JP2016535033A5 - - Google Patents
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Claims (60)
- R1R2CH−Arにより表される生成物を形成する方法であって、
R1R2CH−B(OH)2により表される第二級ボロン酸、Ar−Xにより表されるハロゲン化アリール、Pd触媒、配位子、およびAg2Oを組み合わせ:
R1およびR2は、置換C1〜C6アルキルおよび非置換C1〜C6アルキルからなる群より選択され;もしくはR1およびR2は、それらが結合する炭素と一緒になって、置換または非置換C3〜C8シクロアルキルを形成し;
Arは置換または非置換の単環または多環アリールを表し;
Xはハロゲンを表し;
前記Pd触媒はPd(0)またはPd(II)を表し;
前記配位子はP(o−R−フェニル)3を表し;
RはC1〜C4アルキルを表す]
それによって、R1R2CH−Arにより表される生成物を形成する工程、
を有してなる方法。 - 前記Pd触媒がPd(0)を表す、請求項1記載の方法。
- 前記Pd触媒がPd(II)を表す、請求項1記載の方法。
- 前記配位子がP(o−tol)3である、請求項1記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がアキラルである、請求項1から4いずれか1項記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がキラルである、請求項1から4いずれか1項記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がラセミ混合物である、請求項6記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がラセミ混合物ではない、請求項6記載の方法。
- R1R2CH−Arにより表される前記生成物がラセミ混合物ではない、請求項6記載の方法。
- R1およびR2が、置換C1〜C6アルキルおよび非置換C1〜C6アルキルからなる群より選択される、請求項1から9いずれか1項記載の方法。
- R1およびR2が、それらが結合する炭素と一緒になって、置換または非置換C3〜C8シクロアルキルを形成する、請求項1から4および6から9いずれか1項記載の方法。
- Arが置換または非置換フェニルを表す、請求項1から11いずれか1項記載の方法。
- Arが置換または非置換多環アリールを表す、請求項1から11いずれか1項記載の方法。
- XがBrである、請求項1から13いずれか1項記載の方法。
- XがIである、請求項1から13いずれか1項記載の方法。
- 空気中で安定なキラルの第二級ボロン酸を形成する方法において、該空気中で安定なキラルの第二級ボロン酸はラセミ混合物ではなく、
式(I):
により表されるキラルの第二級ボロン酸;ラセミ混合物ではないキラルのイミノ二酢酸;弱酸触媒;および極性非プロトン性溶媒を組み合わせ、それによって、キラルボロネートの混合物を形成する工程;
前記キラルボロネートの混合物を個々のジアステレオマーに分割する工程;および
前記個々のジアステレオマーを加水分解し、それによって、ラセミ混合物ではない、空気中で安定なキラルの第二級ボロン酸を形成する工程;
を有してなる方法。 - 前記分割する工程が結晶化による、請求項16記載の方法。
- 前記分割する工程がクロマトグラフィーによる、請求項16記載の方法。
- 前記加水分解する工程が水酸化物水溶液による、請求項16から18いずれか1項記載の方法。
- 前記加水分解する工程がNaOH水溶液による、請求項16から18いずれか1項記載の方法。
- 前記キラルのイミノ二酢酸が、ベンジルシクロペンチルイミノ二酢酸(BIDA)である、請求項16から20いずれか1項記載の方法。
- 前記弱酸触媒が、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム(PPTS)である、請求項16から21いずれか1項記載の方法。
- 前記極性非プロトン性溶媒がCH3CNである、請求項16から22いずれか1項記載の方法。
- 式(I)により表される前記キラルの第二級ボロン酸がラセミ混合物である、請求項16から23いずれか1項記載の方法。
- 式(I)により表される前記キラルの第二級ボロン酸がラセミ混合物ではない、請求項16から23いずれか1項記載の方法。
- 第一級または第二級ボロン酸の空気中で安定なトリヒドロキシボレート塩を形成する方法において、
(i)式(II):
式中、発生毎に独立して、
R1は、置換C1〜C6アルキルおよび非置換C1〜C6アルキルからなる群より選択され;
R2は、H、置換C1〜C6アルキルおよび非置換C1〜C6アルキルからなる群より選択され;
