JP2016532282A - ウエハを吸引し保持するためのチャック - Google Patents

Abstract

本発明は、チャックによりウエハを吸着し保持するためのチャックおよび方法に関する。このチャックは、複数の吸着セグメントに更に分割された平坦な上面であって、吸着セグメントはそれぞれ流体を吸着するように形成された平坦な上面と、底面と、を含む。この方法は、流体中で、ウエハとチャックの上面を、近づけるように持って行き、吸着セグメントの２またはそれ以上が、ウエハにより、少なくとも緩やかに覆われる工程と、いまだ作動していない吸着セグメントから、ウエハまで最小距離の吸着セグメントを選択する工程と、先の工程で選択された吸着セグメントを作動させる工程と、作動し続けている吸着セグメントの領域でウエハがチャックの上面に固く触れ、少なくとも１つの吸着セグメントがまだ作動していない場合に、先の工程を繰り返す工程とを含む。

Description

本発明はウエハを吸引し保持するためのチャック、およびチャックによりウエハを吸引し保持するための方法に関する。特に、本発明は、複数の吸引セグメントを有するチャックであって、それぞれの吸引セグメントは別々に作動できるチャック、およびチャックを用いる方法であって、吸引セグメントを作動する順番は、ウエハへの最短距離を有する吸引セグメントの選択に基づく方法に関する。

チャックデバイスは、基板またはウエハを保持するために使用され、一方、ウエハは、集積回路（ＩＣ）または類似のマイクロデバイスの製造中に処理される。ウエハは、一般にはスライスの形状を有する。しばしば、例えばウエハの厚さがむしろ薄い場合に、ウエハの製造プロセスのような他の理由のために、ウエハ自身が完全に平坦なスライスのような形状ではなかったり、および／またはチャックにより保持された場合にウエハが湾曲したり折りたたまれたりする。次に、ウエハは、追加的に傾斜したり歪んだりする。

湾曲したおよび／または歪んだウエハを吸着するために、一定の範囲でガスケットが使用される。それらのガスケットは、ウエハ／チャックの端部に配置され、一方、チャック（真空カップ）の支持プレートの様々な場所に配置される。これにより、ガスケットは異なる真空回路に割り当てられる。それらの真空回路（チャック／真空カップ）は、所定の時に、または連続して切り換えまたは稼働される。

ＷＯ２００６／０７２４５３では、少なくとも２つの真空回路を有するエンドエフェクタ（チャック）が記載される。そのようなアセンブリは、特に薄いおよび非常に薄い、歪んだウエハを吸着するために使用される。ＷＯ２００６／０７２４５３によれば、エンドエフェクタは多孔質材料からなるプレート、特に多孔質焼結材料からなるプレートとして形成される。

しかしながら、ガスケットまたはリップシールの手段による吸着は、不利である。例えば、ガスケットまたはリップシールは、耐熱性ではなく、および／または耐溶剤性にも欠ける。更に、ガスケットまたはシールリップは粒子を形成する。更に、例えば焼結材料のような多孔質の表面の固有の粗さのために、そのようなエンドエフェクタの洗浄はしばしば困難であり、これはエンドエフェクタの耐久性を低下させる。更に、エンドエフェクタの表面に向かってウエハが押しつけられて、エンドエフェクタに保持されるため、エンドエフェクタの粗い表面構造は、ウエハの表面構造に過度に影響を与える。更に、ＷＯ２００６／０７２４５３に記載されたエンドエフェクタの２つの真空回路は、互いに空気圧で分離されている。この結果、それぞれの真空回路について、追加の真空接続の提供が必要となる。それで、例えば８つの真空回路が使用された場合、８つの対応する真空接続に供給される真空を制御することが必要となり、これは取り扱いが困難である。

本発明の目的は、チャックおよびそのようなチャックを用いるための方法を提供し、これによりウエハを吸着して、ウエハがチャックにより保持された場合に、歪、湾曲、しわ、折りたたみ、および／または傾斜が避けられる。更に、本発明の目的は、ガスケットおよび／またはシールリップを使用した、および／または例えば焼結された多孔質表面を有するエンドエフェクタを使用した上述の欠点を避けることである。

それらの目的は、本発明のクレームセットにかかる特徴を有するチャックおよび方法により解決される。

傾斜した／歪んだウエハを吸着するために、それらの位置でウエハを最初に吸着し、チャックの多くの吸着セグメントの１つがウエハ（の一部）により最も固くシールされることが有利である。換言すれば、チャックが、多くの真空領域または吸着セグメントに分割されることにより、ウエハは、最も低い圧力損失が発生する位置に最初に吸着される。通常、それらの場所は、ウエハが可能な限り完全にそれぞれの吸着セグメントを覆う領域である。

それらの吸着セグメントは、例えば０．００２ｍｍまたはより良好な、非常に平坦な表面を有し、これにより、容易な洗浄、改良された耐久性、および取り付けられたウエハとの改良されたコンタクトを可能にする。

ウエハの傾斜／歪が、先行するウエハの製造プロセスで形成される場合、例えば、保持されるウエハが凸状の場合、吸着セグメントおよび／またはその形状の選択は、ウエハがチャックの上に横たえられる場所で、最大体積流量が提供されるように選択される。

以下の全体を通して、「真空の供給」の表現は、所定の領域から流体が抜き取られることを意味する。吸着セグメントに真空を供給するとは、例えば空気または液体のような流体が、吸着セグメントの領域中のチャックの上面の上の領域から抜き取られることを意味する。これは、それぞれの領域中で低圧力を確立することに対応する。

「低圧力」は、例えばチャックの雰囲気の流体の圧力のような、参照圧力より低いことを意味し、割り当てられた値は負（例えば−１バール）である。混乱を避けるために、以下のテキストでは、低圧力の絶対値が言及され、これは常に正の値（例えば｜−１｜バール＝１バール）であり、さらに比較の用語（「より高い」、「より大きい」、「より少ない」等）は絶対値をいう。例えば、第１圧力が、第２圧力より高いとの語句は、第１の低圧力の絶対値が、第１の低圧力の絶対値より大きいことを言う。

