JP2017048400A - 樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含有する樹脂組成物であって、該無機充填材がアミノアルキルシランで表面処理されており、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が55〜90質量%であることを特徴とする樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
〔1〕 エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含有する樹脂組成物であって、該無機充填材がアミノアルキルシランで表面処理されており、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が55〜90質量%であることを特徴とする樹脂組成物。
〔2〕 該アミノアルキルシランが、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノイソプロピル基及びアミノシクロプロピル基から選択される1種以上を含むことを特徴とする〔1〕記載の樹脂組成物。
〔3〕 該アミノアルキルシランが、3−アミノプロピルシランであることを特徴とする〔1〕又は〔2〕記載の樹脂組成物。
〔4〕 該アミノアルキルシランの分子量が、100〜2000であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔5〕該無機充填材の平均粒径が、0.01〜5μmであることを特徴とする請求項〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔6〕 該無機充填材が、シリカであることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔7〕 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が60〜85質量%であることを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔8〕 該無機充填材100質量部に対して、該アミノアルキルシランを0.05〜5質量部で表面処理することを特徴とする〔1〕〜〔7〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔9〕 該無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量が、0.05〜1mg/m2であることを特徴とする〔1〕〜〔8〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔10〕 該エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂及びブタジエン構造を有するエポキシ樹脂から選択される1種以上であることを特徴とする〔1〕〜〔9〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔11〕 該硬化剤が、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上であることを特徴とする〔1〕〜〔10〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔12〕 該硬化剤が、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上であることを特徴とする〔1〕〜〔11〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔13〕 樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、その絶縁層表面を粗化処理した後の算術平均粗さが10〜300nmであり、二乗平均平方根粗さが20〜500nmであることを特徴とする〔1〕〜〔12〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔14〕 樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、その絶縁層表面を粗化処理し、メッキして得られる導体層と絶縁層とのピール強度が0.35〜1.5kgf/cmであることを特徴とする〔1〕〜〔13〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔15〕 多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする〔1〕〜〔14〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔16〕 メッキにより導体層を形成する多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする〔1〕〜〔15〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔17〕 多層プリント配線板のビルドアップ層用樹脂組成物であることを特徴とする〔1〕〜〔16〕のいずれか1項記載の樹脂組成物。
〔18〕 〔1〕〜〔17〕のいずれか記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするシート状積層材料。
〔19〕 〔1〕〜〔17〕のいずれか記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成された多層プリント配線板。
〔20〕 〔19〕記載の多層プリント配線板を用いることを特徴とする半導体装置。
本発明に使用するエポキシ樹脂としては、特に限定されないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明に使用する硬化剤としては、特に限定されないが、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、酸無水物系硬化剤等が挙げられ、算術平均粗さ(Ra値)、二乗平均平方根粗さ(Rq値)をより低下させるという観点から、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上を用いることが好ましく、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上を用いることがより好ましい。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明に使用する無機充填材としては、特に限定されないが、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。なかでも、無定形シリカ、粉砕シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ、球状シリカ等のシリカが好ましく、とくに絶縁層の表面粗さを低下させるという点で溶融シリカ、球状シリカがより好ましく、球状溶融シリカが更に好ましい。これらは1種または2種以上組み合わせて使用してもよい。
