JP2017059296A - 導電性パタン前駆体および導電性パタンの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】良好な導電性を有する導電性パタンが得られ、かつ断線が生じにくい導電性パタン前駆体と、該導電性パタン前駆体を用いた導電性パタンの製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性支持体の少なくとも一方の面に、水溶性高分子化合物、架橋剤および金属硫化物を含有する下地層と、該下地層上に平均粒径が０．７〜４．０μｍであってＣＶ値が１７％以下である球形粒子を含有する感光性レジスト層を有する導電性パタン前駆体、およびこれを用いた導電性パタンの製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、良好な導電性を有する導電性パタンが得られ、かつ断線が生じにくい導電性パタン前駆体と、該導電性パタン前駆体を用いた導電性パタンの製造方法に関する。

従来、光透過性のタッチパネル、電磁波シールド材、ヒーター等においては、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の透明導電性材料からなる薄膜（透明導電性薄膜）が用いられている。これらの薄膜は透明ではあるがシート抵抗値は１００Ω／□以上であった。近年、透明導電性材料の低抵抗値化や低価格化が求められており、この透明導電性薄膜を金属細線から構成されるメッシュ様の導電性パタンに代替する検討が進んでいる。現在、メッシュを構成する金属細線の幅が２０μｍ程度のものが、プラズマディスプレイパネル用の光透過性電磁波シールド材として量産されて、タッチパネル用の光透過性電極としては、パタンの視認性（難視認性）の問題から、金属細線の幅は５μｍ以下、かつシート抵抗値が１００Ω／□以下の十分な導電性を有するメッシュ様の導電性パタンが求められている。

現在、金属細線から構成されるメッシュ様の導電性パタンの形成方法としては、感光性レジスト層を金属箔上に設け、感光・現像工程からなる所謂フォトリソグラフィー法により任意のパタンでレジスト開口部を有するレジストパタンを形成した後、エッチングによりレジスト開口部の金属箔を溶解・除去し、金属箔を所望のパタンに加工するサブトラクティブ法が主に用いられているが、上記の様なファインピッチ化の要望から、エッチングする金属箔（主に銅箔）や感光性レジスト層の薄層化が急務となっている。

一方、ファインピッチ化の別の手段として、サブトラクティブ法に替えて、支持体上に薄層の下地金属層と下地金属層上に感光性レジスト層を形成し、感光性レジスト層を露光・現像によりレジストパタンとした後、電解めっき法によりレジスト開口部の下地金属層上に金属層を析出させ、所望の厚みとした後、レジストパタンおよびレジストパタンで保護された下地金属層を除去することにより、導電性パタンを形成する、いわゆるセミアディティブ法が提案されている。例えば特開２００７−２８７９５３号公報（特許文献１）では支持体表面に第１金属層としてスパッタ金属層を形成し、上記セミアディティブ法を用い導電性パタンを形成する方法が開示されている。しかしながら、下地金属層であるスパッタ金属層を除去するエッチング工程が数回必要であり、また支持体表面のエッチングも行わなければならず、工程が多くなるため生産性は低いものであった。このような生産性を改善することを目的として、特開２０１０−４５２２７号公報（特許文献２）では、下地金属層として写真製法によって得られた銀薄膜層を用い、その上に感光性レジスト層を設けた導電性材料前駆体が開示されている。しかしながら導電性パタンの形成には、依然としてエッチング工程が必要であり、十分満足できるものではなかった。

一方、エッチング工程を必要としないものとしては、特開平８−２３９７７３号公報（特許文献３）、特開平９−２０５２７０号公報（特許文献４）、特開平１０−１８０４４号公報（特許文献５）等に、プラスチックフィルム上に、膨潤性の水性樹脂、金属化合物の微粒子及び架橋剤を含有する無電解めっき用下地層を設け、これに無電解めっきを施すことで下地金属層を設け、その上に感光性レジスト層を設けた感光性シートが開示されており、該金属化合物の微粒子として、硫化パラジウムや硫化スズ等の金属硫化物が例示されている。これらの感光性シートは感光性レジスト層を露光・現像によりレジストパタンとした後に、露出した下地金属層に電解めっきが施され、その後、接着剤層が設けられた絶縁性支持体の接着層上に、めっき層（あるいはめっき層とレジスト画像）を転写させることで導電性パタンを形成するが、絶縁性支持体へのめっき層の転写や、その後のプラスチックフィルムの剥離等、煩雑な工程を経る必要があり、生産性の改善には至っていなかった。

上記した様な生産性を解決する技術として、特開２０１４−１９７５３１号公報（特許文献６）が知られている。同公報には支持体上に水溶性高分子化合物、架橋剤および金属硫化物を含有する下地層と、感光性レジスト層をこの順に有する導電性パタン前駆体を用い、レジスト開口部に無電解めっきを行う方法が記載されている。この技術によって、高い生産性にて導電性材料が生産でき、また良好な導電性と、支持体との優れた密着性を有する導電性材料が得られるが、断線が発生する場合があり、改善が求められていた。