更に、「流体」の用語は、（空気のような）気体および液体の双方を表す一般的な表現として使用される。

「主真空」の用語は、チャックの上面に向かってウエハを吸着して保持するのに十分に強い低圧力をいう。

「補助真空」の用語は、主真空より弱い真空をいい、補助真空はウエハからチャックの上面までの所定の領域の距離を測定するためにのみ使用され、補助真空は、チャック／チャックのそれぞれの吸着セグメントの上面に向かってウエハを吸着するためには適用されない。

「吸着セグメントを作動させる」の表現は、吸着セグメントが主真空を提供することをいう（上記「主真空の提供」参照）。特に、「作動させる」の用語は、形成された流体の体積流量によりウエハが吸着されるように真空を供給することをいう。これは、「補助真空」により形成された流体の流れは、吸着セグメントを「作動」させないことを意味する。なぜなら、補助真空は、単に測定目的を意味し、一般にはウエハを吸着するのに十分なほど強くはないためである。

ウエハと吸着セグメントとの間の「距離」の用語では、多くの定義が同等に可能である。例えば、２つの物体の間の数学的標準定義が用いられる。次に、距離は、２つの点の間の全ての距離の組み合わせの最小要素として与えられ、点の１つは幾何学的にウエハに属し、他の点はチャックの吸着セグメントに属する。同様にここで使用される他の定義は、吸着セグメントの（ウエハに面する）表面が、幾何学的に平坦な形状の場合、以下の通りである。吸着セグメントの表面の点と、ウエハの表面の点との間のそれぞれの組の考慮し、双方の点は、吸着セグメントの表面に直交する直線の上に配置される。次に、ウエハと吸着セグメントとの間に距離は、例えば組の数学的平均のような、組の全ての要素の平均値よして定義されても良い（この定義は、また、ウエハが吸着セグメントを完全に覆わない場合にも適用する）。もちろん、ウエハと吸着セグメントとの間の距離の幾つかの他の好適な定義が、同様に使用されても良い。以下を通して、ウエハと吸着セグメントとの間の距離は、吸着セグメントとウエハとの間に配置された流体の低圧力（補助真空）を測定することにより少なくともおおよそ決定できる。

本発明の１つの形態は、ウエハを吸着し保持するためのチャックに関連し、このチャックは、複数の吸着セグメントに更に分割された平坦な上面であって、吸着セグメントはそれぞれ流体を吸着するように形成された平坦な上面と、底面と、を含み、上面は、流体の中で、ウエハの近くに運ばれるように形成され、２つまたはそれ以上の吸着セグメントは、ウエハにより、少なくとも緩く覆われ、吸着セグメントのそれぞれは、別々に作動できる。

吸着セグメントがウエハにより「覆われる」という語句は、ここおよび以下において、吸着セグメントが作動した場合に、ウエハ（またはその一部）が吸着セグメントにより引っ張られることを示す。このように、この語句は、ウエハ（またはそのそれぞれの部分）が吸着セグメントに接触することを必ずしも表さない。

しかしながら、ウエハ（またはそのそれぞれの一部）が吸着セグメントに接触した場合、吸着セグメントはウエハにより覆われる。

「緩く覆われる」の用語は、所定の吸着セグメントがウエハで「覆われ」、しかしながら、ウエハは吸着セグメントの上面に接触しないことを示す。

「チャックの上面をウエハの近くに運ぶ」の語句は、ウエハにより、２つまたはそれ以上の吸着セグメントが覆われるように、または少なくとも緩く覆われるような、ウエハに対して上面のいずれかの移動を表す。特に、チャックの上面に対するウエハの位置および／または向きは、近づく間に選択できる。しかしながら、チャックの上面が、ウエハの殆どの点に対して、それぞれの接線ベクトルが、チャックの上面に平行な方向から例えば３０度より小さいような、少量のみそれるように近づく。

好適には、上面は、金属または異なる金属の合金またはポリマーのような固体材料の表面をいう。特に、この固体材料は、焼結材料のような多孔質材料は言わない。

チャックは、更に、それぞれの吸着セグメントに補助真空を提供するように形成された、好適にはスロットルのような手段、補助真空が提供された場合に、それぞれの吸着セグメントにより吸着される流体の体積流量の流速または低圧力を、吸着セグメントのいずれかの１つで、測定するように形成された、少なくとも１つの圧力検出手段または少なくとも１つの流速検出手段を好適には含む手段、および好適には低圧力または流速を測定するように形成されたそれぞれの手段に接続された機械的および／または電気的手段であって、補助真空が提供された場合に、吸着セグメントのどれで、流体の低圧力の最大絶対値または最小体積流量が測定されるかを決定する手段、とを含む。

ここで、電気手段は、例えばマイクロコントローラやコンピュータ等と共に、電子回路または集積回路（ＩＣ）でも良い。

チャックの好適な具体例では、チャックの上面はディスクであり、内方の吸着セグメントは上面の中心点の回りに配置され、更に吸着セグメントは内方の吸着セグメントの周囲にリング状に配置され、好適には吸着セグメントのそれぞれは、他の吸着セグメントから分離される。

チャックの１つの具体例では、それぞれの吸着セグメントは、チャックの上面の上に配置された相互接続された溝のシステムを含み、好適には相互接続された溝のそれぞれのシステムは、上面の中心点の周囲に同心円として形成された１またはそれ以上の溝を含む。

チャックの１つの具体例では、多くの吸着セグメントは、吸着セグメントの１つの中のある点に配置され、上面の端部に向かって旋回する仮想のらせん形状の経路が、上面上を進むように配置され、経路は、吸着セグメントのいずれか１つに、１回および１回のみ入りおよび／または離れる。

チャックの好適な具体例では、それぞれの吸着セグメントは、チャックの底面に配置され、それぞれの吸着セグメントに真空を供給するように形成された主真空分配手段に接続され、それぞれの吸着セグメントの供給は、１つの吸着セグメントの例外があるかもしれないが、バルブにより制御可能である。

チャックの１つの具体例では、主真空供給手段は、真空が供給されるように形成された入口を有する主真空チャネル（入口から供給される主真空は以下において「第１チャック真空」という）を含み、それぞれの吸着セグメントは、主真空チャネルへの接続を有する側導管により主真空チャネルに接続され、いずれかの隣り合う２つの接続の間で、主真空チャネルの内側にバルブが配置されて主真空チャネルはバルブで分離された多くの吸着を持ち、側導管は、主真空チャネルのいずれかの２つの隣り合う吸着が、隣の吸着セグメントに接続されるように配置される。

