JP2016528349A

JP2016528349A - 逆波長分散を有する光学フィルムおよびこれを含む表示装置

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Publication number: JP2016528349A
Application number: JP2016533258A
Authority: JP
Inventors: スン・キョン・イ; テ・スン・チェ; ウン・ソク・パク; スン−ホ・チュン
Original assignee: エルジー・ケム・リミテッド
Priority date: 2013-08-19
Filing date: 2014-08-18
Publication date: 2016-09-15
Anticipated expiration: 2034-08-18
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Abstract

本発明は、逆波長分散を有する光学フィルムおよびこれを含む表示装置に関する。本発明に係る光学フィルムは、薄い厚さを有しながらも優れた逆波長分散性を示すことができて、液晶またはＯＬＥＤを用いた表示装置のλ／２波長板、λ／４波長板、保護フィルム、反射防止フィルムなどに好適に使用できる。

Description

本発明は、逆波長分散を有する光学フィルムおよびこれを含む表示装置に関する。

位相遅延器（ｐｈａｓｅｒｅｔａｒｄｅｒ）は、これを通過する光の偏光状態を変える光学素子の一種で、波長板（ｗａｖｅｐｌａｔｅ）ともいう。電磁波が位相遅延器を通過すると、偏光方向（電場ベクトル方向）が光軸に平行または垂直な２成分（正常光線と異常光線）の合計になり、位相遅延器の複屈折と厚さによって２成分のベクトル合計が変化するため、通過した後の偏光方向が変化する。この時、光の偏光方向を９０度変化させることを四分波長板（ｑｕａｒｔｅｒ−ｗａｖｅｐｌａｔｅ、λ／４）といい、１８０度変化させることを半波長板（ｈａｌｆ−ｗａｖｅｐｌａｔｅ、λ／２）という。

この時、位相遅延器の位相差値は波長に依存するが、その位相差値の波長分散は、正波長分散、フラット波長分散（ｆｌａｔｗａｖｅｌｅｎｇｔｈｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）、逆波長分散（ｒｅｖｅｒｓｗａｖｅｌｅｎｇｔｈｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）などに分類される。

そのうち、逆波長分散を示す位相遅延器は、広い波長帯域で所定の位相差（λ／４、λ／２など）を有するので最も有用であるが、通常の樹脂フィルムで形成される位相遅延器はほとんど正波長分散を示す。

このような問題を解決するために多様な研究が行われているが、例えば、日本国特開第１９９８−０６８８１６号、日本国特開第１９９８−０９０５２１号、日本国特開第１９９９−０５２１３１号、および日本国特開第２０００−００２８４１号などには、複数の光学異方性層が積層された層状構造の位相遅延器が開示されている。しかし、複数の光学異方性層が積層された構造のラミネート型位相遅延器は、製造時に光学的配向を制御しながら複数のフィルムを配置させる複雑な手順が要求されることによって、生産性が低下し、製造費用が高いという欠点がある。

一方、日本国特開第２００２−２２１６２２号には、フィルムの延伸を通して逆波長分散を誘導することによって、１つの位相遅延器のみを含む広帯域λ／４波長板の製造方法が開示されているが、その厚さが１００μｍ以上で、薄層化が要求される液晶表示素子には適しないという欠点がある。

そして、日本国特開第２００２−２６７８３８号には、薄層広帯域波長板を製造するための目的から、棒状液晶化合物と、該化合物の長軸に対して垂直に配向する非液晶性物質とを含む液晶組成物を用いる方法が開示されている。しかし、前記組成物の場合、非液晶性物質の混合比が低い場合、逆波長分散が誘導されず、その混合比が高ければ、組成物自体の液晶特性を失うという欠点がある。

そこで、安定した逆波長分散性を示しながらも厚さが薄い広帯域位相遅延器の開発が望まれており、特にこのような補償フィルムをより単純化された方法で製造できるようにする液晶化合物、高分子などに対する要求が切実である。

日本国特開第１９９８−０６８８１６号日本国特開第１９９８−０９０５２１号日本国特開第１９９９−０５２１３１号日本国特開第２０００−００２８４１号日本国特開第２００２−２２１６２２号日本国特開第２００２−２６７８３８号

そこで、本発明は、厚さが薄いながらも優れた逆波長分散性を有する光学フィルムを提供する。

また、本発明は、前記光学フィルムを含む表示装置を提供する。

本発明によれば、下記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を含み、下記関係式Ｉおよび関係式ＩＩを満足する光学フィルムが提供される：

