JP2010091676A - 光学異方性積層体、該光学異方性積層体を含む光学フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】逆波長分散特性を示し、広い波長域で一様の偏光変換が可能な新たな光学異方性積層体、この光学異方性積層体を含む光学フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）と、負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）とを含む光学異方性積層体。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学異方性積層体、該光学異方性積層体を含む光学フィルム及びその製造方法に関する。

近年、液晶表示装置の大容量化、高速応答化、大量生産化へ向けての開発が進んでおり、コントラストが大きく、使用視野角が広い表示が求められている。
そのため、従来から、広波長域にわたって、波長による位相差の変化が少なく、その一定性に優れる積層型の光学フィルムが種々検討されている。

例えば、正の複屈折性を有するノルボルネン系樹脂からなる基材の上に、負の複屈折性を有するスチレン・無水マレイン酸共重合体を含む溶液を塗工し、得られた積層体を延伸して得られる光学フィルムが提案されている（特許文献１）。
このような光学フィルムでは、逆波長分散性を示し、広い波長域で一様の偏光変換が可能になるとされている。
特開２００７−１９９６１６号公報

本発明の目的は、逆波長分散特性を示し、広い波長域で一様の偏光変換が可能な新たな光学異方性積層体、この光学異方性積層体を含む光学フィルム及びその製造方法を提供することである。

本発明の光学異方性積層体は、正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）と、
負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）とを含むことを特徴の一つとする。

このような光学異方性積層体では、構造単位（ａ）が、脂環式ポリイソシアネートに由来するモノマー単位を含むポリウレタン、ポリウレタン尿素、ポリウレタンアクリレート及び／又はポリウレタン尿素アクリレートに由来する構造単位であることが好ましい。
また、構造単位（ａ）が、下記式（Ｉ）で表されるモノマー単位を含むことが好ましい。

（式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアルコキシ基を表す。ｎは０〜１０の整数を表す。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ^１はそれぞれ異なる基であってもよい。）
さらに、式（Ｉ）で表されるモノマー単位がイソホロンジイソシアネートであることが好ましい。
また、負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）は、ビニル系（コ）ポリマーであるか、無水マレイン酸に由来するモノマー単位を含むビニルコポリマーであるか、スチレン−無水マレイン酸コポリマーであることが好ましい。
共重合体へのスチレン導入率が５０モル％以上であることが好ましい。

また、本発明の光学フィルムは、上述した光学異方性積層体から形成されることを特徴の一つとする。
このような光学フィルムは、光学フィルムを透過する透過光の波長νｎｍにおける位相差値Ｒｅ（ν）が、下記式を充足することが好ましい。
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）

本発明の光学フィルムの製造方法は、上述した光学異方性積層体を延伸するか、
正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）を延伸して延伸フィルム（Ａ）を作成し、
負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）を延伸して延伸フィルム（Ｂ）を作成し、
延伸フィルム（Ａ）及び延伸フィルム（Ｂ）を積層することを含むことを特徴の一つとする。
これらの製造方法では、構造単位（ａ）及び／又は構造単位（ｂ）を含む溶液を平滑な面にキャストして溶剤を留去することによって成膜化することを含むことが好ましい。

本発明の位相差板は、上述した光学フィルムからなることを特徴の一つとする。

本発明の光学異方性積層体、光学異方性積層体からなる光学フィルムによれば、広い波長域にわたって一様の偏光変換が可能となる。
また、本発明の光学フィルムの製造方法では、高性能の光学フィルムを簡便な方法で製造することができる。

本発明において、構造単位とは、所定の複屈折性を発揮する最小単位であり、（コ）ポリマー又は化合物に由来する単位を意味する。また、モノマー単位とは、（コ）ポリマーを構成するモノマーに由来する単位を意味する。
なお、所定の複屈折性の発揮は、所定の構造単位を含む樹脂から得られた層を延伸した際、延伸した方向（±１０°）の屈折率が最大（正）又は延伸した方向と直交（±１０°）する方向の屈折率が最大（負）等になることを意味する。

