JP2017048370A - パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の提供。
【解決手段】本発明は、式（１）：

［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供する。
【選択図】なし

Description

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。

特表２００８−５３４６９６号公報 国際公開第９７／０７１５５号

表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期に亘って提供するべく、高い耐久性が求められる。しかしながら、本発明者らは、上記のような表面処理層は、光、特に紫外線に曝露した場合の耐久性が十分でないことに気付いた。

本発明は、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、高い光安定性、特に高い紫外線耐性を有する層を形成することのできる新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、分子鎖にラジカルを捕捉する基または紫外線を吸収する基を導入することにより、表面処理層の光安定性、特に紫外線耐性が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明の第１の要旨によれば、式（１）：

［式中：
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−を表し；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｋＲ^２ _ｌＲ^３ _ｍを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表し；
Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義であり；
Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲ^ｂにおいて、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり、式（１）において、少なくとも１つのｌは１以上であり；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基を表し；
Ｘは、３〜１０価の有機基であり；
αは、１〜８の整数であり；
βは、１〜８の整数であり；
γは、１〜８の整数である。］
で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤が提供される。

本発明の第３の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。

本発明の第４の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、新規なパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が提供される。さらに、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を使用して得られる表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた光耐性を有する表面処理層を形成することができる。

以下、本発明の化合物について説明する。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本発明は、式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基（以下、「ＰＦＰＥ」ともいう）含有シラン化合物を提供する（以下、「本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物」ともいう）。

上記式中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−を表す。

上記Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−であり、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１〜２００の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１〜２００の整数である。また、好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上２００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、より好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

一の態様において、上記−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−において、ｄに対するｃの比（以下、「ｃ／ｄ比」という）の下限は、０．２、好ましくは０．３であり、ｃ／ｄ比の上限は、１．５、好ましくは１．３、より好ましくは１．１、さらに好ましくは０．９であり得る。ｃ／ｄ比を１．５以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性および摩擦耐久性がより向上する。ｃ／ｄ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｃ／ｄ比を０．２以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｃ／ｄ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^８）_ｎ”−で表される基である。式中、Ｒ^８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｎ”は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｎ”−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｎ”−である。

上記式中、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｋＲ^２ _ｌＲ^３ _ｍを表す。

式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基を表し、Ｒ^ｂ基におけるＺは、好ましくは酸素原子または２価の有機基である。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。

上記Ｚは、より好ましくはＣ_１−６アルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_２−３アルキレン基である。

Ｚ基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表す。Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義である。

Ｒ^ｂ中、末端のＲ^ｂ’（Ｒ^ｂ’が存在しない場合、Ｒ^ｂ）において、上記ｌは、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。ｌの値が大きいほど、より高い摩擦耐久性を得ることができる。

Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｂにおいて、Ｒ^１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｂ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｂ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ｂ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ｂ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｂ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個である。

一の態様において、Ｒ^ｂは、その末端に、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _３または−Ｚ−ＳｉＲ^１ _２Ｒ^２ _ｌＲ^３ _ｍ、好ましくは−Ｚ−ＳｉＲ^１ _３を有する。この末端基において、Ｒ^１は、−Ｚ−ＳｉＲ^２ _ｌＲ^３ _ｍ（ｌは、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である）である。このような構造を有することにより、より高い摩擦耐久性を得ることができる。

式中、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

好ましくは、Ｒ^２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基またはエチル基、さらに好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり、式（１）において、少なくとも１つのｌは１以上である。

一の態様において、ｌは２または３であり、好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基を表す。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいＲ^ｃとしては、