前記化学式１において、
Ｒ^１は、水素またはメチル基であり；
Ｒ^２は、炭素数５〜２０の芳香族炭化水素基、または炭素数５〜２０のヘテロ芳香族炭化水素基であり；
［関係式Ｉ］
Δｎ_{（４５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
［関係式ＩＩ］
Δｎ_{（６５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
前記関係式ＩおよびＩＩにおいて、Δｎ（λ）は、波長λでの比複屈折率を意味する。

本発明によれば、前記化学式１で表される化合物は、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、１−ビニルナフタレン、１−ビニルアントラセン、およびＮ−ビニルフタルイミドからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。

また、本発明によれば、前記アクリレート系化合物は、下記化学式２で表される化合物であってもよい：

前記化学式２において、
Ｒ^３は、水素、または置換もしくは非置換の炭素数１〜３のアルキル基であり、
Ｒ^４は、単結合、炭素数１〜２０の線状もしくは分枝状アルキレン、炭素数２〜２０の線状もしくは分枝状アルケニレン、または炭素数２〜２０の線状もしくは分枝状アルキニレンであり、
Ｒ^５は、水素、カルボキシル基、またはエポキシ基である。

前記共重合体は、１０，０００〜３，０００，０００の重量平均分子量（Ｍｗ）を有してもよい。

そして、前記共重合体は、１００〜３００℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有してもよい。

一方、本発明によれば、前記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を準備する段階と、前記共重合体を含むフィルムを形成する段階と、前記フィルムを延伸する段階とを含む前記光学フィルムの製造方法が提供される。

本発明に係る光学フィルムは、薄い厚さを有しながらも優れた逆波長分散性を示すことができて、液晶またはＯＬＥＤを用いた表示装置のλ／２波長板、λ／４波長板、保護フィルム、反射防止フィルムなどに好適に使用できる。

以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムおよびこれを含む表示装置について説明する。

それに先立ち、本明細書全体において明示的な言及がない限り、「比複屈折率」（ｓｐｅｃｉｆｉｃｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔｉｎｄｅｘ）とは、光学フィルムを透過する透過光の波長（λ）における位相差値を意味するもので、Δｎ（λ）で表される。

そして、本明細書で使われる専門用語は単に特定の実施形態を言及するためのものであり、本発明を限定することを意図しない。そして、ここで使われる単数形態は、文言がこれと明確に反対の意味を示さない限り、複数形態も含む。

また、明細書で使われる「含む」の意味は、特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分を具体化し、他の特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分の付加を除外させるものではない。

一方、本発明者らは、光学フィルムに対する研究を繰り返す過程で、下記化学式１で表される化合物と、アクリレート系化合物、ビニル系化合物、またはこれらの混合物とが特定の含有量比で共重合された重合体を光学フィルム用樹脂として用いる場合、厚さが薄いながらも優れた逆波長分散性を示し得ることを確認し、本発明を完成した。

このような本発明の一実施形態によれば、
下記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を含み、
下記関係式Ｉおよび関係式ＩＩを満足する光学フィルムが提供される：

前記化学式１において、
Ｒ^１は、水素またはメチル基であり、
Ｒ^２は、炭素数５〜２０の芳香族炭化水素基、または炭素数５〜２０のヘテロ芳香族炭化水素基であり；
［関係式Ｉ］
Δｎ_{（４５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
［関係式ＩＩ］
Δｎ_{（６５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
前記関係式ＩおよびＩＩにおいて、Δｎ（λ）は、波長λでの比複屈折率を意味する。

前記一実施形態に係る光学フィルムは、前記化学式１で表される化合物、およびこれと共重合可能なアクリレート系化合物の共重合体を含む。特に、前記一実施形態の光学フィルムは、前記化合物が所定の含有量比で共重合された重合体を含むことによって、厚さが薄いながらも優れた逆波長分散性を示すことができる。そのため、前記光学フィルムは、液晶またはＯＬＥＤを用いた表示装置のλ／２波長板、λ／４波長板、保護フィルム、反射防止フィルムなどに好適に使用できる。