チャックの好適な具体例では、それぞれのバルブは、例えばボール逆止弁、ダイアフラム逆止弁、スイング逆止弁、傾斜ディスク逆止弁、ストップ逆止弁、リフト逆止弁、インライン逆止弁、またはダックビル逆止弁のような逆止弁であり、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で、逆止弁に隣り合う部分の低圧力の絶対値が、予め決められた値と等しいか、またはより大きい場合に、自動的に開くように形成され、好適には、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分の低圧力の絶対値がある状態に対応する値の場合にのみ開くように形成され、ウエハは、入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分に接続された吸着セグメントに強く触れる。

本発明の他の形態は、チャックによりウエハを吸着して保持する方法に関し、チャックは、複数の吸着セグメントに細分化された平坦な上面であって、吸着セグメントはそれぞれ流体を吸着するように形成された上面と、底面とを含む。この方法は、
（９ａ）流体中で、ウエハとチャックの上面を、近づけるように持って行き、吸着セグメントの２またはそれ以上が、ウエハにより、少なくとも緩やかに覆われる工程と、
（９ｂ）いまだ作動していない吸着セグメントから、ウエハまで最小距離の吸着セグメントを選択する工程と、
（９ｃ）工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントを作動させる工程と、
（９ｄ）作動し続けている吸着セグメントの領域でウエハがチャックの上面に固く触れ、少なくとも１つの吸着セグメントがまだ作動していない場合に、工程（９ｂ）から（９ｄ）を繰り返す工程と、を含む。

工程（９ｂ）について、ウエハまで最小距離を有する吸着セグメントが複数有る場合に、「選択」は、ウエハまでの最小距離を有する複数の吸着セグメントのいずれかの１つを決定する工程を含む。例えば、このアルゴリズムは、ウエハまでの最長距離を有する複数の吸着セグメントからチャックの上面の中心点の最も近くに位置する１つを選択するように決定しても良い。代わりに、このアルゴリズムは、最小距離を有する吸着セグメントの１つがランダムに選択される工程を含んでも良い。

この方法の好適な具体例では、ウエハまで最小距離を有する吸着セグメントを選択する工程は、
（１０ａ）それぞれの吸着セグメントに面するウエハの表面までの、それぞれの吸着セグメントの距離を測定する工程と、
（１０ｂ）未だ作動していない吸着セグメントから、ウエハまでの最小距離を有する吸着セグメントを決定する工程と、を含む。

この方法の好適な具体例では、距離を測定する工程（１０ａ）は、
（１１ａ）好適にはスロットルにより、いまだ作動していないそれぞれの吸着セグメントに補助真空を供給する工程と、
（１１ｂ）工程（１１ａ）で補助真空が供給されたそれぞれの吸着セグメントに対して、好適には圧力測定手段または流速測定手段により、吸着された流体の低圧力または体積流量の流速を測定する工程と、を含み、
最小距離を決定する工程（１０ｂ）は、
（１１ｃ）好適には、それぞれの圧力検出手段またはそれぞれの流速測定手段に接続された機械的手段および／または電気的手段により、補助真空が供給された吸着セグメントのいずれにおいて、低圧力の最大絶対値または流体の最小体積流量が測定されるかを決定する工程を含む。

ここで、電気手段は、マイクロコントローラ、コンピュータ等と同じく、例えば電子回路または主スキー回路（ＩＣ）でも良い。

方法の代わりの具体例では、工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントのシーケンスは、知られたウエハの形状に従って予め決定される。

方法の好適な具体例では、チャックの上面はディスクであり、内側の吸着セグメントは上面の中心点の周囲に配置され、更に、吸着セグメントは、内側の吸着セグメントの周囲にリング状に配置される。好適には、吸着セグメントのそれぞれは、他の吸着セグメントから分離される。

方法の１つの具体例では、吸着セグメントのそれぞれは、チャックの上面の上に配置された相互接続された溝のシステムを含む。好適には、相互接続された溝のそれぞれのシステムは、上面の中心点の周囲の同心円のような形状の、１またはそれ以上の溝を含む。

本発明の具体例では、多くの吸着セグメントが上面に配置され、吸着セグメントの１つの中のある点から始まり、上面の端部に向かってループとなる仮想のらせん形状の経路が、上面を進み、経路は、吸着セグメントのいずれか１つに、１回および１回のみ、入りおよび／または離れ、工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントのシーケンスは、仮想のらせん状経路に従い、第１吸着セグメントは、仮想のらせん形状の経路の始まりを備えた吸着セグメントである。

好適には、それぞれの吸着セグメントは、チャックの底面に配置され、それぞれ吸着セグメントに真空を供給するように形成された、主真空分配手段に接続され、そしてありそうな１つの吸着セグメントを除いて、バルブにより制御可能である。次に、この方法は、
（１６ａ）真空を備えた主真空分配手段を提供する工程であって、この工程は、工程（９ｃ）の前または同時に開始され、ウエハがチャックにより保持される限り実施される工程を含み、
吸着セグメントを作動させる工程（９ｃ）は、
（１６ｂ）吸着セグメントがバルブにより制御可能な場合には、それぞれの吸着セグメントを制御するように形成されたバルブを開け、そうでない場合には、工程（１６ａ）を開始する工程を含む。

本発明の１つの具体例では、主真空供給手段は、真空が供給されるように形成された入口を有する主真空チャネルを含み、吸着セグメントのそれぞれは、主真空チャネルへの接続を有する側導管により主真空チャネルに接続され、２つの隣り合う接続の間で、真主空チャネルの内側にバルブが配置されて、主真空チャネルはバルブにより分離された複数の部分を示し、側導管は、主真空チャネルの２つの隣り合う部分が、隣り合う吸着セグメントに接続されるように配置され、そして吸着セグメントを選択する工程（９ｂ）は、
この方法の実施中に工程（９ｂ）が第１時間を実行する場合は、入口の隣の主真空チャネルの部分に接続された吸着セグメントを選択し、
そうでない場合には、工程（９ｂ）で先に選択された吸着セグメントに接続された部分の隣の主真空チャネルの部分に接続された吸着セグメントを選択する工程を含む。