RaおよびRbは、必要に応じて置換されたアルキル、アリールおよびアシルからなる群より選択され;もしくはRaおよびRbは、それらが結合する−O−B(CHR1R2)−O−部分と一緒になって、必要に応じて置換された複素環であって、該複素環の主鎖が5〜10の重原子からなる複素環を形成し、ここで、B、O、およびNからなる群より独立して選択される3〜5のヘテロ原子が前記複素環中に存在する工程;および
(ii)式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸、エーテル、および濃水酸化物を組み合わせ、それによって、第一級または第二級ボロン酸の空気中で安定なトリヒドロキシボレート塩を形成する工程;
を有してなる方法。 - 第一級または第二級ボロン酸の前記空気中で安定なトリヒドロキシボレート塩、ルイス酸、および第2の極性非プロトン性溶媒を組み合わせ、それによって、式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸を再形成する工程をさらに有する、請求項26記載の方法。
- 前記ルイス酸がBF3OEt2である、請求項27記載の方法。
- 前記第2の極性非プロトン性溶媒がジオキサンである、請求項26または27記載の方法。
- R21、R22、R23、およびR24の各々が水素基を表す、請求項30記載の方法。
- 式(II)により表される前記第一級または第二級ボロネートがアキラルである、請求項26から31いずれか1項記載の方法。
- 式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸が第一級ボロン酸である、請求項26から32いずれか1項記載の方法。
- 式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸が第二級ボロン酸である、請求項26から32いずれか1項記載の方法。
- 前記第一級または第二級ボロン酸の前記空気中で安定な塩がアキラルである、請求項26から32いずれか1項記載の方法。
- 式(II)により表される前記第一級または第二級ボロネートがキラルである、請求項26から31いずれか1項記載の方法。
- 式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸が第一級ボロン酸である、請求項36または37記載の方法。
- 式(I)により表される前記第一級または第二級ボロン酸が第二級ボロン酸である、請求項36または37記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がアキラルである、請求項39記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸がキラルである、請求項39記載の方法。
- 式(I)により表される前記キラルの第二級ボロン酸がラセミ混合物である、請求項41記載の方法。
- 式(I)により表される前記キラルの第二級ボロン酸がラセミ混合物ではない、請求項41記載の方法。
- 式(II)により表される前記キラルの第一級または第二級ボロネートがラセミ混合物である、請求項36から43いずれか1項記載の方法。
- 式(II)により表される前記キラルの第一級または第二級ボロネートがラセミ混合物ではない、請求項36から43いずれか1項記載の方法。
- 前記第一級または第二級ボロン酸の前記空気中で安定な塩が、前記第二級ボロン酸のキラルの空気中で安定な塩である、請求項41記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸の前記キラルの空気中で安定な塩がラセミ混合物である、請求項46記載の方法。
- 前記第二級ボロン酸の前記キラルの空気中で安定な塩がラセミ混合物ではない、請求項46記載の方法。
- 前記第1の極性非プロトン性溶媒がテトラヒドロフラン(THF)である、請求項26から48いずれか1項記載の方法。
- 前記水酸化物水溶液がNaOH水溶液である、請求項26から49いずれか1項記載の方法。
- 前記エーテルがメチルtert−ブチルエーテル(MTBE)である、請求項26から50いずれか1項記載の方法。
- 前記濃水酸化物が濃NaOHである、請求項26から51いずれか1項記載の方法。
- 前記弱酸触媒がp−トルエンスルホン酸ピリジニウム(PPTS)である、請求項53記載の方法。
- 前記第1の極性非プロトン性溶媒がCH3CNである、請求項53または54記載の方法。
- 前記塩基がNaOHである、請求項53から55いずれか1項記載の方法。
- 前記第2の極性非プロトン性溶媒がテトラヒドロフラン(THF)である、請求項53から56いずれか1項記載の方法。
- 前記キラル有機基がラセミ混合物であり、前記キラルボロン酸がラセミ混合物である、請求項58記載の方法。
- 前記キラル有機基がラセミ混合物ではなく、前記キラルボロン酸がラセミ混合物ではない、請求項58記載の方法。
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