以下、前記光学フィルムに含まれる共重合体について説明する。

一実施形態の共重合体は、下記化学式１で表される化合物に由来の繰り返し単位を含む：

前記化学式１において、
Ｒ^１は、水素またはメチル基であり、
Ｒ^２は、炭素数５〜２０の芳香族炭化水素基、または炭素数５〜２０のヘテロ芳香族炭化水素基である。

一実施形態によれば、前記芳香族炭化水素基およびヘテロ芳香族炭化水素基に含まれる少なくとも１つの水素原子は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアリールアルキル基、炭素数２〜４のアシル基などで置換されていてもよい。そして、前記芳香族炭化水素基およびヘテロ芳香族炭化水素基に含まれる少なくとも１つのメチレン基は、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−などで置換されていてもよい。

一実施形態によれば、前記化学式１で表される化合物は、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、１−ビニルナフタレン、１−ビニルアントラセン、およびＮ−ビニルフタルイミドからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。なかでも、Ｎ−ビニルカルバゾールは、大きい屈折率と高いガラス転移温度を有する化合物であって、共重合体の耐熱性の確保（つまり、加熱成形時の熱安定性の確保）に有利でありながらも、共重合体の優れた逆波長分散性の確保に有利であり得る。

ここで、前記化学式１で表される化合物の比率は、少なくとも８０重量％、好ましくは８０〜９９．９９重量％、または８５〜９９重量％、または８５〜９５重量％であってもよい。つまり、前記共重合体の耐熱性を確保しながらも安定した逆波長分散性の確保のために、前記化学式１で表される化合物は、８０重量％以上の比率で含まれることが好ましい。

一方、一実施形態の共重合体は、前記化学式１で表される化合物と共重合可能なモノマーに由来の繰り返し単位を含んでいてもよい。

前記共重合可能なモノマーは、共重合体の透明性、表面光沢、耐候性、機械的強度および成形加工性などの確保のために使用できるものであって、好ましくは、アクリレート系化合物であってもよい。

一実施形態によれば、前記アクリレート系化合物は、下記化学式２で表される化合物であってもよい：

非制限的な例として、前記アクリレート系化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ターシャリー−ブチルアクリレート、ターシャリー−ブチルメタクリレート、イソ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、およびベンジルメタクリレートからなる群より選択される１種以上の化合物が好ましく使用できる。

そして、前記アクリレート系化合物のほか、前記化学式１で表される化合物と共重合可能なモノマー、例えば、ビニル系化合物などが追加的に使用できる。ここで、前記ビニル系化合物は、エチレン、炭素数３〜２０の線状アルファオレフィン、および炭素数４〜２０の分枝状アルファオレフィンからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよい。

前記一実施形態において、前記共重合可能なモノマーの比率は、２０重量％以下、好ましくは０．０１〜２０重量％、または０．０１〜１５重量％、または１〜１５重量％であってもよい。つまり、前記共重合体の透明性、表面光沢、耐候性、機械的強度および成形加工性などの確保のために、前記共重合可能なモノマーは、０．０１重量％以上含まれることが好ましい。ただし、前記共重合可能なモノマーの比率が必要以上に高い場合、前記共重合体の加熱成形時の熱安定性が低下し、十分な逆波長分散性の確保が難しいことがある。そのため、前記共重合可能なモノマーの比率は、２０重量％以下であることが好ましい。

そして、前記共重合体に要求される加工性、耐熱性などを考慮して、前記共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００〜３，０００，０００、または５０，０００〜２，５００，０００、または１００，０００〜２，０００，０００であることが好ましいことがある。

そして、このような前記共重合体は、１００〜３００℃、または１５０〜３００℃、または１５０〜２５０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有して、優れた耐熱性を示すことができる。また、前記共重合体は、優れた溶解度特性を有して加工が容易であるだけでなく、柔軟な薄膜の形成を可能にする。

特に、このような一実施形態の光学フィルムは、優れた逆波長分散性を示すことができ、好ましくは、下記関係式Ｉおよび関係式ＩＩを満足することができる：
［関係式Ｉ］
Δｎ_{（４５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
［関係式ＩＩ］
Δｎ_{（６５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
前記関係式ＩおよびＩＩにおいて、Δｎ（λ）は、波長λでの比複屈折率を意味する。

特に、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩを満足するにあたり、前記一実施形態の光学フィルムは、Δｎ_{（４５０ｎｍ）}およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}値の差が０．１以上、好ましくは０．１５以上であって、優れた逆波長分散性を示すことができる。つまり、任意の光学フィルムが前記関係式を満足しても、Δｎ_{（４５０ｎｍ）}およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}値の差が０．１未満の場合、十分な逆波長分散性を示すことができず、λ／２波長板、λ／４波長板などの用途に適しないことがある。