好適には、それぞれのバルブは、例えばボール逆止弁、ダイアフラム逆止弁、スイング逆止弁、傾斜ディスク逆止弁、ストップ逆止弁、リフト逆止弁、インライン逆止弁、またはダックビル逆止弁のような逆止弁であり、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルから入口に向かう方向で、逆止弁に隣り合う部分で、低圧力の絶対値が、予め決められた値と等しいか、またはより大きい場合に、自動的に開くように形成され、好適には、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で、逆止弁と隣り合う部分の低圧力の絶対値がある状態に対応する値の場合にのみ開くように形成され、ウエハは、入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分に接続された吸着セグメントに強く触れる。

好適な具体例では、この方法は、更に、
（１９ａ）ウエハがチャックに完全に保持された場合に、主真空チャネルに、入口と反対側から、追加の真空（または、「第２チャック真空」ともいう）が提供される手段を含む。

他の形態、特徴、および長所は、上記概要とともに、図面および請求項を含む、以下に続く記載から明らかであろう。

真空分配器を備えたチャック。 機能原理。 続いて吸着セグメントを作動させ、これによりウエハの上に十分に大きな圧力を提供するために最大体積流速を形成する手続。 異なる吸着セグメントの上での圧力低下の図。 追加の真空の適用による圧力低下の回避。 追加の真空の適用により得られた一定圧力の図。 ウエハと吸着セグメントとの間の距離を測定するための回路の概略。 複数の吸着セグメントへのチャックの上面のありそうな分割。 チャックの具体例の写真（上面）。 チャックの具体例の写真（主真空チャネルと逆止弁を有する底面）。

逆止弁とのカスケード接続
それぞれの吸着セグメント中で可能な限り高い真空を達成するために、吸着セグメントは、例えばボール逆止弁のような逆止弁により分離される。本発明にかかるチャックの１つの具体例では、チャックは、真空（低真空）が提供されるように形成された入口を有する主真空チャネルを含む。主真空チャネルは、次に、複数の部分に細分化され、いずれかの２つの隣り合う部分の間に、逆止弁が挿入される。例えば、Ｎ−１の逆止弁が、一般に、主真空チャネルをＮの部分に分割するために必要となる。次に、側導管を介して、それぞれの部分が吸着セグメントの１つに接続される。このアセンブリは、この文献を通して「カスケード接続」という。

以下において、明確化と単純化のために、逆止弁と主チャネルの部分の符号は、入口に関連する部分に対応する。主真空チャンバの第１部分は、その間に逆止弁の無い入口に直接接続される。次に、第１逆止弁が、主真空チャネルの第２部分から第１部分を分離される。第２部分は、次に、第２逆止弁等により第３部分から分離される。更に、所定の吸着セグメントの符号付けは、吸着セグメントが側導管により接続された部分の符号に対応すべきである。

チャックによりウエハを吸着するために、カスケード接続が入口を介して真空により提供される。第１逆止弁がまだ閉じられることにより、「完全な」流体体積流量（例えば空気流量）が、それぞれの側導管と入口に接続された真空供給への主真空チャネルの第１部分を介して、第１吸着セグメントから発生する。これは、第１吸着セグメントの領域で、チャックの方向にウエハを吸着する。最後に、ウエハは第１吸着セグメントを強くシールし、即ち、第１吸着セグメントの領域で完全に吸着される。

理想的には、第１吸着セグメントのウエハが完全に吸着された場合に、（第１の）逆止弁のみが開く。続いて、「完全な」体積流量が、第２吸着セグメントで発生する。次に、ウエハが第２吸着セグメントに固定されてそれを完全にシールした場合にのみ、次の吸着セグメントが、次の逆止弁を開くことにより作動する。最後の逆止弁が開いて、「全」体積流量が最後の吸着セグメントで発生するまで、この手続が（自動的に）繰り返される。最後に、（ウエハのサイズが吸着セグメントのそれぞれを覆うのに十分に広い場合に）それぞれの吸着セグメントによりウエハが吸着され保持される。

逆止弁が圧力損失が発生させる場合に、最後に吸着セグメント中の真空（低圧力、低圧力の絶対値により測定される）は、第１吸着セグメントの真空（低圧力）に比較して比較的低くても良い。これと相殺するために、ウエハがチャックにより完全に吸着されて保持された後に、最後の吸着セグメントに追加の真空が提供されても良い。

吸着セグメントを作動させるシーケンス
既に上で検討したように、ウエハ（の一部）により最も固く覆われた吸着セグメントの領域で、最初にウエハを吸着することは有利である。本発明にかかるチャックの第１の具体例では、この領域を決定するために、補助真空が使用される。

例えば、以下のアセンブリが考えられる。チャネルに真空を供給するように形成された入口を有する主真空チャネルが、複数の分岐に別れ、分岐のそれぞれは、チャックの上面の上に配置された吸着セグメントに接続される。それぞれの分岐は、それぞれの吸着セグメントから主真空チャネルへの接続をオンおよびオフするように形成されたスイッチ（バルブ）を含む。このように、吸着セグメントのそれぞれは、対応する分岐でスイッチをオンまたはオフに切り替え、これにより主真空チャネルから真空（低圧力）の吸着セグメントへの真空供給を形成または遮断することにより、独立して作動／非作動できる。更に、吸着セグメントのそれぞれは、吸着セグメントに補助真空を供給するように形成されたチャネルシステムに接続される。例えば、補助真空チャネルシステムは、主真空チャネルに接続され、スロットルを含む。

次に、主真空により発生する体積流量（例えば空気流量）と比較して、補助真空の体積流量は、スロットルの手段により減らされる。補助真空は、逆止弁を介して複数の吸着セグメントと圧力計に接続される。次に、より多く吸着セグメントがウエハで覆われるほど、この吸着セグメントでは、より多く圧力が減少する（または、換言すれば、低真空の絶対値が増加する）。残りの吸着セグメントに比較してより固くウエハによりシールされる吸着セグメントにおいて、低圧力（の絶対値）が最大となる。

一旦、ウエハにより最も固くシールされた吸着セグメントが決定されれば、対応する逆止弁が作動して、ウエハがそれぞれの吸着セグメントを強くシールするまで、ウエハはこの領域で部分的に吸着される。