一方、アルコキシシリル基は本発明におけるピール強度向上に寄与する。アルコキシシリル基としては、1つのアルコキシシリル基あたり、2〜3のアルコキシ基を有するものが好ましく、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基が好ましい。なお、アルコキシシリル基は修飾されていてもよい。
従って、無機充填材をアミノアルキルシランで表面処理することで、樹脂組成物に無機充填材を55〜90質量%も配合した場合であっても、低粗度でありながらピール強度を向上させることに優れることとなる。
具体的なアミノアルキルシランとしては、3−アミノプロピルシランが好ましく、3−アミノプロピルトリメトキシシラン及び3−アミノプロピルトリエトキシシランから選択される1種以上を用いることがより好ましい。
本発明の樹脂組成物には、さらに硬化促進剤を含有させることにより、エポキシ樹脂と硬化剤を効率的に硬化させることができる。硬化促進剤としては、特に限定されないが、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ホスホニウム系硬化促進剤、金属系硬化促進剤等が挙げられる。これらは1種又は2種以上組み合わせて使用してもよい。
本発明の樹脂組成物には、さらに熱可塑性樹脂を含有させることにより、硬化物の機械強度を向上させることができ、更に接着フィルムの形態で使用する場合のフィルム成型能を向上させることもできる。熱可塑性樹脂としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂を挙げることができ、特にフェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。これらの熱可塑性樹脂は各々単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。熱可塑性樹脂の重量平均分子量は8000〜200000の範囲であるのが好ましく、12000〜100000の範囲がより好ましい。なお本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレンン換算)で測定される。GPC法による重量平均分子量は、具体的には、測定装置として(株)島津製作所製LC−9A/RID−6Aを、カラムとして昭和電工(株)社製Shodex K−800P/K−804L/K−804Lを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
本発明の樹脂組成物には、さらにゴム粒子を含有させることにより、メッキピール強度を向上させることができ、ドリル加工性の向上、誘電正接の低下、応力緩和効果を得ることもできる。本発明において使用され得るゴム粒子は、例えば、当該樹脂組成物のワニスを調製する際に使用する有機溶剤にも溶解せず、エポキシ樹脂などとも相溶しないものである。従って、該ゴム粒子は、本発明の樹脂組成物のワニス中では分散状態で存在する。このようなゴム粒子は、一般には、ゴム成分の分子量を有機溶剤や樹脂に溶解しないレベルまで大きくし、粒子状とすることで調製される。
本発明の樹脂組成物には、さらに難燃剤を含有させることにより、難燃性を付与することができる。難燃剤としては、例えば、有機リン系難燃剤、有機系窒素含有リン化合物、窒素化合物、シリコーン系難燃剤、金属水酸化物等が挙げられる。有機リン系難燃剤としては、三光(株)製のHCA、HCA−HQ、HCA−NQ等のフェナントレン型リン化合物、昭和高分子(株)製のHFB−2006M等のリン含有ベンゾオキサジン化合物、味の素ファインテクノ(株)製のレオフォス30、50、65、90、110、TPP、RPD、BAPP、CPD、TCP、TXP、TBP、TOP、KP140、TIBP、北興化学工業(株)製のTPPO、PPQ、クラリアント(株)製のOP930、大八化学(株)製のPX200等のリン酸エステル化合物、新日鐵化学(株)製のFX289、FX305、TX0712等のリン含有エポキシ樹脂、新日鐵化学(株)製のERF001等のリン含有フェノキシ樹脂、三菱化学(株)製のYL7613等のリン含有エポキシ樹脂等が挙げられる。有機系窒素含有リン化合物としては、四国化成工業(株)製のSP670、SP703等のリン酸エステルアミド化合物、大塚化学(株)社製のSPB100、SPE100、(株)伏見製薬所製FP−series等のホスファゼン化合物等が挙げられる。金属水酸化物としては、宇部マテリアルズ(株)製のUD65、UD650、UD653等の水酸化マグネシウム、巴工業(株)社製のB−30、B−325、B−315、B−308、B−303、UFH−20等の水酸化アルミニウム等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要に応じて他の成分を配合することができる。他の成分としては、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、マレイミド化合物、ブロックイソシアネート化合物のような熱硬化性樹脂、シリコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等の有機充填剤、オルベン、ベントン等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又はレベリング剤、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等の密着性付与剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、カーボンブラック等の着色剤、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、シラザン化合物等の表面処理剤、等を挙げることができる。なお、この表面処理剤を用いる場合には、アミノアルキルシランは該表面処理剤を介して無機充填材の表面に共有結合していてもよい。
(接着フィルム)
本発明の接着フィルムは、当業者に公知の方法、例えば、有機溶剤に樹脂組成物を溶解した樹脂ワニスを調製し、この樹脂ワニスを、ダイコーターなどを用いて、支持体に塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。
本発明のプリプレグは、本発明の樹脂組成物をシート状補強基材にホットメルト法又はソルベント法により含浸させ、加熱して半硬化させることにより製造することができる。すなわち、本発明の樹脂組成物がシート状補強基材に含浸した状態となるプリプレグとすることができる。シート状補強基材としては、例えば、ガラスクロスやアラミド繊維等のプリプレグ用繊維として常用されている繊維からなるものを用いることができる。そして支持体上にプリプレグが形成されたものが好適である。
