類金属の金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネッシ
ウム等があげられ、その使用量はジヒドロキシベンゼン
に対して０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５
重量％の範囲が適している。
本発明における反応温度は１００〜２５０℃の範囲内に
保つことが好ましく、さらに好ましくは１４０〜２００
℃の範囲が適している。
保つことが好ましく、さらに好ましくは１４０〜２００
℃の範囲が適している。
反応系に溶媒を用いても差支えないが、その場合にも反
応温度はこの範囲内に保つ必要があり、低沸点溶媒の場
合には耐圧反応器が必要である。
応温度はこの範囲内に保つ必要があり、低沸点溶媒の場
合には耐圧反応器が必要である。
また製品と溶媒との分離が必要となり製造上の欠点とな
るので溶媒を用いる利点はない。
るので溶媒を用いる利点はない。
本発明方法によれば、他の方法のようにヒドロキシエチ
ル化剤に対して特殊な設備を必要とせず。
ル化剤に対して特殊な設備を必要とせず。
反応混合物中に原料、モノヒドロキシエチルエーテル、
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテル以外のものが
殆ど副生しないため、高純度、且つ高選択率にて目的物
が得られ、工業規模での製造に極めて有利になる。
およびビス（ヒドロキシエチル）エーテル以外のものが
殆ど副生しないため、高純度、且つ高選択率にて目的物
が得られ、工業規模での製造に極めて有利になる。
本発明方法のように溶媒を用いず、従って高濃度で、従
来の反応温度より高温にて反応を実施することは、原料
の分解、副反応の惹起などによって、不純物の混入およ
び収率の低下が予想されるところである。しかるに溶媒
を用いずに、脱炭酸触媒とエチレンカーボネートを用い
て意外にも高い選択率、且つ副生物の混入もほとんどな
く、目的物が得られる新規な製法を確立できた。
来の反応温度より高温にて反応を実施することは、原料
の分解、副反応の惹起などによって、不純物の混入およ
び収率の低下が予想されるところである。しかるに溶媒
を用いずに、脱炭酸触媒とエチレンカーボネートを用い
て意外にも高い選択率、且つ副生物の混入もほとんどな
く、目的物が得られる新規な製法を確立できた。
（ホ）実施例
次に本発明方法を実施例でさらに詳しく説明するが、本
発明がこれらに限定されるものでない。
発明がこれらに限定されるものでない。
実施例−ル
ゾルシン５５ ｇ（０，５ｍｏｌ）、エチレンカーボネ
ート４４ｇ（０，５０ｍｏｌ）および炭酸カリウム０．
１５ｇをガラス製２００ ｍ Ｑ ４ツロフラスコに仕
込み、窒素雰囲気下で１６０〜１．７０℃にて３時間加
熱する６反応マスはガスクロマトグラフィーの分析値よ
り、レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル５１．
４％、レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル
１７．７％およびレゾルシン３０．９％の組成物であっ
た。ヘリパック（東洋特殊製網社製）・を充填したカラ
ムを用いて分溜したところ、１２５°Ｃ／２〜３用）Ｉ
Ｋの油分としてレゾルシン２０．０ ｇ（０，１８ｍ
ｏｌ）を回収し、１６０〜ｂ としてレゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテルを３
０．０ ｇ（０，１９ｍｏ、ｌ）得た。また］、 ８０
〜ｂ ロキシエチル）エーテルを２２．６ ｇ（０，１１４ｍ
ｏ１．）得た。製品の収率、融点、純度（ガスクロマト
グラフィーによる）は次のようになった。
ート４４ｇ（０，５０ｍｏｌ）および炭酸カリウム０．
１５ｇをガラス製２００ ｍ Ｑ ４ツロフラスコに仕
込み、窒素雰囲気下で１６０〜１．７０℃にて３時間加
熱する６反応マスはガスクロマトグラフィーの分析値よ
り、レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル５１．
４％、レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル
１７．７％およびレゾルシン３０．９％の組成物であっ
た。ヘリパック（東洋特殊製網社製）・を充填したカラ
ムを用いて分溜したところ、１２５°Ｃ／２〜３用）Ｉ
Ｋの油分としてレゾルシン２０．０ ｇ（０，１８ｍ
ｏｌ）を回収し、１６０〜ｂ としてレゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテルを３
０．０ ｇ（０，１９ｍｏ、ｌ）得た。また］、 ８０
〜ｂ ロキシエチル）エーテルを２２．６ ｇ（０，１１４ｍ
ｏ１．）得た。製品の収率、融点、純度（ガスクロマト
グラフィーによる）は次のようになった。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル収率 ６１
％（対消費レゾルシン） 融点 ８２〜８４℃ 純度 ９９．１％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収率
３２％（対消費レゾルシン） 融点 ９３〜９４℃ 純度 ９８．９％ モノヒドロキシエチルエーテルとビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルとの合計収率は９３％であった。
％（対消費レゾルシン） 融点 ８２〜８４℃ 純度 ９９．１％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収率
３２％（対消費レゾルシン） 融点 ９３〜９４℃ 純度 ９８．９％ モノヒドロキシエチルエーテルとビス（ヒドロキシエチ
ル）エーテルとの合計収率は９３％であった。
実施例−２
レゾルシン５５ ｇ （０、５ｎ＋ｏｌ）、エチレンカ
ーボネート２６．４ ｇ（０，３０ｍｏｌ）および水酸
化カルシウム２．０ｇを用い、１７０〜１８０℃にて反
応させた他は実施例−１と同様にして、次のヒドロキシ
エチルエーテルが得られる。
ーボネート２６．４ ｇ（０，３０ｍｏｌ）および水酸
化カルシウム２．０ｇを用い、１７０〜１８０℃にて反
応させた他は実施例−１と同様にして、次のヒドロキシ
エチルエーテルが得られる。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル収１８５．
５％（対消費レゾルシン） 融点 ８３〜８５℃ 純度 ９９．７％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収率
８．６％（対消費レゾルシン） 融点 ９２〜９４℃ 純度 ９８．６％ 実施例−３ レゾルシン５５ ｇ （０、５ｍｏｌ）、エチレンカー
ボネート９６．９ ｇ（１，１０ａ＋ｏｌ）および苛性