このように、前記一実施形態に係る光学フィルムは、優れた逆波長分散性を有して、液晶またはＯＬＥＤを用いた表示装置のλ／２波長板、λ／４波長板、保護フィルム、反射防止フィルムなどに好適に使用できる。特に、ＯＬＥＤを用いた表示装置は、外光投入時、トランジスタによる反射で眩しさが誘発されるが、これを防止するための逆波長分散性フィルムとして、前記一実施形態のフィルムが好適に使用できる。

一方、本発明の他の実施形態によれば、
前記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を準備する段階と、
前記共重合体を含むフィルムを形成する段階と、
前記フィルムを延伸する段階とを含む前記光学フィルムの製造方法が提供される。

前記一実施形態の製造方法において、前記共重合体を準備する段階は、前記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％とを含むモノマー化合物と、有機溶媒、および重合開始剤を含む組成物を、２０〜１２０℃の温度下、１〜２４時間撹拌しながら重合する方法で行われる。

ここで、前記重合反応には、本発明の属する技術分野における通常の有機溶媒と重合開始剤が使用可能であり、その種類は特に制限されない。

ただし、一実施形態によれば、前記有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類；ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが使用できる。

そして、一実施形態によれば、前記重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）などのアゾ系化合物；ラウリル過酸化物、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシペルオキシドなどの有機過酸化物；過酸化水素、過硫酸カリウムなどの無機過酸化物などが使用できる。

一方、前述した方法で準備された共重合体は、ソリューションキャスティングまたは押出成形などの方法を通してフィルムに形成できる。

この時、前記共重合体を含むフィルムは、トリアセテートセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはポリノルボルネンフィルムを含む基材フィルム上に形成されてもよい。

そして、前記方法で形成されたフィルムを縦方向または横方向の１軸延伸、または２軸延伸して、前記実施形態に係る光学フィルムが得られる。前記延伸工程を通して前記フィルムに含まれている共重合体の配向が行われる。

以下、本発明に係る具体的な実施例を用いて、発明の作用および効果をより詳細に述べる。ただし、これらの実施例は発明の例として提示されたものに過ぎず、これらによって発明の権利範囲が定められるものではない。

下記の実施例および比較例において、それぞれの物性の測定は、次のような方法で行った。
１）重量平均分子量：製造された共重合体をテトラヒドロフランに溶かして、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。
２）ガラス転移温度（Ｔｇ）：ＴａＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社の示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて測定した。
３）位相差値：Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定し、この時、独立した厚さを測定し、得られた値からΔｎ値を求めた。

実施例１
反応器に、Ｎ−ビニルカルバゾール約９０重量％とアクリル酸約１０重量％とを含むモノマー化合物、前記モノマー化合物１００重量部を基準として、溶媒のトルエン約２００重量部、および重合開始剤のアゾビスイソブチロニトリル０．０５重量部を添加した後、約７０℃下、１８時間撹拌しながら重合反応を進行させて、共重合体（重量平均分子量約１２０，０００、ガラス転移温度約１９７℃）を含む溶液を得た。

そして、前記溶液をシクロオレフィンポリマーフィルム（厚さ約１００μｍ）にキャスティングした後、これを乾燥して縦方向延伸（約２倍）する方法で、厚さ約６７μｍ（基材を含む）の光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．８８、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０７と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

実施例２
Ｎ−ビニルカルバゾール約９５重量％とアクリル酸約５重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約１３０，０００、ガラス転移温度約２０２℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６５μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．８８、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０６と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

実施例３
Ｎ−ビニルカルバゾール約９９重量％とアクリル酸約１重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約１５０，０００、ガラス転移温度約２１５℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６４μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．８６、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．１０と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

実施例４
Ｎ−ビニルカルバゾール約９９．５重量％とアクリル酸約０．５重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約１３５，０００、ガラス転移温度約２１０℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６８μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．８４、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．１２と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

実施例５
Ｎ−ビニルカルバゾール約９７重量％と２−ヒドロキシエチルメタクリレート約３重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約１５０，０００、ガラス転移温度約２０３℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６８μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．８７、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０９と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

実施例６
Ｎ−ビニルカルバゾール約８０重量％とアクリル酸約２０重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約１５０，０００、ガラス転移温度約１９５℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６７μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．９８、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０２と測定され、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