また、（コ）ポリマーとは、ホモポリマー及びコポリマーの双方を包含する。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸及び（メタ）アクリル酸の双方を包含する。
さらに、光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムを意味する。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを指す。

本発明の光学異方性積層体は、樹脂層（Ａ）と樹脂層（Ｂ）とが積層されて構成される。
この積層体では、樹脂層（Ａ）と樹脂層（Ｂ）との積層順序は特に限定されず、樹脂層（Ａ）／樹脂層（Ｂ）であってもよいし、樹脂層（Ｂ）／樹脂層（Ａ）であってもよい。また、積層数は少なくとも１層ずつ積層されていればよく、いずれか一方又は双方が２層以上からなる、３層以上の積層体としてもよい。さらに、樹脂層（Ａ）及び（Ｂ）のみからなるものが好ましいが、本来の機能を損なわない範囲で、樹脂層（Ａ）及び（Ｂ）以外の他の層が積層されていてもよい。

樹脂層（Ａ）は、構造単位（ａ）を含む。
構造単位（ａ）とは、正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える単位を意味する。

構造単位（ａ）としては、正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える限り、その構造は、特に限定されない。例えば、
（１）ポリイソシアネートとポリオールとを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマー（以下「ポリウレタン」という場合がある）に由来する構造単位；
（２）ポリウレタンにポリアミンを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマー（以下「ポリウレタン尿素」という場合がある）に由来する構造単位；
（３）ポリウレタンに、水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマー（以下「ポリウレタン（メタ）アクリレート」という場合がある）に由来する構造単位；
（４）ポリウレタン尿素に、水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマー（以下「ポリウレタン尿素（メタ）アクリレート」という場合がある）に由来する構造単位等が例示される。
なお、これらの構造単位は、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

ポリイソシアネートとしては、脂肪族及び脂環式炭化水素（例えば、炭素数１〜１２程度）にイソシアネート基が複数個置換されたポリイソシアネートのいずれでもよいが、脂環式（例えば、炭素数５〜１２程度）ポリイソシアネートが好ましい。また、ジイソシアネートが好ましい。
ポリイソシアネートとしては、例えば、式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」という場合がある）が挙げられる。

（式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアルコキシ基を表す。ｎは０〜１０の整数を表す。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ^１はそれぞれ異なる基であってもよい。）

Ｒ^１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等が例示される。

なお、本明細書では、いずれの化学構造式においても、炭素数によって異なるが、特に断りのない限り、置換基の例示は、全明細書にわたって適用される。また、直鎖又は分岐の双方をとることができるものは、そのいずれをも含む。
化合物（Ｉ）としては、Ｒ^１が炭素数１〜１２のアルキル基及びｎが１〜４であるものが好ましい。具体的には、イソホロンジイソシアネート等が例示される。

ポリオールとしては、特に限定されるものでなく、当該分野で公知の化合物のいずれを用いてもよい。
具体的には、以下に示す式（Ａ−１）に示すポリオールが例示される。

（式（Ａ−１）中、Ｒ₃₂は、結合手、炭素数１〜８のアルキレン基又は−Ｑ−Ｒ_３2’−、−Ｒ_３２’−Ｑ−もしくは−Ｒ_３2’−Ｑ−Ｒ₃₂’’−（ただし、Ｒ_３２’及びＲ₃₂’’は、それぞれ独立に、結合手又は炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｑは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表す。）を表す。Ｒ₃₃は、炭素数１〜１２の炭化水素基、複素環基、−Ｒ_３３’−ＣＯ−Ｒ_３３’’−基（ただし、Ｒ_３３’及びＲ_３３’’は、それぞれ独立に、結合手、炭素数１〜１１の炭化水素基又は複素環基を表す。）を表す。ｎ₃₁は、１〜１５の整数を表す。ｎ₃₁が２以上の整数のとき、複数のＲ_３２及びＲ_３３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。）

