JP2017028019A5 - - Google Patents
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Description
［実施例４及び比較例１及び２］
バインダー粒子の種類及びメジアン径、フィラーのメジアン径及び添加量、無機物層の平均厚み、シロキサン化合物の種類並びにコーティング層の有無又は平均厚みを表１に記載の通りとした他は実施例１と同様にして放熱基板を得た。なお、表１中「−」は放熱基板がコーティング層を備えていないことを示す。
バインダー粒子の種類及びメジアン径、フィラーのメジアン径及び添加量、無機物層の平均厚み、シロキサン化合物の種類並びにコーティング層の有無又は平均厚みを表１に記載の通りとした他は実施例１と同様にして放熱基板を得た。なお、表１中「−」は放熱基板がコーティング層を備えていないことを示す。
表２に示されるように、実施例の放熱基板は、各層の割れ及び最低耐電圧に優れており、絶縁性に優れていた。特に、コーティング層として比較的低分子のシリコーンオリゴマーであるＫＲ４００を用いた実施例１、バインダー粒子の平均粒径が３μｍ、フィラーの平均粒径が２０μｍであり、かつ無機物層の平均厚みが８０μｍ以上である実施例２、３は最低耐電圧により優れていた。
一方、フィラーを有さない比較例１、無機物層の平均厚みが３０μｍ未満の比較例２は、無機物層やコーティング層の割れが生じ、また最低耐電圧も低く、絶縁性に劣っていた。
Claims (5)
- アルミニウム又はアルミニウム合金を主成分とする基材と、
この基材の一方の面に積層され、絶縁性を有する熱伝導層と
を備える放熱基板であって、
上記熱伝導層が、
アルミナを主成分とするフィラー及びリン酸塩ガラスを主成分とするバインダーを含有する無機物層と、
この無機物層の一方の面に積層され、シリコン酸化物を主成分とするコーティング層と
を備え、
上記無機物層の平均厚みが３０μｍ以上１００μｍ以下、上記コーティング層の平均厚みが５μｍ以上２０μｍ以下であり、
上記無機物層におけるフィラーのメジアン径が１０μｍ以上３０μｍ以下、フィラーの含有量が４０質量％以上７０質量％以下であることを特徴とする放熱基板。 - 上記コーティング層が上記シリコン酸化物の非晶質体を主体とする請求項１に記載の放熱基板。
- 請求項１又は請求項２に記載の放熱基板を備えるデバイス。
- アルミニウム又はアルミニウム合金を主成分とする基材と、
この基材の一方の面に積層され、絶縁性を有する熱伝導層と
を備える放熱基板の製造方法であって、
上記基材の一方の面に、アルミナを主成分とするフィラー及びリン酸塩ガラスを主成分とするバインダー粒子を含有する無機物層用組成物を塗工及び焼成する工程と、
この塗工及び焼成工程後に形成される無機物層の一方の面に、シロキサン化合物を主成分とするコーティング層用組成物を塗工及び乾燥する工程と
を備え、
上記無機物層の平均厚みが３０μｍ以上１００μｍ以下、上記コーティング層の平均厚みが５μｍ以上２０μｍ以下であり、
上記無機物層におけるフィラーのメジアン径が１０ｍ以上３０μｍ以下、フィラーの含有量が４０質量％以上７０質量％以下であることを特徴とする放熱基板の製造方法。 - 上記シロキサン化合物が、アルコキシシロキサン、そのオリゴマー又はそれを用いたポリシロキサンである請求項４に記載の放熱基板の製造方法。
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