他方、特開２００８−１１６８１３号公報（特許文献７）には、アルカリ現像が可能な感光性組成物およびそれを用いたプリント配線基版が記載され、該組成物がマット剤を含有できる旨記載されている。また、特公平５−８１６２８号公報（特許文献８）にはリフトオフ法によるパタン形成用レジスト組成物が特定の粒子径を有するタルクを含有することが記載されている。

特開２００７−２８７９５３号公報 特開２０１０−４５２２７号公報 特開平８−２３９７７３号公報 特開平９−２０５２７０号公報 特開平１０−１８０４４号公報 特開２０１４−１９７５３１号公報 特開２００８−１１６８１３号公報 特公平５−８１６２８号公報

本発明の課題は、良好な導電性を有する導電性パタンが得られ、かつ断線が生じにくい導電性パタン前駆体と、該導電性パタン前駆体を用いた導電性パタンの製造方法を提供することである。

本発明の上記目的は、以下の導電性パタン前駆体および導電性パタンの製造方法により達成された。
１．光透過性支持体の少なくとも一方の面に、水溶性高分子化合物、架橋剤および金属硫化物を含有する下地層と、該下地層上に平均粒径が０．７〜４．０μｍであってＣＶ値が１７％以下である球形粒子を含有する感光性レジスト層を有することを特徴とする導電性パタン前駆体。
２．上記１に記載の導電性パタン前駆体を露光後、現像し、任意のパタンで下地層が露出したレジスト開口部を有するレジストパタンを形成した後、無電解めっき処理によりレジスト開口部の下地層上に金属を積層させ、その後レジストパタンを除去することを特徴とする導電性パタンの製造方法。

本発明によれば、良好な導電性を有する導電性パタンが得られ、かつ断線が生じにくい導電性パタン前駆体と、該導電性パタン前駆体を用いた導電性パタンの製造方法を提供することができる。

本発明により得られる導電性シートの一例を示す概略図

以下に本発明を詳細に説明する。本発明の導電性パタン前駆体は、光透過性支持体の少なくとも一方の面に、水溶性高分子化合物、架橋剤および金属硫化物を含有する下地層と、該下地層上に感光性レジスト層を有する。

本発明において光透過性支持体は、後述する基材そのものであってもよいし、該基材上に必要に応じて形成される易接着層も有してもよい。また耐傷性を目的としたハードコート層（ＨＣ層）や、反射率低減を目的としたアンチリフレクション層（ＡＲ層）等の公知の層を有してもよい。光透過性支持体の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましい。光透過性支持体の全光線透過率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上がより好ましい。基材としては、例えば、ガラスあるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン−ビニルアルコール樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂等からなる各種樹脂フィルムを挙げることができる。

本発明において、光透過性支持体は紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は光透過性支持体中の基材を構成する樹脂フィルム中に均一に含有されていることが好ましいが、光透過性支持体を複数の層、例えば樹脂フィルムＡ、樹脂フィルムＢ、紫外線吸収層、易接着層を有する構成とし、それらの何れかの中に紫外線吸収剤を偏在させてもよい。紫外線吸収層とは後述する紫外線吸収剤を合成樹脂あるいは水溶性高分子化合物と混合し形成された層である。このような光透過性支持体を利用し、該支持体の両面に下地層と感光性レジスト層を設け、該感光性レジスト層を露光する際の光として紫外線を用いると、光透過性支持体に含まれる紫外線吸収剤が紫外線を吸収することにより、一方の面に照射した紫外線が他方の面の感光性レジスト層に到達しない、あるいは到達したとしても極僅かであるため、光透過性支持体の両面に導電性パタンを形成することが可能となる。なお、露光は個々の面において同一のパタンであっても、また異なったパタンであってもよい。紫外線吸収剤を含有する光透過性支持体の、感光性レジスト層を露光するために用いる紫外線領域における透過率は５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。

光透過性支持体が含有することができる紫外線吸収剤としては、例えばフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等のサリチル酸系紫外線吸収剤、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ドデシル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、２′−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等のシアノアクリレート系紫外線吸収剤、（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。これらの内、基材の樹脂に含有させた場合に全光線透過率の低下やヘイズの上昇が少ないという観点から、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としてはＢＡＳＦジャパン（株）製のチヌビンＰ、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２８、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の市販品としては同社のチマソーブ８１、トリアジン系紫外線吸収剤の市販品としては同社のチヌビン１５７７を例示することができる。なお、本発明における光透過性支持体の紫外線吸収剤含有量は、１ｍ^２当たり０．０５〜１０ｇであることが好ましく、より好ましくは１ｍ^２当たり０．１〜５ｇである。

また、本発明に用いる紫外線吸収剤として、紫外線吸収機能を有する樹脂を用いることもできる。このような樹脂として、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を例示することができ、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフタレートを混合した樹脂を用いてもよい。

前記光透過性支持体は易接着層を有することが好ましい。易接着層は光透過性支持体上に塗布する下地層の塗布性（面質）、および光透過性支持体と下地層の密着性を向上させることができる。易接着層は、合成樹脂あるいは水溶性高分子化合物を含有する層であることが好ましく、かかる合成樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。また合成樹脂としては水分散性のポリマー（エマルジョンやラテックス）を利用することが好ましい。水溶性高分子化合物としては、例えばゼラチンやポリビニルアルコール等が挙げられる。更に易接着層はシリカ等のマット剤、イソシアネート、エポキシ等の架橋剤、滑剤、顔料、染料、界面活性剤、前述した紫外線吸収剤等を含有していてもよい。