また、式（Ａ−１）に示すポリオールとしては、式（Ａ−２）〜式（Ａ−４）で表される化合物を含む。

（式（Ａ−２）中、Ｒ₂₇及びＲ₂₈は、それぞれ独立に、結合手、炭素数１〜８のアルキレン基又は−Ｑ―Ｒ_２８’―もしくは−Ｒ_２８’―Ｑ―Ｒ_２８’’−（ただし、Ｒ_２８’及びＲ_２８’’は、それぞれ独立に、結合手又は炭素数１〜５のアルキレン基を表し、Ｑは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−を表す。）を表す。）

（式（Ａ−３）中、Ｒ₂₉及びＲ_３０は、それぞれ独立に、結合手又は炭素数１〜８のアルキレン基を表す。Ｑは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表す。ｖ₂₉は、０〜１８の整数を表す。ｖ₂₉が２以上の整数のとき、複数のＲ₂₉及びＲ_３０は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。）

（式（Ａ−４）中、Ｒ₃₁は、単結合又は炭素数１〜８のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよい。ｖ₃₁は、０〜１８の整数を表す。ｖ₃₁が２以上の整数であるとき、複数のＲ₃₁は、同一であっても異なっていてもよい。）

式（Ａ−１）〜（Ａ−４）におけるアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、sec−ブチレン基、ｔ−ブチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプタレン基、オクタレン基等が挙げられる。

炭化水素基としては、鎖式飽和又は不飽和のいずれの炭化水素基であってもよく、脂環式又は芳香族炭化水素であってもよい。
鎖式飽和炭化水素基としては、上述したアルキレン基が例示される。
また、鎖式不飽和炭化水素基としては、ビニレン基、プロピニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ブタジエニレン基、ペンタジエニレン基、エチニレン基、プロピニレン基等が挙げられる。

脂環式炭化水素としては、以下の置換基が例示される。

芳香族炭化水素としては、以下の置換基が例示される。

複素環基としては、

等の任意の位置に結合手を有する２価の基が例示される。さらに、

等が例示される。

ポリオールは、例えば、分子量５０以上４００未満のポリオール（以下、「低分子量のポリオール」という場合がある）挙げられ、５０以上２００以下が好ましく、６２以上２００以下がより好ましい。この範囲の分子量であれば、光学フィルムを作成した場合に、伸縮性を抑制することができる。

ポリオールは、上述したように、例えば、脂肪族、脂環族、芳香族及び複素環式のジヒドロキシ化合物、トリヒドロキシ化合物、テトラヒドロキシ化合物等が挙げられる。具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、デカメチレンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ビス（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、ｐ−キシレンジオール、ジヒドロキシエチルテトラハイドロフタレート、２−メチルプロパン−１，２，３−トリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン等が例示される。

低分子量のポリオールとしては、ジオール化合物であることが好ましい。特に、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリプロピレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジオール及び１，６−ヘキサンジオール等であることが好ましい。

また、ポリオールは、例えば、平均分子量４００以上（以下、「高分子量のポリオール」という場合がある）のポリオールであってもよく、平均分子量が４００以上７０００以下であることが適しており、４００以上５０００以下であることが好ましく、４００以上２０００以下であることがより好ましい。この範囲の分子量であれば、光学フィルムを作成した場合に、柔軟性を与えることができる。
このようなポリオールとしては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、シリコーンポリオール、ポリオレフィン系ポリオール及びこれらの共重合体等が例示される。

ポリエステルポリオールとしては、例えば、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、ドデカン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、フマル酸等から選ばれるジカルボン酸と低分子量のポリオールとを反応させて得られたものが例示される。また、β−プロピオクラトン、ピバロラクトン、δ−バレロラクトン、メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、メチル−ε−カプロラクトン、ジメチル−ε−カプロラクトン、トリメチル−ε−カプロラクトン等のラクトン化合物を、低分子量のポリオールと反応させたものであってもよい。
ポリエーテルポリオールとしては、ポリテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール等が挙げられる。