が挙げられる。

上記式中、αは１〜８の整数であり、βは１〜８の整数であり、γは１〜８の整数である。α、βおよびγの和は、Ｘの価数と同じである。

一の態様において、αは、１〜６の整数、例えば１〜５の整数または１〜３の整数であり得る。

別の態様において、αは、２〜８の整数、例えば２〜６の整数、２〜５の整数、３〜８の整数、または３〜６の整数であり得る。

一の態様において、βは、１〜６の整数、例えば１〜５の整数または１〜３の整数であり得る。

別の態様において、βは、２〜８の整数、例えば２〜６の整数、２〜５の整数、３〜８の整数、または３〜６の整数であり得る。

一の態様において、γは、１〜６の整数、例えば１〜５の整数または１〜３の整数であり得る。

別の態様において、γは、２〜８の整数、例えば２〜６の整数、２〜５の整数、３〜８の整数、または３〜６の整数であり得る。

さらに別の態様において、γは、１、２または３であり、好ましくは１または２であり、代表的には１である。

上記式中、Ｘは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表す。当該Ｘは、式（１）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒ^ａ）と、基材との結合能を提供する部（即ち、Ｒ^ｂ）と、ラジカルを捕捉する、または紫外線を吸収する部（即ち、Ｒ^ｃ）を連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘは、式（１）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

一の態様において、Ｘ基の例としては、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基であり；
Ｔのうち任意のいくつか（α個）は、式（１）のＲ^ａに結合するＲ^４３であり；
Ｒ^４３は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
別のＴのいくつか（β個）は、式（１）のＲ^ｂに結合する２価のＲ^４４であり；
Ｒ^４４は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
さらに別のＴのいくつか（γ個）は、式（１）のＲ^ｃに結合する２価のＲ^４５であり；
Ｒ^４５は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
存在する場合、残りは、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキル基、フェニル基またはＣ_１−６アルコキシ基である。］

Ｒ^４３は、好ましくは、下記式：
−（ＣＲ^５０ _２）_ｒ−Ｒ^４６ _ｓ−（ＣＲ^４７ _２）_ｔ−
［式中、Ｒ^５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^４６は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−または−ＣＯＮＲ^４８−であり；
Ｒ^４８は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子であり；
Ｒ^４７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり；
ｒは、０〜１０の整数、例えば１〜１０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数であり；
ｓは０または１であり；
ｒは、０〜１０の整数、例えば１〜１０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数であり；
添字ｒ、ｓまたはｔを付して括弧でくくられた各単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基、または下記式：

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
で表される基であり得る。

Ｒ^４３の具体的な例としては、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

が挙げられる。

Ｒ^４４は、好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｆ−（ｆは０〜６の整数、例えば１〜６の整数、好ましくは０、１または２である。）である。一の態様において、ｆは０であり、即ち、Ｒ^４４は、結合である。

Ｒ^４５は、好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｇ−（ｇは０〜６の整数、例えば１〜６の整数、好ましくは０、１または２である。）である。一の態様において、ｇは０であり、即ち、Ｒ^４５は、結合である。

好ましい態様において、Ｘは、

［式中：
Ｒ^４９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表し；
α、βおよびγは、式（１）の記載と同意義である。］
で表される基である。

上記式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

上記式（１）で表される本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３２，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、末端にエチレン性二重結合を有するパーフルオロポリエーテル基含有化合物および末端にエチレン性二重結合を有するラジカル捕捉基または紫外線吸収基含有化合物と、二重結合と反応性を有する基、例えばヒドロシリル基を複数含有する化合物とを反応させることにより、分子中に、パーフルオロポリエーテル基およびラジカル捕捉基または紫外線吸収基を導入することができる。次いで、公知の方法により、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３等を導入することにより本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を得ることができる。別法として、上記二重結合と反応性を有する基を含有する化合物として、−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３等を有する化合物を用いてもよい。

次に、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

上記表面処理剤は、式（１）で表される化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒ^２１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^２２ ・・・（３）
式中、Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^２１およびＲ^２２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ａ）
Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒ^２１およびＲ^２２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは２５〜４００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の式（１）で表される化合物と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。

一の好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、ＰＦＰＥが−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ｂは１〜２００の整数である）である式（１）で表される化合物、および式（３ｂ）で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着法により表面処理層を形成することにより、優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。

一のより好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、ＰＦＰＥが−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下、好ましくは０以上１０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下の整数である。添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）で表される化合物、および式（３ｂ）で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着により表面処理層を形成することにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。