次に本発明の導電性パタン前駆体が有する下地層について説明する。下地層は光透過性支持体の一方の面にあれば良く、該支持体の両面に設けることもできる。本発明における下地層が含有する水溶性高分子化合物としては水溶性のアニオン性高分子化合物、ノニオン性高分子化合物、及び両性高分子化合物等が挙げられる。アニオン性高分子化合物としては、天然由来の化合物、あるいは合成された化合物のいずれでも用いることができ、例えば−ＣＯＯ⁻基、−ＳＯ_３ ⁻基等を有するものが挙げられる。具体的なアニオン性の天然高分子化合物としてはアラビアゴム、アルギン酸、ペクチン等があり、半合成品としてはカルボキシメチルセルロース、フタル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、硫酸化デンプン、硫酸化セルローズ、リグニンスルホン酸等がある。また、合成品としては無水マレイン酸系（加水分解したものも含む）共重合体、アクリル酸系（メタクリル酸系も含む）重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコール等がある。ノニオン性高分子化合物としては、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース等がある。両性の高分子化合物としてはゼラチン等がある。

上記した水溶性高分子化合物の中でも、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビニルアルコールを用いた場合、優れた密着性に加え、とりわけ優れた導電性を有する導電性パタンを得ることが可能となる。ポリビニルアルコールは下地層の皮膜形成性及び皮膜強靱性の観点から、完全または部分鹸化されたポリビニルアルコールが好ましく、中でも鹸化度が８０％以上のポリビニルアルコールが特に好ましい。また、ポリビニルアルコールの平均重合度は５００〜６０００が好ましく、１０００〜５０００がより好ましい。本発明で用いられるポリビニルアルコールとしては、一般的なポリビニルアルコールに加え、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール及びその他ポリビニルアルコールの誘導体も含まれる。ポリビニルアルコールは１種単独でもよいし、２種以上を併用してもよい。

なお本発明において、水溶性高分子化合物の水溶性とは、２５℃における水に対する溶解量が少なくとも０．５質量％以上であることを意味し、好ましくは溶解量が５質量％以上である。本発明の下地層における水溶性高分子化合物の含有量は、固形分として１ｍ^２当たり１〜１０００ｍｇが好ましく、より好ましくは５〜２００ｍｇである。

下地層は、光透過性支持体に対する導電性パタンの密着性を向上させることを目的として、水溶性高分子化合物に加えてウレタンポリマーラテックスを含有してもよい。ウレタンポリマーラテックスは、ウレタンポリマーエマルジョン、ポリウレタンラテックス、ポリウレタンエマルジョン、水性ウレタン樹脂等とも表記される。下地層に用いるウレタンポリマーラテックスにはポリオールとポリイソシアネートから合成されるウレタンポリマーの微粒子を含有する。用いられるポリオールとしてポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオールなどが挙げられる。ウレタンポリマーラテックス中のウレタンポリマー微粒子の平均粒子径は０．０１〜０．３μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．１μｍである。なお、本発明において下地層に用いるウレタンポリマーラテックスは、下地層の塗液に用いる段階ではウレタンポリマー微粒子の水分散物であるが、下地層は塗布後乾燥され固体の塗膜となるため、下地層中でウレタンポリマーラテックスは、水分散物の状態やウレタンポリマー微粒子の粒子形状を保持している必要はない。

本発明における下地層が含有する架橋剤としては、２５℃の水に対する溶解量が０．５質量％以上である架橋剤が好ましく、例えばクロム明ばん等の無機化合物、ホルムアルデヒド、グリオキザール、マロンアルデヒド、グルタルアルデヒド等のアルデヒド類、尿素、エチレン尿素等のＮ−メチロール化合物、ムコクロル酸、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のアルデヒド等価体、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン塩、２，４−ジヒドロキシ−６−クロロ−ｓ−トリアジン塩等の活性ハロゲンを有する化合物、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ基を分子中に二個以上有する化合物類、ジビニルスルホン、ジビニルケトン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリアクリロイルヘキサヒドロトリアジン、活性な三員環であるエチレンイミノ基を二個以上有する化合物、「高分子の化学反応」（大河原 信著 １９７２、化学同人社）の２・６・７章、５・２章、９・３章などに記載の架橋剤等の、公知の架橋剤を用いることができる。中でも下地層が含有する水溶性高分子化合物としてポリビニルアルコールを用いた場合、多価アルデヒド化合物を架橋剤として使用することが好ましい。架橋剤として多価アルデヒド化合物を用いた場合、とりわけ優れた導電性を有する導電性パタンを得ることが可能となる。