次に、残りの吸着セグメントに対して、補助真空の（低い）圧力が測定され、低圧力（の絶対値）が最大である吸着セグメントが再度決定される。この吸着セグメントは、個別のスイッチを開くことにより作動し、主真空チャネルから吸着セグメントに真空を供給する。ウエハは、次に、この吸着セグメントの領域で吸着され、吸着セグメントのそれぞれが作動してウエハが完全に吸着されるまで、この手続が繰り返される。

らせん吸着
例えば、製造プロセスを行うことにより、ウエハが同じまたは類似の歪を示す場合、吸着セグメントの形状および／またはチャック中で吸着セグメントに真空を供給するシーケンスは、この歪または変形に適用しても良い。

例えば、凹状のウエハの場合、チャックの上面の内側から上面の端部に向かってウエハを吸着することが有利である。

これは、チャックの上面の下に配置され、チャックの上面の中心点から端部に向かってらせん状に続く高体積真空チャネルにより実現されても良い。更に、真空溝は、チャックの表面上に配置される。真空溝または真空溝の様々なシステム（グループ）は、異なる吸着領域または吸着セグメントに細分化されても良い。これは、大きく変形し／歪んだウエハを吸着するために必要である。

カスケード接続とらせん吸着の組み合わせ
このらせん吸着は、上述のカスケード接続と組み合わせることができる。これは、体積逆止弁を減らすことを可能にする。例えば、３またはそれ以上の逆止弁の代わりに、２つだけの逆止弁を用いて、大きく歪んだウエハの吸着を可能にする。

例えば、経済的な理由のための逆止弁を節約するために、および／またはチャックを制御するソフトウエアが他の構成、例えばチャックのチャネルのアラインメントや逆止弁等に適用されるために、これは特に有利である。

図１は、本発明にかかる１つの具体例の２つの部分を示す。チャックの上面１０は、ディスク状に形成されている。ディスクの上には、多くの溝が配置されている。環状の溝１１は、チャックの上面の中心点の周囲に配置され、それらは同心円のシステムを形成する。更に、（半径方向の溝上面１０の中心点に対して）半径方向の溝が、チャックの上面１０に配置される。例えば、半径方向に配置された溝１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、および１２ｄは、上面１０の中心点から（中心点から端部に数えて）第３の環状の溝まで、星のように進む。このように、半径溝１２ａ〜１２ｄは、内部の環状溝のシステムに接続する。同様に、４番目から７番目の環状溝は、半径方向に溝により相互接続されるが、しかしながら、それらの溝は３つの最も内側の溝と半径溝１２ａ〜１２ｄのシステムには接続されない。また、８番目から１１番目の環状の溝は、半径溝により相互接続される。最後に、１２番目から１５番目までの環状溝が、半径方向に配置された溝により相互接続される。このように、チャックの上面の上に配置された、４つの独立した溝のシステム（即ち、相互接続されないシステム）が存在する。それらのシステムのそれぞれは、吸着セグメントと考えられ、これらは独立して作動する。

図１は、また、カスケード接続を覆うハウジング１６を示す。ハウジング１６は、主真空供給に接続されるように形成された入口１８と、４つの出口１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、および１７ｄを含み、それぞれの出口は、チャックの上面の上に配置される上述の溝のシステムの１つに接続されるように形成される。

図２は、図１のハウジング１６を通る断面と共に、チャックの上面を通る断面を示す。ハンジング２１６は、そこを通って流体が導入される主真空チャネル２５０を含む。流体は、入口２１８を介してこのチャネル２５０から排出できる。チャネル２５０の中で、３つの逆止弁２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃが提供される。３つの逆止弁２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃは、チャネル２５０を４つの部分に分割する。それぞれの部分は、側導管を介して、出口２１７ａ、２１７ｂの１つに接続される。更なる入口２１９は、追加の真空を主真空チャネル２５０に追加的に供給できるようにする。

例示の逆止弁２００を通る断面が、図２の挿入図に示される。逆止弁２００は、ハウジング２０１を含む。ハウジング２０１の中には、ピストンまたはプランジャ２０２が配置され、これは、所定の位置にらせん状のバネ２０３で保持されて、逆止弁２００を閉じて保持する。しかしながら、らせん状のバネ２０３の反対側のプランジャ２０２の側の圧力が、プランジャ２０２の上のバネ２０３により加えられる圧力を超えると、逆止弁２００が開き、流体は逆止弁２００を通ることができる。

チャックの上面２１０の上では、溝の４つのシステム２１１、２１２、２１３、２１４が配置される。それらのシステムは、入口２２１、２２２、２２３、２２４を介して真空を供給することにより独立して作動する。それらの入口２２１〜２２４のそれぞれは、溝のグループの１つに導管を介して接続される。例えば、入口２２１は、導管２３０を介して、３つの最も内側の環状溝を含む溝２１１のシステムに接続される。次に、チャックの第１吸着セグメントを形成する溝の最も内側のシステムは、入口２２１と出口２１７ａを介して、入口２１８の最も近くに配置されたカスケード接続のチャネル２５０の部分に接続されても良い。更に、溝２１２の（上面２１０の中心から端部に数えて）第２のシステムは、入口２１８から１つの逆止弁２２１ａのみで分離されたチャネル２５０の部分に、入口２２２および出口２１７ｂを介して接続されても良い。同様に、溝２１３の第３のシステムは、チャネル２５０の第３の部分に接続され、最後に、溝２１４の最も外の（第４の）溝２１４のシステムは、入口２１８から全ての逆止弁により分離されたチャネル２５０の部分に、入口２２４および出口２１７ｄを介して接続されても良い。

この構成により、内方の吸着セグメント２１１から流体が吸着されない限り、入口２１８を介して主真空が供給された場合に、逆止弁は開かない。しかしながら、内方の吸着セグメント２１１がウエハ（図示せず）により固くシールされた場合、ウエハの一部により第２の吸着セグメント２１２が固く覆われない限り、第１逆止弁２２０ａが開き、これにより第２吸着セグメント２１１で体積流量が発生する。しかしながら、第２の逆止弁２２０ｂはまだ閉じた状態である。次に、「全ての」真空が第２吸着セグメント２１２に提供され、第２の吸着セグメント２１２の領域で、ウエハの上に最も強い（低い）圧力がかかる。第２の吸着セグメント２１２がウエハ（の一部）により固くシールされた後、第２の逆止弁２２０ｂが開き、全ての主真空が、第３の吸着セグメント２１３に提供される。第３の吸着セグメント２１３がウエハの一部で固く覆われた後、第３の逆止弁２２０ｃが開き、次に、全ての主真空が、チャックの上面２１０の最も外方の吸着セグメント２１４に提供される。このように。ウエハはチャックの上面２１０の内側から外方に向かって、滑らかに吸着される。