次に、上記のようにして製造したシート状積層材料を用いて多層プリント配線板を製造する方法の一例を説明する。
本発明の多層プリント配線板を用いることで半導体装置を製造することができる。本発明の多層プリント配線板の導通箇所に、半導体チップを実装することにより半導体装置を製造することができる。「導通箇所」とは、「多層プリント配線板における電気信号を伝える箇所」であって、その場所は表面であっても、埋め込まれた箇所であってもいずれでも構わない。また、半導体チップは半導体を材料とする電気回路素子であれば特に限定されない。
まずは各種測定方法・評価方法について説明する。
(1)内層回路基板の下地処理
内層回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.3mm、松下電工(株)製R5715ES)の両面をメック(株)製CZ8100にて1umエッチングして銅表面の粗化処理をおこなった。
実施例及び比較例で作成した接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP-500(名機(株)製商品名)を用いて、内層回路基板の両面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着することにより行った。
ラミネートされた接着フィルムを、100℃、30分続けて180℃、30分の硬化条件で樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、その後PETフィルムを剥離した。
絶縁層を形成した内層回路基板を、膨潤液である、アトテックジャパン(株)のジエチレングリコールモノブチルエーテル含有のスエリングディップ・セキュリガントP(グリコールエーテル類、水酸化ナトリウムの水溶液)に、80℃で10分間浸漬した。次に粗化液として、アトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に、80℃で20分間浸漬した。最後に中和液として、アトテックジャパン(株)のリダクションショリューシン・セキュリガントP(硫酸の水溶液)に40℃で5分間浸漬した。80℃で30分乾燥後、この粗化処理後の絶縁層表面について、算術平均粗さ(Ra値)、二乗平均平方根粗さ(Rq値)の測定を行った。
絶縁層表面に回路を形成するために、内層回路基板を、PdCl2を含む無電解メッキ用溶液に40℃で5分間浸漬し、次に無電解銅メッキ液に25℃で20分間浸漬した。150℃にて30分間加熱してアニール処理を行った後に、エッチングレジストを形成し、エッチングによるパターン形成の後に、硫酸銅電解メッキを行い、30μmの厚さで導体層を形成した。次に、アニール処理を200℃にて60分間行った。この回路基板についてメッキ導体層の引き剥がし強さ(ピール強度)の測定を行った。
非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製WYKO NT3300)を用いて、VSIコンタクトモード、50倍レンズにより測定範囲を121μm×92μmとして得られる数値によりRa値、Rq値を求めた。そして、それぞれ10点の平均値を求めることにより測定した。
回路基板の導体層に、幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具(株式会社ティー・エス・イー、オートコム型試験機 AC−50C−SL)で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重(kgf/cm)を測定した。
実施例及び比較例で作成した接着フィルムを190℃、60分間熱硬化させ、支持体を剥離することによりシート状の硬化体を得た。その硬化体を、幅5mm、長さ15mmの試験片に切断し、熱機械分析装置Thermo Plus TMA8310((株)リガク製)を使用して、引張加重法で熱機械分析を行った。試験片を前記装置に装着後、荷重1g、昇温速度5℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定における25℃から150℃までの平均の線熱膨張係数(ppm/℃)を算出した。
無機充填材1:球形シリカ(電気化学工業(株)製「SFP−130MC」、平均粒径0.6μm、比表面積6.2m2/g)100部に対して、3−アミノプロピルシラン(信越化学工業(株)製、「KBM903」、分子量179)0.3部で表面処理したもの、単位表面積当たりのカーボン量0.13mg/m2。
mg/m2。
ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP4032SS」)10部、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品)5部、ナフトール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ESN−475V」)20部、フェノキシ樹脂(重量平均分子量35000、三菱化学(株)製「YL7553BH30」、不揮発成分30質量%のMEKとシクロヘキサノンの1:1溶液)5部をソルベントナフサ50部に撹拌しながら加熱溶解させ、その後室温にまで冷却した。次いで、活性エステル化合物(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性エステル当量223、固形分65%のトルエン溶液)10部、ビスフェノールAジシアネートのプレポリマー(ロンザジャパン(株)製「BA230S75」、シアネート当量約232、不揮発分75質量%のMEK溶液)20部、フェノールノボラック型多官能シアネートエステル樹脂(ロンザジャパン(株)製「PT30S」、シアネート当量約133、不揮発分85質量%のMEK溶液)10部、ゴム粒子(ガンツ化成(株)製、スタフィロイドAC3816N)4部をソルベントナフサ16部に室温で12時間膨潤させておいたもの、難燃剤(三光(株)製「HCA−HQ」、10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-10-ヒドロ-9-オキサ-10-フォスファフェナンスレン-10-オキサイド、平均粒径1μm)3部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン、固形分4質量%のMEK溶液)0.5部、硬化促進剤(東京化成(株)製、コバルト(III)アセチルアセトナート、固形分1質量%のMEK溶液)4.5部を加え、更に無機充填材1を150部混合し、回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニスを作製した。次に、かかる樹脂ワニスをアルキド系離型処理付きポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック(株)製「AL5」、厚さ38μm)の離型面上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚みが40μmとなるようにダイコーターにて均一に塗布し、80〜110℃(平均95℃)で5分間乾燥し、接着フィルムを得た。