多価アルデヒド化合物の代表例としては、例えばグリオキザール、マロンアルデヒド、グルタルアルデヒド、スクシンアルデヒド、ヘプタンジアール、オクタンジアール、ノナンジアール、デカンジアール、ドデカンジアール、２，４−ジメチルヘプタンジアール、４−メチルヘキサンジアールなどの脂肪族ジアルデヒドやテレフタルアルデヒド、フェニルマロンジアルデヒドなどの芳香族ジアルデヒド、更にはそれらとメタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類が反応したアセタール化合物、及びＮ，Ｎ′，Ｎ″−（３，３′，３″−トリスルホミルエチル）イソシアヌレートなどのトリアルデヒド化合物が挙げられる。特に好ましい多価アルデヒド化合物はジアルデヒド化合物であり、特にグルタルアルデヒド及びグリオキザールが好適である。多価アルデヒド化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。下地層における架橋剤の含有量は、水溶性高分子化合物の含有量に対して１〜２００質量％であることが好ましい。

本発明における下地層が含有する金属硫化物は、主に重金属の硫化物の微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）である。金属硫化物の代表例としては、例えば、金、銀等のコロイド粒子や、パラジウム、亜鉛、スズ等の水溶性塩と硫化物を反応させて得られた金属硫化物等が挙げられ、中でも硫化パラジウムが好ましい。下地層に用いる金属硫化物の含有量は、固形分で導電性パタン前駆体の１ｍ^２当たり０．１〜１０ｍｇであることが好ましい。

下地層の塗布は、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スリットダイコーティング、スプレーコーティングなどの公知の塗布方式で塗布することができるが、下地層を均一に塗布するという観点から、エアーナイフコーティング、グラビアコーティング（特に小径グラビアコーティング）、スリットダイコーティングが好ましい。また、塗布方式に合わせ、増粘剤、界面活性剤等の各種塗布助剤を用いることもできる。本発明において下地層は、皮膜の架橋を促進させるために皮膜形成後、３０〜５０℃の温度で３〜７日間加温することが望ましい。

本発明における感光性レジスト層は、クレゾールノボラック樹脂と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含有する感光性レジスト層であることが好ましく、更に該感光性レジスト層は平均粒径が０．７〜４．０μｍであってＣＶ値が１７％以下である球形粒子を含有する。感光性レジスト層は光透過性支持体の少なくとも一方の面に有していれば良いが、場合によっては両面であっても良い。特にファインピッチな導電性パタンを形成するという観点から、感光性レジスト層は下地層上に感光性液状レジストが塗布されて形成された感光性レジスト層であることが好ましい。また下地層との接触による経時変化の観点から、ポジ型感光性レジスト層であることがより好ましい。

本発明において感光性レジスト層が含有するクレゾールノボラック樹脂としては、例えばオルト体、パラ体、メタ体をそれぞれ単独で含有したクレゾールノボラック樹脂であっても良いし、または２種以上でこれらの比率は関係なく混合されたクレゾールノボラック樹脂であっても良い。また、該クレゾールノボラック樹脂の重量平均分子量は３０００以上であることが好ましい。

前述の通り、本発明において感光性レジスト層の感光剤としては、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを好ましくは含有する。かかる化合物はナフトキノンジアジドスルホン酸とフェノール性水酸基を有する化合物とを、常法に従ってエステル化反応させることにより、容易に製造することができる。

フェノール性水酸基を有する化合物としては、例えばフェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂等のノボラック樹脂、テトラヒドロキシベンゾフェノンやトリヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシスチレン、没食子酸アルキル、トリヒドロキシベンゼンモノエーテル類、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシジフェニルメタン、４，４′−ジヒドロキシフェニルプロパン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、２，２′−ジヒドロキシ−１，１−ナフチルメタン、２−ヒドロキシフルオレン、２−ヒドロキシフェナントレン、ポリヒドロキシアントラキノン、プルプロガリン及びその誘導体、フェニル−２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸エステル、トリスフェノール等が挙げられる。ここで使用されるノボラック樹脂の重量平均分子量は、５００以上３０００未満であることが好ましい。

本発明の感光性レジスト層における、前記したナフトキノンジアジトスルホン酸エステルは、クレゾールノボラック樹脂１００質量部に対し、１０〜５０質量部の割合で配合することが好ましく、更に好ましくは１５〜４０質量部の割合で配合することである。この配合量の感光性レジスト層は、耐めっき性や下地層との密着性にとりわけ優れた、導電性パタン前駆体になり得る。

本発明において感光性レジスト層は平均粒径が０．７〜４．０μｍであってＣＶ値が１７％以下である球形粒子を含有する。球形粒子の平均粒径が０．７μｍより小さい場合は断線に対する効果は得られない。また、球形粒子の平均粒径が４．０μｍより大きい場合には断線が発生しやすくなるため好ましくない。一方、球形粒子のＣＶ値において１７％を超えた場合にも断線に対して十分な改善効果は得られない。

本発明の感光性レジスト層における球形粒子の粒径のＣＶ値（変動係数）は下記の式によって求められる。
ＣＶ値（変動係数）＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００（％）
平均粒径及び粒度分布（標準偏差）は、公知のレーザー回折散乱法により測定される。

本発明の感光性レジスト層における球形粒子の含有量としては球形粒子の粒径や比重によって適時調整が必要であるが感光性レジスト層の総固形分量に対して０．０００１〜０．０５質量％が好ましく、更に好ましくは０．００１〜０．０３質量％である。