ポリカーボネートポリオールとしては、低分子量のポリオール類とジアリルカーボネート、ジアルキルカーボネート及びエチレンカーボネートから選ばれる化合物からエステル交換法によって得られたもの、例えば、ポリ−１，６−ヘキサメチレンカーボネート、ポリ−２，２’−ビス（４−ヒドロキシヘキシル）プロパンカーボネート等が挙げられる。

高分子量のポリオールとしては、ジオール化合物であることが好ましく、アルキレン基の炭素数が１〜６のポリアルキレンジオール及びポリカーボネートジオールから選ばれる化合物であることが好ましく、特にポリプロピレングリコール及びポリヘキサメチレンカーボネートジオールが好ましい。

これらのポリオールは、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。特に、得ようとする光学フィルムの柔軟性及び耐久性等の観点から、低分子量ジオールと高分子量ジオールとをそれぞれ１種以上組み合わせて用いることが好ましい。

上述した（１）ポリウレタンに由来する構造単位としては、ポリイソシアネート１００モル％（好ましくは、化合物（Ｉ）のポリイソシアネートを８０モル％以上含有）と、ポリオール１００モル％（好ましくは、式（Ａ−２）で表される化合物を６０モル％以上含有）とを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマーであることが好ましい。

ポリアミンとしては、芳香族ポリアミン又は脂肪族ポリアミン等が例示される。
芳香族ポリアミンとしては、例えば、トリレンジアミン、フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，６−ジアミノベンゼン、１，３，５−トリエチル−２，６−ジアミノベンゼン、３，５，３’，５’−テトラエエチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
脂肪族ポリアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジアミノシクロヘキシルメタン、または３−アミノメチル−３，５，５，−トリメチルシクロヘキシルアミン（イソホロンジアミン）等が挙げられる。

上述した（２）ポリウレタン尿素に由来する構造単位としては、変色が少ないという観点から、上述したポリウレタンに脂肪族ポリアミンを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマーが好ましい。なかでも、光学特性が良好であるという観点から、上述したポリウレタンにジアミノシクロヘキシルメタン及びイソホロンジアミン等の脂環式構造を有するポリアミンを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマーがより好ましい。

水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、モノヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレート、モノヒドロキシオリゴ（メタ）アクリレート、オリゴヒドロキシオリゴ（メタ）アクリレート等が例示される。なかでも、反応性等の観点から、モノヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレートが好ましい。
モノヒドロキシモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート等が挙げられる。

上述した（３）ポリウレタン（メタ）アクリレートに由来する構造単位としては、上述したポリウレタンにモノヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレートを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマーが好ましい。

また、上述した（４）ポリウレタン尿素（メタ）アクリレートに由来する構造単位としては、上述したポリウレタン尿素にモノヒドロキシアルキルモノ（メタ）アクリレートを反応させて得られる化合物又は（コ）ポリマーが好ましい。

構造単位（ａ）は、上述したように、ポリイソシアネートとポリオールとを反応（例えば、重付加反応）させることにより、さらに任意にポリアミン及び／又は水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とを反応させることにより、あるいは、ポリイソシアネートとポリオールとの反応物に光重合開始剤を混合し、紫外光照射によって光重合させることができるが、これらの反応は、有機溶剤の存在下又は溶媒不存在下で行うことができる。

有機溶剤としては、イソシアネート基と反応しないものであれば特に限定されず、どのようなものをも用いることができる。
例えば、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、アミド類、非プロトン性極性溶剤等から１種又は２種以上を組み合わせて、適宜選択することができる。

エーテル類としては、例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、アニソール、フェネトールまたはメチルアニソールなどが挙げられる。

芳香族炭化水素類としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ミネラルターペン、メシチレンなどが挙げられる。

ケトン類としては、例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノンまたはシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。

アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールまたはグリセリンなどが挙げられる。

エステル類としては、たとえば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたはプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。

アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
その他の溶剤としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホオキシド等が挙げられる。

なかでも、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ミネラルターペンなどの炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、酢酸セロソルブなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトンなどの非プロトン性極性溶剤等が適している。
構造単位（ａ）を製造する際に有機溶剤を用いる場合は、構造単位（ａ）の合計濃度を１０重量％以上、好ましくは２０〜５０重量％に調製される量とすることが適している。