無機充填材1の150部を無機充填材2の175部に変更し、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品)5部をビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」)5部に変更し、ビスフェノールAジシアネートのプレポリマー(ロンザジャパン(株)製「BA230S75」、シアネート当量約232、不揮発分75質量%のMEK溶液)20部を25部に変更し、フェノールノボラック型多官能シアネートエステル樹脂(ロンザジャパン(株)製「PT30S」、シアネート当量約133、不揮発分85質量%のMEK溶液)10部を6部に変更し、ゴム粒子4部を3部に変更した以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次いで、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
無機充填材1を無機充填材3に変更した以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次いで、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
無機充填材1を無機充填材4に変更した以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次いで、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
無機充填材1を無機充填材5に変更した以外は、実施例1と全く同様にして樹脂ワニスを作製した。次いで、実施例1と全く同様にして接着フィルムを得た。
Claims (21)
- エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含有する樹脂組成物であって、
該無機充填材がアミノアルキルシランで表面処理されており、
該アミノアルキルシランが、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノイソプロピル基及びアミノシクロプロピル基から選択される1種以上を含み、
該エポキシ樹脂がビフェニル型エポキシ樹脂であり、
該樹脂組成物の硬化物の線熱膨張係数が25ppm以下であり、
樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が55〜90質量%であることを特徴とする樹脂組成物。 - 該アミノアルキルシランが、3−アミノプロピルシランであることを特徴とする請求項1記載の樹脂組成物。
- 該アミノアルキルシランの分子量が、100〜2000であることを特徴とする請求項1又は2記載の樹脂組成物。
- 該無機充填材の平均粒径が、0.01〜5μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該無機充填材が、シリカであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が65〜90質量%であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%とした場合、該無機充填材の含有量が65〜85質量%であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該無機充填材100質量部に対して、該アミノアルキルシランを0.05〜5質量部で表面処理することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量が、0.05〜1mg/m2であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該硬化剤が、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該硬化剤が、活性エステル系硬化剤及びシアネートエステル系硬化剤から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 該硬化剤が、シアネートエステル系硬化剤であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、その絶縁層表面を粗化処理した後の算術平均粗さが10〜300nmであり、二乗平均平方根粗さが20〜500nmであることを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物を硬化して絶縁層を形成し、その絶縁層表面を粗化処理し、メッキして得られる導体層と絶縁層とのピール強度が0.35〜1.5kgf/cmであることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- メッキにより導体層を形成する多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物であることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 多層プリント配線板のビルドアップ層用樹脂組成物であることを特徴とする請求項1〜17のいずれか1項記載の樹脂組成物。
- 請求項1〜18のいずれか1項記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするシート状積層材料。
- 請求項1〜18のいずれか1項記載の樹脂組成物の硬化物により絶縁層が形成された多層プリント配線板。
- 請求項20記載の多層プリント配線板を用いることを特徴とする半導体装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019172898A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物、シート状積層材料、プリント配線板及び半導体装置 |
WO2020065873A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 日立化成株式会社 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
WO2020189309A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 日立化成株式会社 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
CN113831875A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-24 | 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 | 一种绝缘胶膜及其制备方法和应用 |