これらの態様において、式（３ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。

これらの態様において、式（３ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００〜３０，０００であることが好ましい。式（３ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、乾燥被覆法、例えば真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、８，０００〜３０，０００であることが好ましく、湿潤被覆法、例えばスプレー処理により表面処理層を形成する場合には、２，０００〜１０，０００、特に３，０００〜５，０００であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式（１）で表される化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような式（１）で表される化合物および含フッ素オイルの平均分子量とすることにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６のパーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物は、ＲｆがＣ_１−１６のパーフルオロアルキル基である上記式（１）で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物または表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素-炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基（上記式（１）のいずれかで表される化合物においてＲ^１が全て水酸基である場合にはその水酸基である。以下も同様）同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。この結果、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には２５０℃以下、例えば１８０℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する４種の繰り返し単位（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の存在順序は任意である。

・合成例１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピぺリジン１０ｇ、水素化ナトリウム４．６ｇ、およびテトラブチルアンモニウムブロミド０．１ｇを仕込んだ後、アリルクロリド１４．７ｇを加え５０℃で撹拌した。その後、精製分離し、化合物（Ａ）９．６ｇを得た。

化合物（Ａ）

合成例２
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_１６ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）および／または（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量含む化合物も含まれるが、極少量のため考慮していない）で表されるパーフルオロポリアリルエーテル５ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇを仕込み３０分間撹拌した。次いで、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン０．３５ｇおよび１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を約２％含むキシレン溶液を０．０２ｍｌ加えた後、６０℃で３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇおよび合成例１で合成した化合物（Ａ）０．３ｇを加え、６０℃で３時間撹拌した。次いで、ビニルトリメトキシシラン０．５ｇを加え、６０℃で３時間撹拌した。その後、分離精製し、下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）３．４ｇを得た。

パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）：

［式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_１６ＣＦ_２−である。］

実施例１
上記合成例２で得た化合物（Ｂ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

合成例３
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２で表されるパーフルオロポリアリルエーテル５ｇ、および１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇを仕込み３０分間撹拌した。続いて、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン０．３６ｇおよび１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を約２％含むキシレン溶液を０．０２ｍｌ加えた後、６０℃で３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６ｇおよび合成例１で合成した化合物（Ａ）０．２５ｇを加え、６０℃で３時間撹拌した。その後、ビニルトリメトキシシラン０．５ｇを加え、６０℃で３時間撹拌した。その後、分離精製し、下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）３．５ｇを得た。

パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）：

［式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０ＣＦ_２ＣＦ_２−である。］

実施例２
上記合成例３で得た化合物（Ｃ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤２を調製した。

上記で調製した表面処理剤１および２を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、化学強化ガラス表面に７ｎｍの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｃ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。

比較例１
化合物（Ｃ）に代えて、下記対照化合物１を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

・対照化合物１

［式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０（ＣＦ_２Ｏ）_１６ＣＦ_２−である。］

・耐ＵＶ性評価
上記の実施例１および２、ならびに比較例１にて基材表面に形成された表面処理層について、ＵＶ照射後の水の静的接触角を測定した。ＵＶ照射はＵＶＢ−紫外線ランプ（三共電気製Ｇ１５Ｔ８Ｅ、３０６ｎｍにおいて放射照度２．７４ｍＷ／ｃｍ^２）で照射し、水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。

まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（ＵＶ照射時間０時間）。その後、経過時間毎に水の静的接触角（度）を測定し、累積照射時間２８６時間まで評価を行った。結果を表１に示す。

上記の結果から理解されるように、ラジカル捕捉基および／または紫外線吸収基を有する本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、このような構造を有しない比較例１と比較して、ＵＶ耐久性が向上することが確認された。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Ｒ^４３は、好ましくは、下記式：
−（ＣＲ^５０ _２）_ｒ−Ｒ^４６ _ｓ−（ＣＲ^４７ _２）_ｔ−
［式中、Ｒ^５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり；
Ｒ^４６は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−または−ＣＯＮＲ^４８−であり；
Ｒ^４８は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子であり；
Ｒ^４７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基）またはフェニル基であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり；
ｒは、０〜１０の整数、例えば１〜１０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数であり；
ｓは０または１であり；
ｔは、０〜１０の整数、例えば１〜１０の整数、好ましくは２〜１０の整数、より好ましくは２〜６の整数であり；
添字ｒ、ｓまたはｔを付して括弧でくくられた各単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基、または下記式：

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
で表される基であり得る。

Claims (24)