本発明の感光性レジスト層が含有する球形粒子は、有機樹脂粒子であることが好ましく、かかる樹脂粒子を作製する際に利用されるポリマーとしては、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸エステル、アクリルコポリマー、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂等が挙げられる。市販品としては綜研化学（株）製のアクリル単分散粒子ＭＸ−３００、ＭＸ−１８０ＴＡ、ＭＸ−１５０、ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ、ケミスノー架橋ポリスチレン単分散粒子ＳＸ−１３０Ｈ、積水化成品工業（株）製の架橋ポリメタクリル酸メチル粒子ＳＳＸ−１０１、ＳＳＸ−１０２、ＳＳＸ１０３、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズジャパン合同会社製の架橋シリコーン粒子トスパール１２０、トスパール１３０、東洋インキ（株）製の架橋アクリル粒子リオスフィアＲＳＰ３０３１、ＲＳＰ３０１５等がある。

本発明の感光性レジスト層を下地層上に塗布するにあたり、前記クレゾールノボラック樹脂とナフトキノンジアジドスルホン酸エステルは適当な溶剤に溶解して、塗液とする。このような溶剤の例としては、この分野で使用されている溶剤をいずれも使用することができる。このような溶剤としては、例えばシクロヘキサノン、メチル−２−ｎ−アミルケトン等のケトン類、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール等のアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、プロピオン酸ｔｅｒｔ−ブチル、プロピレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテルアセテート等のエステル類等の溶媒を挙げることができる。これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の感光性レジスト層においては、例えば強度を向上させるなどの目的で、クレゾールノボラック樹脂と相溶性のあるエポキシ樹脂やアクリル樹脂、可塑剤としてのポリビニルエーテル類、その他安定剤、レベリング剤、染料、顔料、光酸発生剤などを含有してもよい。

本発明の感光性レジスト層の塗布は下地層と同様の塗布方式で実施することができ、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スリットダイコーティング、スプレーコーティングなどの公知の塗布方式で塗布することができるが、感光性レジスト層を均一に塗布するという観点から、グラビアコーティング（特に小径グラビアコーティング）、スリットダイコーティングが好ましい。また、塗布方式に合わせ、増粘剤、界面活性剤等の各種塗布助剤を用いることもできる。なお、感光性レジスト層は塗布を行った後、６０〜１５０℃で乾燥させることが好ましい。

上記感光性レジスト層の膜厚としては、０．５〜３．０μｍが好ましく、更には０．７〜２．０μｍであることがより好ましい。

次に、本発明の導電性パタンの製造方法について説明する。本発明における導電性パタンの製造方法は、感光性レジスト層を露光した後、現像し、任意のパタンで下地層が露出したレジスト開口部を有するレジストパタンを形成し、無電解めっき処理によりレジスト開口部の下地層上に金属を積層させ、その後レジストパタンを除去する。

導電性パタンを得るためのパタン露光の方法としては、感光性レジスト層面と任意のパタンを有するフォトマスクを密着して露光する方法が挙げられる。ここで任意のパタンとは、例えば図１で示したタッチパネルのタッチセンサーが例示できる。以下に図１の詳細な説明を示す。

導電性シート１は絶縁性支持体２の上に、第一の方向（図中ｙ方向）に伸びる光透過性のセンサー部１１と、第一の方向に対し垂直な方向である第二の方向（図中ｘ方向）において、該センサー部１１と交互に並ぶ光透過性のダミー部１２を有する。センサー部１１は複数個が設けられ（図中１１ａ、１１ｂ・・等）、これに応じて該センサー部１１と交互に並ぶダミー部も複数個が設けられる（図中１２ａ、１２ｂ・・等）。

端子部１４は、センサー部１１と外部とを電気的に接続するための部分であり、センサー部１１の数に応じて複数の端子（図中１４ａ、１４ｂ・・等）から構成される。センサー部１１ａは周辺配線１３ａを介し端子１４ａに電気的に接続されており、この端子１４ａを通して外部に電気的に接続することで、センサー部１１で感知した静電容量の変化を捉えることができる。ダミー部１２は端子部１４と電気的な接続は無い。

周辺配線部１３は、センサー部１１と端子部１４を電気的に接続する複数の周辺配線から構成され（図中１３ａ、１３ｂ・・等）、周辺配線部１３が有する複数の周辺配線は、隣接する周辺配線間で平行な部分を有している。周辺配線１３の最中線間隔が狭い平行部分ではライン＆スペース（複数本の並んだ周辺配線の線幅と線間隔）で１０〜２００μｍに設定されることが好ましい。

図１の、センサー部１１及びダミー部１２は、公知の形状を繰り返してなる金属細線パタンにより形成され、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などの公知の形状を繰り返して形成された金属細線パタン、及びこれらの形状を２種類以上組み合わせることにより形成された金属細線パタンなどが挙げられる。あるいは、モアレを解消する観点から、公知のランダムパターン、例えばボロノイパターン、ペンローズタイリング、ドロネーパターンなどが挙げられ、これらランダムパターンの中に三角形、四角形、五角形、菱形などの公知の図形を規則的に繰り返した規則的パタンをその一部に内包させることもできる。