WO2023157542A1 (ja) * | 2022-02-21 | 2023-08-24 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006233127A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | アンダーフィル用液状封止樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法 |
WO2010087526A1 (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2011089038A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
JP2011174082A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-09-08 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板及び多層積層板 |
JP2011256300A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
JP2012036349A (ja) * | 2010-08-11 | 2012-02-23 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料、積層フィルム及び多層基板 |
JP2012140570A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料及び多層基板 |
JP2012167138A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プリアプライド用封止樹脂組成物、半導体チップおよび半導体装置 |
JP2012251045A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料及び多層基板 |
-
2016
- 2016-11-29 JP JP2016231732A patent/JP6534986B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006233127A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | アンダーフィル用液状封止樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法 |
JP2011174082A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-09-08 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板及び多層積層板 |
WO2010087526A1 (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP2011089038A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
JP2011256300A (ja) * | 2010-06-10 | 2011-12-22 | Ajinomoto Co Inc | 樹脂組成物 |
JP2012036349A (ja) * | 2010-08-11 | 2012-02-23 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料、積層フィルム及び多層基板 |
JP2012140570A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料及び多層基板 |
JP2012167138A (ja) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プリアプライド用封止樹脂組成物、半導体チップおよび半導体装置 |
JP2012251045A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ樹脂材料及び多層基板 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019172898A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物、シート状積層材料、プリント配線板及び半導体装置 |
CN110317431A (zh) * | 2018-03-29 | 2019-10-11 | 味之素株式会社 | 树脂组合物、片状层叠材料、印刷布线板及半导体装置 |
WO2020065873A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 日立化成株式会社 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
CN112752795A (zh) * | 2018-09-27 | 2021-05-04 | 昭和电工材料株式会社 | 密封用树脂组合物、电子部件装置及电子部件装置的制造方法 |
JPWO2020065873A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2021-08-30 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
TWI816889B (zh) * | 2018-09-27 | 2023-10-01 | 日商力森諾科股份有限公司 | 密封用樹脂組成物、電子零件裝置及電子零件裝置的製造方法 |
WO2020189309A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 日立化成株式会社 | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
CN113831875A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-24 | 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 | 一种绝缘胶膜及其制备方法和应用 |
CN113831875B (zh) * | 2021-09-18 | 2024-01-09 | 深圳市纽菲斯新材料科技有限公司 | 一种绝缘胶膜及其制备方法和应用 |
WO2023157542A1 (ja) * | 2022-02-21 | 2023-08-24 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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