JP2016538714A - 高いクラックフリー限界を有するcigsナノ粒子インキ調製物 - Google Patents
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Abstract
Description
CIGSナノ粒子をベースとするインキを調製する方法であって、500nm以上のクラックフリー限界(CFL)を有する薄膜を形成する方法を記載する。この明細書において、「CIGS」という語は、一般式CuwInxGa1−xSeyS2−y(但し、0.1≦w≦2;0≦x≦1及び0≦y≦2)で示されるあらゆる材料及びそのドープ種(doped species)を含む材料を意味するものと理解されるべきである。この方法では、厚さ1μm以上のCIGS層をたった2回のコーティングステップで堆積させることができ、高品質でクラックフリーの膜を維持することができる。また、さらなる処理を行なうことにより、光起電力デバイスを形成することができる。
この明細書で開示される方法は、CIGSナノ粒子インキの調製に関するものであって、基板に堆積してアニーリングすることにより、クラッキング、ピーリング又は層間剥離の無い厚さ500nm以上の膜を形成することができる。堆積とアニーリングのプロセスを繰り返すことにより、厚さ1μm以上の膜は、2回のコーティングステップによって、2層間で良好に接合され、かつ、下にある基板に良好に接合されて、均質な膜が形成される。さらなる処理を行なうことにより、PVデバイスが作製される。CFLが高いと、高品質のCIGS吸収体層がほんの2回のコーティングステップで形成されることができるので、ナノ粒子ベースを堆積させてCIGS薄膜を形成する従来の方法に比べて、労働集約度及び処理時間が低減される。本発明の方法を用いると、インキ調製物にバインダーを加えることなく、クラックフリー限界は500nm以上を達成することができる。バインダーを用いると、バインダーがナノ粒子表面で分解し、粒成長を妨げるので好ましくない。高品質膜は、PVデバイスの開回路電圧(Voc)、短回路電流(Jsc)、フィルファクター(FF)及び総合電力変換効率(PCE)性能特性等の性能特性を最適化するのに好ましい。
幾つかの実施形態において、CIGSデバイスは次のとおり作製されることができる。
1.Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子を第1溶媒の中に溶解して第1溶液Aを作る(図1中、ボックス10)。
2.Cu(In,Ga)S2ナノ粒子を第2溶媒の中に溶解して第2溶液を作る(図1中、ボックス12)。
3.AとBを適当な比率で混合して溶液Cを作る(図1中、ボックス14)。
4.オレイン酸を溶液Cに加えて混合し、インキDを作る(図1中、ボックス16)。
5.インキDを基板上に堆積して、膜を形成する(図1中、ボックス18)。
6.第1膜を不活性雰囲気中でアニーリングする(図1中、ボックス20)。
7.ステップ5と6を繰り返す(図1中、ボックス22)。
8.必要に応じて、例えばアニーリング、焼結、セレン化等の膜処理ステップをさらに実行する(図1中、ボックス24)。
9.n型半導体層を堆積して、接合部を形成する(図1中、ボックス26)。
10.真性ZnOを堆積して、拡大した空乏層を形成する(図1中、ボックス28)。
11.窓層を堆積する(図1中、ボックス30)
12.金属グリッドを堆積する(図1中、ボックス32)。
13.デバイスをカプセル化する(図1中、ボックス34)。
Claims (29)
- 光起電力膜を基板に形成する方法であって、
Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子を第1溶媒の中に溶解して第1溶液を作ること;
Cu(In,Ga)S2ナノ粒子を第2溶媒の中に溶解して第2溶液を作ること;
第1溶液と第2溶液を混合して第3溶液を作ること;
オレイン酸を第3溶液に加えてインキを作ること;
インキを基板上に堆積して、薄い第1膜を形成すること;
第1膜を不活性雰囲気中でアニーリングすること;
追加のインキを基板上の第1膜に堆積して厚い第2膜を形成すること;及び
第2膜を不活性雰囲気中でアニーリングすることを含む、方法。 - 第1膜及び第2膜の少なくとも1つの膜を焼結することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 第1膜及び第2膜の少なくとも1つの膜をセレン化することをさらに含む、請求項1又は2に記載の方法。
- アニーリング後の第1膜は、少なくとも約500nmの厚さを有する、請求項1又は2又は3に記載の方法。
- アニーリング後の第2膜は、少なくとも約1μmの厚さを有する、請求項1乃至4の何れかに記載の方法。
- Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子及びCu(In,Ga)S2ナノ粒子は、有機リガンドでキャッピングされる、請求項1乃至5の何れかに記載の方法。
- Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子は、有機セレノールリガンドでキャッピングされる、請求項6に記載の方法。
- Cu(In,Ga)S2ナノ粒子は、有機チオールリガンドでキャッピングされる、請求項6に記載の方法。
- 第1溶媒及び第2溶媒の少なくとも1つの溶媒はトルエンである、請求項1乃至8の何れかに記載の方法。
- 第1溶媒及び第2溶媒は、アルカン、塩素化溶媒、ケトン、エーテル及びテルペンからなる群から選択される、請求項1乃至8の何れかに記載の方法。
- 第3溶液中の第1溶液及び第2溶液の比率は、約0.8:1乃至約1:0.8である、請求項1乃至10の何れかに記載の方法。
- インキ中のオレイン酸濃度は約2〜約5重量%である、請求項1乃至11の何れかに記載の方法。
- 基板は、インジウムスズ酸化物でコートされたベアガラスである、請求項1乃至12の何れかに記載の方法。
- 基板は、モリブデンでコートされたベアガラスである、請求項1乃至12のい何れかに記載の方法。
- 基板は、モリブデンでコートされたソーダ石灰ガラスである、請求項1乃至12の何れかに記載の方法。
- 第1アニーリングステップ及び第2アニーリングステップの少なくとも1つのステップは、約250℃〜300℃の低い温度の第1温度で約0.2〜約7分間アニーリングした後、約400℃〜約460℃の高い温度の第2温度で約0.2〜約7分間アニーリングすることを含む、請求項1乃至15の何れかに記載の方法。
- セレン化ステップは、セレンに富むセレンリッチ雰囲気中で、第1膜及び第2膜の少なくとも1つの膜を含む、請求項3に記載、又は、請求項4乃至16の何れかの請求項であって、当該請求項が請求項3を引用する請求項に記載の方法。
- セレンリッチ雰囲気は、不活性キャリアガス中にH2Seを含む、請求項17に記載の方法。
- 不活性キャリアガスは、分子窒素である、請求項18に記載の方法。
- H2Seガスの濃度は、約2〜約5体積%である、請求項18又は19に記載の方法。
- セレンリッチ雰囲気は、不活性キャリアガス中に元素セレンを含む、請求項17に記載の方法。
- 不活性キャリアガスは、分子窒素である、請求項21に記載の方法。
- 基板に形成されたナノ粒子インキであって、
Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子を第1溶媒の中に溶解して第1溶液を作るステップ;
Cu(In,Ga)S2ナノ粒子を第2溶媒の中に溶解して第2溶液を作るステップ;
第1溶液と第2溶液を混合して第3溶液を作るステップ;
オレイン酸を第3溶液に加えてインキを作るステップ;
を含むプロセスによって調製されるナノ粒子インキ。 - 基板に形成された光起電力膜であって、
Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子を第1溶媒の中に溶解して第1溶液を作るステップ; Cu(In,Ga)S2ナノ粒子を第2溶媒の中に溶解して第2溶液を作るステップ;
第1溶液と第2溶液を混合して第3溶液を作るステップ;
オレイン酸を第3溶液に加えてインキを作るステップ;
インキを基板上に堆積して、薄い第1膜を形成するステップ;
第1膜を不活性雰囲気中でアニーリングするステップ;
追加のインキを基板上の第1膜に堆積して厚い第2膜を形成するステップ;及び
第2膜を不活性雰囲気中でアニーリングするステップ;
を含むプロセスによって調製される光起電力膜。 - 光起電力デバイスであって、
Cu(In,Ga)Se2ナノ粒子を第1溶媒の中に溶解して第1溶液を作るステップ;
Cu(In,Ga)S2ナノ粒子を第2溶媒の中に溶解して第2溶液を作るステップ;
第1溶液と第2溶液を混合して第3溶液を作るステップ;
オレイン酸を第3溶液に加えてインキを作るステップ;
インキを基板上に堆積して、薄い第1膜を形成するステップ;
第1膜を不活性雰囲気中でアニーリングするステップ;
追加のインキを基板上の第1膜に堆積して厚い第2膜を形成するステップ;
第2膜を不活性雰囲気中でアニーリングするステップ;
n型半導体層を第2膜に堆積するステップ;
真性ZnOをn型半導体層に堆積するステップ;
真性ZnOに窓層を堆積するステップ;
窓層に金属グリッドを堆積して複層アッセンブリを形成するステップ;及び
複層アッセンブリをカプセル化するステップ;
を含むプロセスによって調製される光起電力デバイス。 - n型半導体層は、硫化カドミウム(CdS)を含む、請求項25に記載の光起電力デバイス。
- n型半導体層は、硫化亜鉛(ZnS)を含む、請求項25に記載の光起電力デバイス。
- 窓層は、アルミニウム亜鉛酸化物を含む、請求項25又は26又は27に記載の光起電力デバイス。
- 窓層は、インジウムスズ酸化物を含む、請求項25又は26又は27に記載の光起電力デバイス。
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