最後に、それぞれの吸着セグメントでウエハが完全に保持された場合、追加の真空がカスケード接続の更なる入口２１９により適用され、ウエハを安定して保持するためにそれぞれの吸着セグメントに十分な低圧力を提供する。

この手続は、更に図３に示される。第１に、ウエハ３６は形状３６ａに従ってチャックの上面３９を覆う。即ち、ウエハ３６は、上面３９の中心周辺の領域のみで上面３９に接触する。次に、カスケード接続３８に主真空３０が提供される。第１に、真空３１が上面３９の中心周辺の吸着セグメント３２ａに提供される。これにより、ウエハ３６は、吸着セグメント３２ａの領域で固く吸着されて、流体はもはやこの領域内で吸着できなくなる。ウエハは、続いて、形状３６ｂの状態になる。この結果、逆止弁３３ａが開き、真空３２ｂが、第２吸着セグメント３２ｂに提供される。次に。流体は吸着セグメント３２ｂの領域で吸着され、ウエハが吸着セグメント３２ｂを覆ってそれを固くシールするまで、第２吸着セグメント３２ｂに向かって引っ張られる。次に、ウエハは形状３６ｃの状態になる。その後、逆止弁３２ｂを開けて吸着セグメント３２ｃの領域でウエハを吸着するまで、そして最後に逆止弁３２ｃを開けて吸着セグメント３２ｄの領域でウエハを吸着するまで、この手順が繰り返される。次に、逆止弁によりウエハは完全に吸着されて、平坦な状態３６ｄになる。

しかしながら、すべての逆止弁は、真空チャネル４１中の（低い）圧力の（絶対）値の低下を招く。図４は、ウエハ４５がチャックにより完全に吸着され、吸着セグメント４２ａ、４２ｂ、４２ｃ、４２ｄのいずれもがウエハ４５により固くシールされた状態を示す。次に、主真空源に直接接続された、第１吸着セグメント４２ａは、マイナス１バールの低圧力を有する。しかしながら、第１の逆止弁４２ａを介して主真空に接続された、第２吸着セグメント４２ｂでは、低圧力の（絶対）値が減少し、単に−０．７バールの量である。第３吸着セグメント４２ｃでは、第３吸着セグメント４２ｃは２つの逆止弁４２ａ、４２ｂを介して主真空源に接続されているという事実のために、低圧力の（絶対値）は更に減少して−０．５バールの量である。最後に、３つの逆止弁４２ａ〜４２ｃを介して主真空源に接続された、最後の（外方の）吸着セグメント４２ｄでは、低圧力の絶対値は、内容の吸着セグメント４２ａの対応する値のほんの１／４の量であり、即ち、吸着セグメント４２ｄの低圧力は−０．２５バールである。このように、それによりウエハ４５がチャックの上面の上に保持される圧力は一定ではなく、チャックの中心から端部に向かって減少する。このように、ウエハ４５の保持は、チャックの上面の外方領域（吸着セグメント４２ｄ）では、上面の内方領域（吸着セグメント４２ａ）より不安定である。

チャック５３の上面の上でウエハ５５を安定化するために、追加の真空５２、５３をカスケード接続に適用できる。図５は、チャックによりウエハ５５がすでに完全に吸着され、上面５６の上の全ての吸着セグメントに固くシールされている状態を示す。主真空５０はカスケード接続に提供され、真空５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、５１ｄによりそれぞれの吸着セグメント５７ａ、５７ｂ、５７ｃ、５７ｄに分配される。図４の文脈中で上に説明したように、最も強力な真空５１ａが、内方の吸着セグメント５７ａに提供される。チャックの上面５６の端部に向かって、吸着セグメント５７ｂ〜５７ｄに提供される真空が減少する。この影響を補償するために、追加の真空が適用されても良い。例えば、追加の真空５２は、主真空源５０と反対側のカスケード接続に適用されても良い。次に、外方の吸着セグメント５７ｄが追加の真空５２に直接（即ち、逆止弁を介さずに）接続され、その強さは、この領域でウエハ５５を安定して保持するために、吸着セグメント５７ｄで十分に低い圧力が提供されるように選択できる。更に、追加の真空５３は、それぞれの残った吸着セグメント５７ａ〜５７ｃ、または吸着セグメントの間の領域に適用されても良い。次に、一定で十分に低い圧力が、吸着セグメントのそれぞれに適用され、ウエハ５５は、チャックの上面５６により安定して保持される。

この状態は、図６により示される。上述の状態と類似した方法で、主真空６１と追加の真空６が、カスケード接続６３に提供される。吸着セグメント６６ａ〜６６ｄの下に描かれた真空計により示されるように、吸着セグメント６６ａ〜６６ｄに対して適用される圧力（低圧力）は、−１バールである。

図７は、測定のための回路の具体例を示し、吸着セグメント７１ａ、７１ｂ、７１ｃのその場所では、ウエハはそれぞれの吸着セグメントを最も固く覆う。それゆえに、スロットル７５を介して主真空７７から分岐した、補助圧力７６が提供される。逆止弁７３ａ〜７３ｃを介して、補助真空がそれぞれの吸着セグメント７１ａ〜７１ｃに適用される。それぞれの吸着セグメントの低圧力が、次に測定手段７２ａ、７２ｂ、７２ｃにより測定される。続いて、吸着セグメントのどの位置で、低圧力の絶対体が最大になるかが決定される。次に、それぞれの吸着セグメントに主真空７７を供給するために、それぞれのスイッチ７４ａ、７４ｂまたは７４ｃが操作される。ウエハがこの吸着セグメントに吸着された場合、手順が繰り返される。即ち、（残った）吸着セグメントのどれにおいて低圧力の絶対値が最大値であるかが再度チェックされ、それぞれの水位置が切り換えられることにより、この吸着セグメントに主真空が適用される。