センサー部１１及びダミー部１２の金属パタンが有する金属細線の幅は１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは７μｍ以下、更に好ましくは５μｍ以下である。下限は１μｍ以上であることが好ましい。また、該金属細線パタンが有する金属細線の間隔は４００μｍ以下が好ましい。このような線幅と間隔を有するセンサー部１１及びダミー部１２は、導電性パタンに光透過性が求められる場合、好適である。なお図１においてダミー部１２とセンサー部１１は異なる模様で示しているが、これは説明上、ダミー部１２とセンサー部１１を区別しやすくするために記載したものであり、実際にはセンサー部１１の視認性（難視認性）を向上させるため、ダミー部１２とセンサー部１１は、同じ形状を繰り返すことで形成された金属細線パタンにより形成されることが好ましい。また図１では図示していないが、ダミー部１２とセンサー部１１の境界部では、細線が切断された断線部が設けられており、センサー部１１とダミー部１２の間で、導通は無い。

本発明では、露光された感光性レジスト層を有する導電性パタン前駆体に対して現像処理が行われる。現像処理は、アルカリ性水溶液を使用することが好ましい。かかるアルカリ性水溶液としては、例えば炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等を含有するアルカリ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもでき、ｐＨが１１〜１４であるアルカリ性水溶液を例示することができる。任意のパタンに露光された感光性レジスト層を現像処理することで、下地層上に任意のパタンで下地層が露出したレジスト開口部を有するレジストパタンを形成することができる。

本発明の導電性パタン製造方法では、上記のようにして得られたレジストパタンに無電解めっき処理を施すことで、レジスト開口部の下地層上に優先的に金属を積層させ、導電性の金属パタンを形成する。無電解めっき処理として、銅めっき法、ニッケルめっき法、亜鉛めっき法、スズめっき法、銀めっき法等の公知のめっき方法を用いることができるが、その中でも、得られる導電性の観点から無電解銀めっき法が特に好ましい。

無電解銀めっき法としては、硝酸銀及びアンモニアを含むアンモニア性硝酸銀溶液と、還元剤及び強アルカリ成分を含む還元剤溶液の２液を、前記任意のパタンを有するレジストパタンが形成された導電性パタン前駆体の表面上で混合されるように付与し、酸化還元反応を生じせしめ、金属銀を析出させる方法が挙げられる。

前記還元剤溶液としては、グルコース、グリオキザール等のアルデヒド化合物、硫酸ヒドラジン、炭酸ヒドラジンまたはヒドラジン水和物等のヒドラジン化合物等の還元剤、水酸化ナトリウムに代表される強アルカリ成分を含有する還元剤溶液が挙げられ、かかる還元剤溶液は、亜硫酸ナトリウムまたはチオ硫酸ナトリウム等を含有してもよい。

アンモニア性硝酸銀溶液は、無電解銀めっき処理における金属銀の析出速度を速めるためにいくつかの添加剤を含有することもできる。例えば、モノエタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１−アミノ−２−プロパノール、２−アミノ−１−プロパノール、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等のアミノアルコール化合物、グリシン、アラニン、グリシンナトリウム等のアミノ酸またはその塩等が挙げられるが、特に限定されるものではない。

前記アンモニア性硝酸銀溶液と還元剤溶液の２液を、レジストパタンが形成された導電性パタン前駆体の表面上で混合されるように付与する方法としては、２種の水溶液をあらかじめ混合し、この混合液をスプレーノズルやスリットノズル、スプレーガン等を用いてレジストパタンが形成された導電性パタン前駆体の表面に吹き付ける方法、スプレーガンのヘッド内で２種の水溶液を混合して直ちに吐出する構造を有する同芯スプレーガンを用いて吹き付ける方法、２種の水溶液を２つのスプレーノズルを有する双頭スプレーガンから各々吐出させ吹き付ける方法、２種の水溶液を２つの別々のスプレーガンを用いて同時に吹き付ける方法、スリットノズルを２本並べ２種の水溶液を順に吹き付ける方法等がある。これらは状況に応じて任意に選ぶことができる。

本発明の導電性パタンの製造方法における、無電解めっき処理時間としては５〜３００秒が好ましい。これによりレジスト開口部の下地層上に積層される金属の厚みは、０．１〜１μｍ程度である。本発明の導電性パタン前駆体を用いる場合、急速に無電解めっきが進行し、短時間で安定した金属層が得られる。更には、熱処理による焼成も必要がなく、通常の自然乾燥のみで十分な導電性が得られる。

本発明の導電性パタン製造方法において、感光性レジスト層は上記無電解めっき処理後、レジストパタンの除去を行う。除去の前に、レジストパタンの膨潤・溶解性を向上させるために、レジストパタンに対し露光を行っても良い。除去は、例えばレジストパタンを膨潤させる有機溶剤および・またはアルカリ性水溶液等からなる剥離液をスプレーにより吹き付け、あるいはシャワー方式等にて吹き付けてレジストパタンを膨潤・溶解させ、除去することが行われる。かかるアルカリ性水溶液としては、例えば炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等を含有するアルカリ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもでき、ｐＨが１１〜１４であるアルカリ性水溶液を例示することができる。以上詳述したように、本発明の導電性パタンの製造方法には金属層を除去するエッチング工程は含まれない。