1. 式（１）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−を表し；
   Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
   ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−
   （式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
   で表される基であり；
   Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^１ _ｋＲ^２ _ｌＲ^３ _ｍを表し；
   Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂ’を表し；
   Ｒ^ｂ’は、Ｒ^ｂと同意義であり；
   Ｒ^ｂ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
   Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、一のＲ^ｂにおいて、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり、式（１）において、少なくとも１つのｌは１以上であり；
   Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基を表し；
   Ｘは、３〜１０価の有機基であり；
   αは、１〜８の整数であり；
   βは、１〜８の整数であり；
   γは、１〜８の整数である。］
   で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
2. Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
3. ＰＦＰＥが、以下の式（ｉ）〜（ｉｖ）のいずれか：
   −（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ− （ｉ）
   ［式中、ｂは１〜２００の整数である。］
   −（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｂ− （ｉｉ）
   ［式中、ｂは１〜２００の整数である。］
   −（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ− （ｉｉｉ）
   ［式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
   または
   −（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^８）_ｎ”− （ｉｖ）
   ［式中、Ｒ^８は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり；
   ｎ”は、２〜１００の整数である。］
   で表される基である、請求項１または２に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
4. Ｒ^ｃが、
   

   

   
   

   

   であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
5. Ｘが：
   

   

   ［式中、
   Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、または炭素数１〜６のアルコキシ基であり；
   Ｔのうち任意のいくつかは、式（１）のＲ^ａに結合する２価のＲ^４３であり；
   Ｒ^４３は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
   別のＴのいくつかは、式（１）のＲ^ｂに結合する２価のＲ^４４であり；
   Ｒ^４４は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
   さらに別のＴのいくつかは、式（１）のＲ^ｃに結合する２価のＲ^４５であり；
   Ｒ^４５は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
   存在する場合、残りは、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキル基、フェニル基またはＣ_１−６アルコキシ基である。］
   からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
6. Ｒ^４３が、下記式：
   −（ＣＲ^５０ _２）_ｒ−Ｒ^４６ _ｓ−（ＣＲ^４７ _２）_ｔ−
   ［式中、Ｒ^５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基であり；
   Ｒ^４６は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−または−ＣＯＮＲ^４８−であり；
   Ｒ^４８は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基であり；
   Ｒ^４７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基であり；
   ｒは、０〜１０の整数であり；
   ｓは、０または１であり；
   ｒは、０〜１０の整数であり；
   添字ｒ、ｓまたはｔを付して括弧でくくられた各単位の存在順序は、式中において任意である。］
   で表される基または下記式：
   

   

   ［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。］
   で表される基であり；
   Ｒ^４４が、−（ＣＨ_２）_ｆ−（ｆは０〜６の整数である。）であり；
   Ｒ^４５が、−（ＣＨ_２）_ｇ−（ｇは０〜６の整数である。）である、
   請求項５に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
7. Ｒｆ−ＰＦＰＥ部の数平均分子量が、５００〜３０，０００である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
8. ２，０００〜３２，０００の数平均分子量を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
10. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項９に記載の表面処理剤。
11. 含フッ素オイルを含み、含フッ素オイルが、式（３）：
    Ｒ^２１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒ^２２ ・・・（３）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１０に記載の表面処理剤。
12. 含フッ素オイルを含み、含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ａ）
    Ｒ^２１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒ^２２ ・・・（３ｂ）
    ［式中：
    Ｒ^２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
    Ｒ^２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
    式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
    添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１０または１１に記載の表面処理剤。
13. 少なくとも式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む、請求項１２に記載の表面処理剤。
14. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の式（１）で表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比が、４：１〜１：４である、請求項１２または１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
15. 式（３ａ）で表される化合物が、２，０００〜８，０００の数平均分子量を有する、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
16. 式（３ｂ）で表される化合物が、２，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
17. 式（３ｂ）で表される化合物が、８，０００〜３０，０００の数平均分子量を有する、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
18. さらに溶媒を含む、請求項９〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
19. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項９〜１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
20. 真空蒸着用である、請求項９〜１９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
21. 請求項９〜２０のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
22. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物または請求項９〜２０のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
23. 前記物品が光学部材である、請求項２２に記載の物品。
24. 前記物品がディスプレイである、請求項２２または２３に記載の物品。