カリ０．１ｇを用い、１５０〜１６０℃にて反応させた
他は実施例−１と同様にして、次のヒドロキシエチルエ
ーテルが得られる。
５％（対消費レゾルシン） 融点 ８３〜８５℃ 純度 ９９．７％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収率
８．６％（対消費レゾルシン） 融点 ９２〜９４℃ 純度 ９８．６％ 実施例−３ レゾルシン５５ ｇ （０、５ｍｏｌ）、エチレンカー
ボネート９６．９ ｇ（１，１０ａ＋ｏｌ）および苛性
カリ０．１ｇを用い、１５０〜１６０℃にて反応させた
他は実施例−１と同様にして、次のヒドロキシエチルエ
ーテルが得られる。
レゾルシンのモノヒドロキシエチルエーテル収率 ７．
０％（対消費レゾルシン） 融点 ８２〜８４℃ 純度 ９８．０％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収＄
８７．５％（Ｈ填帝しン′ルンン）融点 ９２〜９４
℃ 純度 ９８．９％
０％（対消費レゾルシン） 融点 ８２〜８４℃ 純度 ９８．０％ レゾルシンのビス（ヒドロキシエチル）エーテル収＄
８７．５％（Ｈ填帝しン′ルンン）融点 ９２〜９４
℃ 純度 ９８．９％
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ジヒドロキシベンゼンとエチレンカーボネートとを
、脱炭酸触媒として炭酸アルカリ金属、水酸化アルカリ
金属、または水酸化アルカリ土類金属の存在下に、１０
０〜２５０℃の範囲で反応させることを特徴とするジヒ
ドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル
）エーテルの製造方法。 ２、１モルのジヒドロキシベンゼンに対して０．２〜１
．５モルのエチレンカーボネートを反応させる請求項１
に記載の方法。 ３、１モルのジヒドロキシベンゼンに対して１．５〜４
．０モルのエチレンカーボネートを反応させる請求項１
に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63249592A JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63249592A JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0296545A true JPH0296545A (ja) | 1990-04-09 |
| JPH0796514B2 JPH0796514B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=17195310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63249592A Expired - Lifetime JPH0796514B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | ジヒドロキシベンゼンのモノおよびビス（ヒドロキシエチル）エーテルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796514B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0352838A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | β―ヒドロキシアルキルアリールエーテル類の製造方法 |
| WO1991016292A1 (en) * | 1990-04-16 | 1991-10-31 | Eastman Kodak Company | Process for preparation of resorcinol bis(dihydroxyethyl)ether |
| JPH04257537A (ja) * | 1990-09-20 | 1992-09-11 | Union Carbide Chem & Plast Co Inc | エーテル類の製造方法 |
| WO1998013327A1 (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-02 | Reichhold Chemicals, Inc. | Hydroxyalkylation of phenols |
| JP2017061428A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 田岡化学工業株式会社 | １，１−ビス−（４−ヒドロキシエトキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンの製造方法 |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP63249592A patent/JPH0796514B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0352838A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-07 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | β―ヒドロキシアルキルアリールエーテル類の製造方法 |
| WO1991016292A1 (en) * | 1990-04-16 | 1991-10-31 | Eastman Kodak Company | Process for preparation of resorcinol bis(dihydroxyethyl)ether |
| JPH04257537A (ja) * | 1990-09-20 | 1992-09-11 | Union Carbide Chem & Plast Co Inc | エーテル類の製造方法 |
| WO1998013327A1 (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-02 | Reichhold Chemicals, Inc. | Hydroxyalkylation of phenols |
| JP2017061428A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 田岡化学工業株式会社 | １，１−ビス−（４−ヒドロキシエトキシ−３−メチルフェニル）シクロドデカンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0796514B2 (ja) | 1995-10-18 |
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