また、本発明の導電性パタン製造方法において、レジストパタンを除去した後の導電性パタンの金属細線が時間経過によって抵抗値の上昇を抑制する目的で、特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよい。あるいは金属細線の導電性のフレを解消する目的で、銀を含有する導電部に対し、例えば特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよい。更には、金属細線の金属反射を低下させ視認性を低下させることを目的として、例えば特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。

以下実施例によって本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

≪導電性パタン前駆体１の作製≫
光透過性支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製ルミラーＵ３４（両面易接着タイプ））を用いた。該支持体の全光線透過率をダブルビーム方式ヘーズコンピューター（スガ試験機株式会社製）で測定したところ、９２．４％であった。次に下記硫化パラジウムゾルを調製し、該硫化パラジウムゾルを用いて下記下地層の塗液を作製した。その下地層の塗液を直径が６０ｍｍ、斜線角度が４５度、線数９０線／インチ、溝深さ１１０μｍの斜線グラビアロールを用いリバース回転かつキスタッチで前記した光透過性支持体上に塗布・乾燥し、更に４０℃の加温庫にて１週間加温した。

＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液 塩化パラジウム ５ｇ
塩酸 ４８ｇ
蒸留水 １０００ｇ
Ｂ液 硫化ソーダ ８．６ｇ
蒸留水 １０００ｇ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。

＜下地層の塗液／１ｍ^２あたり＞
ＰＶＡ２１７（（株）クラレ製ポリビニルアルコール 鹸化度８８％、重合度１７００） １２ｍｇ
タイポールＮＰＳ−４３６（泰光油脂化学工業（株）製界面活性剤）
１２ｍｇ
１Ｎ．水酸化ナトリウム １１０ｍｇ
グルタルアルデヒド １８ｍｇ
前記硫化パラジウムゾル（固形分として）０．４ｍｇ

＜感光性レジスト層の塗液の調製＞
次に感光性レジスト層の塗液としてｏ−クレゾールノボラック樹脂１００質量部と、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドスルホン酸エステル３０質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３５０質量部に溶解した後に、この溶液をメンブレンフィルター（孔径１μｍ）にて濾過した後、球形粒子である綜研化学（株）製の架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−３００を０．０２４質量部添加して感光性レジスト層の塗液１を調製した。

上記した感光性レジスト層の塗液１を前記した斜線グラビアロールを用いて、リバース回転かつキスタッチで、下地層の上に塗布し、９０℃で２分間乾燥して、乾燥膜厚が１．５μｍであるポジ型の感光性レジスト層を設けることで、導電性パタン前駆体１を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
綜研化学（株）製の架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−３００をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は３．０μｍ、ＣＶ値は９．０％であった。

≪導電性パタン前駆体２の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において使用した綜研化学（株）製ＭＸ−３００を同社の球形粒子である架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−１８０ＴＡに代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体２を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＭＸ−１８０ＴＡをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は１．８μｍ、ＣＶ値は９％であった。

≪導電性パタン前駆体３の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を同社の球形粒子である架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−１５０に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体３を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＭＸ−１５０をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は１．５μｍ、ＣＶ値は９％であった。

≪導電性パタン前駆体４の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を同社の球形粒子である架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴに代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体４を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＭＸ−８０Ｈ３ｗＴをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は０．８μｍ、ＣＶ値９％であった。

≪導電性パタン前駆体５の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を同社の球形粒子であるケミスノー架橋ポリスチレン単分散粒子ＳＸ−１３０Ｈに代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体５を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＳＸ−１３０Ｈをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は１．３μｍ、ＣＶ値は５％であった。

≪導電性パタン前駆体６の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００をモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズジャパン合同会社製の球形粒子である架橋シリコーン粒子トスパール１２０に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体６を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したトスパール１２０をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は２．０μｍ、ＣＶ値は５％であった。

≪導電性パタン前駆体７の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を積水化成品工業（株）製の球形粒子である架橋ポリメタクリル酸メチル粒子ＳＳＸ−１０２に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体７を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＳＳＸ−１０２をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は２．０μｍ、ＣＶ値は１５％であった。

≪導電性パタン前駆体８の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を東洋インキ（株）製の球形粒子である架橋アクリル粒子ＲＳＰ３０２１に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体８を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したＲＳＰ３０２１をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は０．６μｍ、ＣＶ値は１９％であった。

≪導電性パタン前駆体９の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を（株）日本触媒製の球形粒子であるアモルファスシリカ粒子シーホスターＫＥ−Ｐ３０に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体９を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したシーホスターＫＥ−Ｐ３０をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は０．３μｍ、ＣＶ値は２０％であった。

≪導電性パタン前駆体１０の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を同社の球形粒子である架橋アクリル単分散粒子ＭＸ−５００に代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体１０を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
＜球形粒子１０の測定＞
前記したＭＸ−５００をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、球形粒子の固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該球形粒子の平均粒径は５．０μｍ、ＣＶ値９．０％であった。

