JP2016532576A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. ナノ構造の作製方法であって、
   基材を準備することと、
   プラズマ形態になったときに前記基材の上に層を堆積することができる第１のガス種と、プラズマ形態になったときに前記基材をエッチングすることができる第２のガス種とを混合し、それによってガス混合物を形成することと、
   前記ガス混合物をプラズマ形態にすることと、
   前記基材の表面を前記プラズマに曝すことと、を含み、前記表面がエッチングされ、かつ層が実質的同時にエッチングされた表面の少なくとも一部分の上に堆積され、それによってナノ構造が形成される、方法。
2. 前記第１のガス種が、有機ケイ素化合物、金属アルキル化合物、金属イソプロポキシド化合物、金属酸化物化合物、金属アセチルアセトネート化合物、金属ハライド化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化合物を含む、請求項１に記載のナノ構造の作製方法。
3. 請求項１に記載の方法から作製される物品。
4. ３％未満の反射率及び０．５％未満のヘーズ デルタを有し、選択的に２％未満の反射率を有する、請求項３に記載の物品。
5. 前記エッチングされた表面が、２：１超のアスペクト比を有する少なくとも１つのナノ構造を有し、選択的に、前記エッチングされた表面が、１５：１超のアスペクト比を有する少なくとも１つのナノ構造を有する、請求項３に記載の物品。
6. 前記堆積した種が、前記エッチングされた表面の実質的に全体にわたって存在する、請求項３に記載の物品。
7. 前記堆積した種の濃度が、前記露出した表面からの深さに応じて連続的に変化する、請求項６に記載の物品。
8. 前記露出した表面が、シラノール基を含む、請求項３に記載の物品。
9. 前記露出した表面に接着した感圧性接着剤の層を更に含み、選択的に、前記感圧性接着剤及び前記基材が、紫外線に安定である、請求項３に記載の物品。
10. 前記露出した表面が、少なくとも１つの寸法においてランダムであるパターンを有し、選択的に、前記露出した表面が、３つの直交する寸法においてランダムであるパターンを有する、請求項３に記載の物品。