図８は、本発明の１つの具体例にかかるチャックの上面８０のありうる仕切りを示す。上面８０は、円形のディスクにより形成される。仕切りにより、上面８０は複数の吸着セグメントに分割される。例えば、ディスクの中心点の回りでは、円形の吸着セグメント８１が配置される。同様に上面８０の中心点の周辺で、より大きな円形領域が配置され、これは、上面８０の中心点に対して半径方向に有する３つの直線に沿って細分化され、この大きな円形領域を、３つの等しい大きさの吸着セグメント８２ａ、８２ｂ、８２ｃに分割する。もちろん、それらの３つの吸着セグメントの領域は、内方の吸着セグメント８１の領域と重ならない。換言すれば、内方の吸着セグメント８１の領域は、吸着セグメント８２ａ〜８２ｃの領域から切り取られる。更なる領域は、吸着セグメント８２ａ〜８２ｃとチャックの上面８０の端部の半径との間に配置される。この領域は、上面８０の中心点に対して半径方向に配置された４つの直線により、４つの等しい大きさの吸着セグメント８３ａ、８３ｂ、８３ｃ、８３ｄに細分化される。

図９は、図１、２に既に示され、この文脈で既に議論された、上面の具体例の写真を示す。写真では、溝９２の複数の位置で、スルーホール９１が、図１、２の文脈で検討したように、真空を提供するためにチャックの上面９３の下に配置された入口（図示せず）を備えた溝に接続されることが認識できる。

図１０は、チャックの１つの具体例の底面１００の写真を示す。主真空チャネル１０１は、底面１００の上にらせん状に配置される。真空チャネル１０１は、逆止弁１０２により互いに分離された多くの部分に分割される。図２、３の文脈で記載および検討したような、アセンブリはカスケード接続の１つの具体例を形成する。

本発明は図面および先の記載中に記載され説明されるが、そのような記載や説明は、説明的または例示的で、限定的ではないと考えられる。以下の請求項の範囲内において、当業者により、変化および変形ができることが理解されるであろう。特に、本発明は、上または下で述べられた異なる具体例の特徴のいずれかの組み合わせを伴う、更なる具体例をカバーする。

更に、請求項において、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」の用語は、他の要素または工程を排除するものではなく、および不定冠詞「ある（ａ）」、「ある（ａｎ）」は、複数を排除しない。単一ユニットは、請求項で記載された複数の特徴の機能を満たしても良い。特性または値に関係する用語「本質的に（ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ）」、「約（ａｂｏｕｔ）」、「おおよそ（ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ）」は、また、特にそれぞれ正確な特性、または正確な値を規定する。請求項中のいずれの符号も、その範囲を限定するものと解釈すべきではない。

Claims (19)