≪導電性パタン前駆体１１の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において綜研化学（株）製ＭＸ−３００を富士シリシア化学（株）製の合成シリカ サイリシア３１０Ｐに代えた以外は同様にして導電性パタン前駆体１１を得た。

＜平均粒子径およびＣＶ値の測定＞
前記したサイリシア３１０Ｐをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと混合して、合成シリカの固形分濃度が１０質量％の分散液を作製した後に、粒度分布をレーザー回折散乱方式の粒度分布計ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０で測定した。該合成シリカの平均粒径は２．７μｍ、ＣＶ値は４０％であった。

≪導電性パタン前駆体１２の作製≫
導電性パタン前駆体１の作製において球形粒子を添加しない以外は同様にして導電性パタン前駆体１２を得た。

＜導電性シートの作製＞
上記のようにして得られた導電性パタン前駆体１〜１２は、図１の導電性シートが作製できるネガ原稿のマスク画像を有するガラスマスクを用いて、該ガラスマスクに感光性レジスト層の表面を真空密着させ、超高圧水銀灯の光を集光し、コリメーターレンズを通して平行光露光を行った。なお、図１の導電性シートのパタン中、センサー部１１、ダミー部１２は線幅が５μｍ、一辺が３００μｍで狭い方の角度が６０°である菱形の格子メッシュからなる。センサー部１１とダミー部１２の間には境界線に沿って５μｍの長さで断線部が設けられている。個々のセンサー部１１ａ〜１１ｐは、対応する周辺配線部１３ａ〜１３ｐをそれぞれ経由し、端子部１４まで繋がっている。個々の周辺配線１３ａ〜１３ｐの幅と最中線間隔が狭い平行した部分における該周辺配線間の間隔（ライン＆スペース）は５０μｍである。

露光後の導電性パタン前駆体１〜１２は、それぞれ現像液として液温３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１１．８）を用い、現像液をシャワー方式にて感光性レジスト層に３０秒間吹き掛けて現像し、レジスト画像を得た。なお露光量は、センサー部の格子メッシュになる部分であるレジスト画像で被覆されていない領域（下地層が露出している領域）の幅が５μｍになるように設定した。レジスト画像で被覆されていいない同箇所の線幅は共焦点顕微鏡（Ｌａｓｅｒｔｅｃ社製ＯＰＴＥＬＩＣＳ Ｃ１３０）で確認した。

次に、表面を脱イオン水で洗浄し、圧縮空気により脱イオン水を吹き飛ばした後、双頭スプレーガンにて、下記組成のアンモニア性硝酸銀溶液と還元剤溶液を同時に３０秒間吹き付けて無電解銀めっき処理を行い、レジスト開口部の下地層が露出した溝部分に銀画像を形成した。その後、脱イオン水で綺麗に水洗し、自然乾燥させた。なお、双頭スプレーガン１台あたりの吹き付け量は各々２４０ｍｌ／分であった。

＜アンモニア性硝酸銀溶液＞
Ｄ液 硝酸銀 ２０ｇ
脱イオン水 １０００ｇ
Ｅ液 ２８％アンモニア水溶液 １００ｇ
モノエタノールアミン ５ｇ
脱イオン水 １０００ｇ
Ｄ液とＥ液を１：１で混合し、アンモニア性硝酸銀溶液を調液した。

＜還元剤溶液＞
硫酸ヒドラジン １０ｇ
モノエタノールアミン ５ｇ
水酸化ナトリウム １０ｇ
脱イオン水 １０００ｇに溶解し、還元剤溶液を調液した。

次に、ｐＨが１４弱の５％水酸化ナトリウム溶液をシャワー方式にて６０秒間吹き掛けてレジストパタンを溶解除去し、水洗後、自然乾燥することで、導電性パタン前駆体１〜１２を用いた導電性シート１〜１２を得た。

＜センサー部の導通確認＞
上記で得られた導電性シート１〜１２のセンサー部の導通を確認すべく、全てのセンサー部１６個と、該センサー部に対応した端子部１６個の間の導通をテスターにて確認し、１６組中、全てで導通が確認できたものを○、８〜１５組で導通が確認できたものを△、導通が確認できたものが７組以下であったものを×として評価した。この結果を表１に示す。

以上の結果より、本発明によれば、センサー部の断線が改善された導電性シートが得られることが判る。

１ 光透過性導電性シート
２ 絶縁性支持体
１１ センサー部
１２ ダミー部
１３ 周辺配線部
１４ 端子部
１５ アース配線

Claims (2)

1. 光透過性支持体の少なくとも一方の面に、水溶性高分子化合物、架橋剤および金属硫化物を含有する下地層と、該下地層上に平均粒径が０．７〜４．０μｍであってＣＶ値が１７％以下である球形粒子を含有する感光性レジスト層を有することを特徴とする導電性パタン前駆体。
2. 請求項１に記載の導電性パタン前駆体を露光後、現像し、任意のパタンで下地層が露出したレジスト開口部を有するレジストパタンを形成した後、無電解めっき処理によりレジスト開口部の下地層上に金属を積層させ、その後レジストパタンを除去することを特徴とする導電性パタンの製造方法。