比較例１
Ｎ−ビニルカルバゾール約５０重量％とアクリル酸約５０重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約９０，０００、ガラス転移温度約１６０℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６５μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．９８、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０１と測定された。つまり、比較例１による光学フィルムは、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足しているものの、実施例のフィルムに比べて十分な逆波長分散性を示さないことが確認された。

比較例２
Ｎ−ビニルカルバゾール約１０重量％とアクリル酸約９０重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約８０，０００、ガラス転移温度約１２０℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約５８μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝１．０３、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝０．９９と測定された。つまり、比較例２による光学フィルムは、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足しないことが確認された。そして、比較例２の場合、製膜時に非常に不透明になって、光学フィルムとしての使用に適しないことが確認された。

比較例３
Ｎ−ビニルカルバゾール約７５重量％とアクリル酸約２５重量％とを含むモノマー化合物を用いたことを除き、実施例１と同様の方法で、共重合体（重量平均分子量約９０，０００、ガラス転移温度約１４５℃）を含む溶液を得た。そして、前記溶液を用いたことを除き、実施例１と同様の溶液キャスティングおよび延伸を通して、厚さ約６５μｍの光学フィルムを得た。

前記光学フィルムに対する位相差値の測定結果、それぞれΔｎ_{（４５０ｎｍ）}＝０．９８、Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＝１．００、およびΔｎ_{（６５０ｎｍ）}＝１．０２と測定された。比較例３による光学フィルムは、前記関係式Ｉおよび関係式ＩＩによる条件を満足しているものの、実施例のフィルムに比べて十分な逆波長分散性を示すことができなかった。また、比較例３の場合、フィルムの製膜時に不透明になって、光学フィルムとしての使用に適しないことが確認された。

Claims

下記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を含み、
下記関係式Ｉおよび関係式ＩＩを満足する光学フィルム：

前記化学式１において、
Ｒ^１は、水素またはメチル基であり；
Ｒ^２は、炭素数５〜２０の芳香族炭化水素基、または炭素数５〜２０のヘテロ芳香族炭化水素基であり；前記芳香族炭化水素基およびヘテロ芳香族炭化水素基に含まれる少なくとも１つの水素原子は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアリールアルキル基、または炭素数２〜４のアシル基で置換されていてもよく；
［関係式Ｉ］
Δｎ_{（４５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
［関係式ＩＩ］
Δｎ_{（６５０ｎｍ）}／Δｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
前記関係式ＩおよびＩＩにおいて、Δｎ（λ）は、波長λでの比複屈折率を意味する。
前記化学式１で表される化合物は、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、１−ビニルナフタレン、１−ビニルアントラセン、およびＮ−ビニルフタルイミドからなる群より選択される１種以上の化合物である、請求項１に記載の光学フィルム。
前記アクリレート系化合物は、下記化学式２で表される化合物である、請求項１に記載の光学フィルム：

前記化学式２において、
Ｒ^３は、水素、または置換もしくは非置換の炭素数１〜３のアルキル基であり、
Ｒ^４は、単結合、炭素数１〜２０の線状もしくは分枝状アルキレン、炭素数２〜２０の線状もしくは分枝状アルケニレン、または炭素数２〜２０の線状もしくは分枝状アルキニレンであり、
Ｒ^５は、水素、カルボキシル基、またはエポキシ基である。
前記共重合体は、１０，０００〜３，０００，０００の重量平均分子量（Ｍｗ）を有する、請求項１に記載の光学フィルム。
前記共重合体は、１００〜３００℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１に記載の光学フィルム。
下記化学式１で表される化合物８０〜９９．９９重量％と、アクリレート系化合物０．０１〜２０重量％との重合に由来の繰り返し単位を含有する共重合体を準備する段階と、
前記共重合体を含むフィルムを形成する段階と、
前記フィルムを延伸する段階とを含む、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法：

前記化学式１において、
Ｒ^１は、水素またはメチル基であり；
Ｒ^２は、炭素数５〜２０の芳香族炭化水素基、または炭素数５〜２０のヘテロ芳香族炭化水素基であり；前記芳香族炭化水素基およびヘテロ芳香族炭化水素基に含まれる少なくとも１つの水素原子は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアリールアルキル基、または炭素数２〜４のアシル基で置換されていてもよい。
前記共重合体を含むフィルムは、トリアセテートセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはポリノルボルネンフィルムを含む基材フィルム上に形成される、請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
請求項１に記載の光学フィルムを含む表示装置。