1. ウエハを吸着し保持するためのチャックであって、このチャックは、複数の吸着セグメントに更に分割された平坦な上面であって、吸着セグメントはそれぞれ流体を吸着するように形成された平坦な上面と、底面と、を含み、
   上面は、流体の中で、ウエハの近くに運ばれるように形成され、２つまたはそれ以上の吸着セグメントは、ウエハにより、少なくとも緩く覆われ、
   吸着セグメントのそれぞれは、別々に作動できるチャック。
2. チャックは、更に、
   それぞれの吸着セグメントに補助真空を提供するように形成された、好適にはスロットルのような手段、
   補助真空が提供された場合に、それぞれの吸着セグメントにより吸着される流体の低圧力または体積流量の流速を、吸着セグメントのいずれかの１つで、測定するように形成された、少なくとも１つの圧力検出手段または少なくとも１つの流速検出手段を好適には含む手段、および、
   好適には低圧力または流速を測定するように形成されたそれぞれの手段に接続された機械的および／または電気的手段であって、補助真空が提供された場合に、吸着セグメントのどれで、流体の低圧力の最大絶対数または最小体積流量が測定されるかを決定する手段、を含む請求項１にかかるチャック。
3. チャックの上面はディスクであり、
   内方の吸着セグメントは上面の中心点の回りに配置され、
   更に吸着セグメントは内方の吸着セグメントの周囲にリング状に配置され、好適には吸着セグメントのそれぞれは、他の吸着セグメントから分離される請求項１または２に記載のチャック。
4. それぞれの吸着セグメントは、チャックの上面の上に配置された相互接続された溝のシステムを含み、好適には相互接続されたそれぞれの溝のシステムは、上面の中心点の周囲に同心円として形成された１またはそれ以上の溝を含む請求項３にかかるチャック。
5. 多くの吸着セグメントは、吸着セグメントの１つの中のある点に配置され、上面の端部に向かって旋回する仮想のらせん形状の経路が、上面上を進むように配置され、経路は、吸着セグメントのいずれか１つに、１回および１回のみ入りおよび／または離れる請求項１にかかるチャック。
6. それぞれの吸着セグメントは、チャックの底面に配置され、それぞれの吸着セグメントに真空を提供するように形成された主真空分配手段に接続され、
   それぞれの吸着セグメントの提供は、１つの吸着セグメントの例外があるかもしれないが、バルブにより制御可能である請求項１〜５のいずれかにかかるチャック。
7. 主真空供給手段は、真空が供給されるように形成された入口を有する主真空チャネルを含み、
   それぞれの吸着セグメントは、主真空チャネルへの接続を有する側導管により主真空チャネルに接続され、
   いずれかの２つの隣り合う接続の間で、主真空チャネルの内側にバルブが配置されて、主真空チャネルはバルブで分離された多くの吸着を持ち、
   側導管は、主真空チャネルのいずれかの２つの隣り合う吸着が、隣の吸着セグメントに接続されるように配置される請求項５に従属する請求項６にかかるチャック。
8. それぞれのバルブは、例えばボール逆止弁、ダイアフラム逆止弁、スイング逆止弁、傾斜ディスク逆止弁、ストップ逆止弁、リフト逆止弁、インライン逆止弁、またはダックビル逆止弁のような逆止弁であり、
   それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で、逆止弁に隣り合う部分の低圧力の絶対値が、予め決められた値と等しいか、またはより大きい場合に、自動的に開くように形成され、
   好適には、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分の低圧力の絶対値がある状態に対応する値の場合にのみ開くように形成され、ウエハは、入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分に接続された吸着セグメントに強く触れる請求項７にかかるチャック。
9. チャックによりウエハを吸着して保持する方法であって、このチャックは、
   複数の吸着セグメントに細分化された平坦な上面であって、吸着セグメントはそれぞれ流体を吸着するように形成された上面と、
   底面と、を含み、
   この方法は、
   （９ａ）流体中で、ウエハとチャックの上面を、近づけるように持って行き、吸着セグメントの２またはそれ以上が、ウエハにより、少なくとも緩やかに覆われる工程と、
   （９ｂ）いまだ作動していない吸着セグメントから、ウエハまで最小距離の吸着セグメントを選択する工程と、
   （９ｃ）工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントを作動させる工程と、
   （９ｄ）作動し続けている吸着セグメントの領域でウエハがチャックの上面に固く触れ、少なくとも１つの吸着セグメントがまだ作動していない場合に、工程（９ｂ）から（９ｄ）を繰り返す工程と、を含む方法。
10. ウエハまで最小距離を有する吸着セグメントを選択する工程（９ｂ）は、
    （１０ａ）それぞれの吸着セグメントに面するウエハの表面までの、それぞれの吸着セグメントの距離を測定する工程と、
    （１０ｂ）未だ作動していない吸着セグメントから、ウエハまでの最小距離を有する吸着セグメントを決定する工程と、を含む請求項９にかかる方法。
11. 距離を測定する工程（１０ａ）は、
    （１１ａ）好適にはスロットルにより、いまだ作動していないそれぞれの吸着セグメントに補助真空を供給する工程と、
    （１１ｂ）工程（１１ａ）で補助真空が供給されたそれぞれの吸着セグメントに対して、好適には圧力測定手段または流速測定手段により、吸着された流体の低圧力または体積流量の流速を測定する工程と、を含み、
    最小距離を決定する工程（１０ｂ）は、
    （１１ｃ）好適には、それぞれの圧力検出手段またはそれぞれの流速測定手段に接続された機械的手段および／または電気的手段により、補助真空が供給された吸着セグメントのいずれにおいて、低圧力の最大絶対値または流体の最小体積流量が測定されるかを決定する工程を含む請求項１０にかかる方法。
12. 工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントのシーケンスは、知られたウエハの形状に従って予め決定される請求項９にかかる方法。
13. チャックの上面はディスクであり、
    内方の吸着セグメントは上面の中心点の周囲に配置され、
    更に、吸着セグメントは、内方の吸着セグメントの周囲にリング状に配置される、好適には、吸着セグメントのそれぞれは、他の吸着セグメントから分離される請求項９〜１２のいずれかにかかる方法。
14. 吸着セグメントのそれぞれは、チャックの上面の上に配置された相互接続された溝のシステムを含み、好適には、相互接続された溝のそれぞれのシステムは、上面の中心点の周囲の同心円のような形状の、１またはそれ以上の溝を含む請求項１３にかかる方法。
15. 多くの吸着セグメントが上面に配置され、吸着セグメントの１つの中のある点から始まり、上面の端部に向かってループとなる仮想のらせん形状の経路が、上面を進み、経路は、吸着セグメントのいずれか１つに、１回および１回のみ、入りおよび／または離れ、
    工程（９ｂ）で選択された吸着セグメントのシーケンスは、仮想のらせん状経路に従い、第１吸着セグメントは、仮想のらせん形状の経路の始まりを備えた吸着セグメントである請求項１２にかかる方法。
16. それぞれの吸着セグメントは、チャックの底面に配置され、それぞれ吸着セグメントに真空を供給するように形成された、主真空分配手段に接続され、
    それぞれの吸着セグメントの供給は、ありそうな１つの吸着セグメントを除いて、バルブにより制御可能であり、
    この方法は、
    （１６ａ）主真空分配手段に真空を提供する工程であって、この工程は、工程（９ｃ）の前または同時に開始され、ウエハがチャックにより保持される限り実施される工程を含み、そして、
    吸着セグメントを作動させる工程（９ｃ）は、
    （１６ｂ）吸着セグメントがバルブにより制御可能な場合には、それぞれの吸着セグメントを制御するように形成されたバルブを開け、そうでない場合には、工程（１６ａ）を開始する工程を含む、請求項９〜１５のいずれかにかかる方法。
17. 主真空供給手段は、真空が供給されるように形成された入口を有する主真空チャネルを含み、
    吸着セグメントのそれぞれは、主真空チャネルへの接続を有する側導管により主真空チャネルに接続され、
    ２つの隣り合う接続の間で、真主空チャネルの内側にバルブが配置されて、主真空チャネルはバルブにより分離された複数の部分を示し、
    側導管は、主真空チャネルの２つの隣り合う部分が、隣り合う吸着セグメントに接続されるように配置され、
    そして吸着セグメントを選択する工程（９ｂ）は、
    この方法の実施中に工程（９ｂ）が第１時間を実行する場合は、入口の隣の主真空チャネルの部分に接続された吸着セグメントを選択し、
    そうでない場合には、工程（９ｂ）で先に選択された吸着セグメントに接続された部分の隣の主真空チャネルの部分に接続された吸着セグメントを選択する工程を含む請求項１２に従属する請求項１６にかかる方法。
18. それぞれのバルブは、例えばボール逆止弁、ダイアフラム逆止弁、スイング逆止弁、傾斜ディスク逆止弁、ストップ逆止弁、リフト逆止弁、インライン逆止弁、またはダックビル逆止弁のような逆止弁であり、
    それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で、逆止弁に隣り合う部分で、低圧力の絶対値が、予め決められた値と等しいか、またはより大きい場合に、自動的に開くように形成され、
    好適には、それぞれの逆止弁は、主真空チャネルの入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分の低圧力の絶対値が、ある状態に対応する値の場合にのみ開くように形成され、ウエハは、入口に向かう方向で逆止弁と隣り合う部分に接続された吸着セグメントに強く触れる請求項１７にかかる方法。
19. 更に、（１９ａ）ウエハがチャックに完全に保持された場合に、主真空チャネルに、入口と反対側から、追加の真空を供給する工程を含む請求項１７または１８にかかる方法。

Images