構造単位（ａ）の製造に際して、ウレタン化反応を促進するために、必要により通常のウレタン反応に使用される触媒を用いてもよい。
具体的には、トリエチルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、トリエチレンジアミンなどの第三級アミン；ジラウリン酸ジブチル錫、ジラウリン酸ジオクチル錫、オクチル酸錫などの有機錫系触媒、テトラブチルチタネートなどの有機チタン系触媒等が挙げられる。

また、構造単位（ａ）の製造に際して、光重合開始剤を用いてもよい。光重合させることによって、フィルム強度が向上し、均一なフィルムが得られる。また、作成したフィルムの光学特性や透明度が経時変化しない優れた特性が得られる。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。
より具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン（株）製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学（株）製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬（株）製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ）等が挙げられる。

光重合開始剤の使用量は、例えば、樹脂層（Ａ）の合計量１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。この範囲内であれば、透過率を低下することなく、モノマーを重合させることができる。

紫外線照射で用いられる紫外光の発生源としては、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト、低圧、高圧、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、太陽光線などが例示される。紫外光の照射強度は、終始一定の強度でも行ってよい。また、硬化途中で強度を変化させることにより、硬化後の物性を微調整することができる。

構造単位（ａ）の製造に際して、必要に応じて、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤及び／又は可塑剤等の当該分野で一般的に用いられる添加剤を、それぞれ１種又は２種以上を組み合わせて、利用してもよい。

例えば、重合禁止剤を用いることにより、合成中のアクリレートの重合を抑制することができる。また、モノマーの光重合を制御し、得られる光学フィルムの安定性を向上させることができる。
重合禁止剤としては、メトキノン、ハイドロキノン、これらにアルキルエーテル等の置換基が置換されたｔ−ブチルハイドロキノン等のヒドロキノン系重合禁止剤、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｔ−ブチルカテコール等のヒンダードフェノール系重合禁止剤、フェノチアジン、ニトロソ化合物等、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類あるいはβ−ナフトール類等の一般的なものが挙げられる。

重合禁止剤の使用量は、一般的には１０〜１０００００ｐｐｍ、好ましくは５０〜５００００ｐｐｍ程度である。範囲内であれば、透過率を低下することなく、モノマーを重合させることができる。

また、構造単位（ａ）の製造に際して、光重合開始剤の反応を高感度化するために光増感剤を含有していてもよい。
光増感剤としては、例えば、キサントン又はチオキサントン等のキサントン類、アントラセン又はアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。
光増感剤の使用量は、例えば、樹脂層（Ａ）の合計量１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。この範囲内であれば、透過率を低下することなく、高感度にモノマーを重合させることができる。

レベリング剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同２９ＳＨＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（トーレシリコーン（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越シリコーン製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（ジーイー東芝シリコーン（株）製）、フロリナート（商品名）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（商品名）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（大日本インキ化学工業（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（新秋田化成（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファック（商品名）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７または同Ｆ４４３（大日本インキ化学工業（株）製）などが挙げられる。

レベリング剤を用いることにより、得られるフィルム（膜）を平滑化することができる。さらに成膜化の製造過程で、組成物の流動性を制御したり、組成物を重合して得られるフィルムの架橋密度を調整したりすることができる。
レベリング剤の含有量は、樹脂層（Ａ）の固形分合計１００重量部に対して、０．００１重量部〜２．０重量部であり、好ましくは０．００５重量部〜１．５重量部である。この範囲とすることにより、透過率を低下することなく、モノマーを重合させることができる。

可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルまたはグリコール酸エステルが用いられる。
リン酸エステルとしては、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェートまたはトリブチルホスフェートが挙げられる。

カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルまたはクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルとしては、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）またはジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が挙げられる。クエン酸エステルとしては、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチルまたはクエン酸アセチルトリブチルが挙げられる。
その他のカルボン酸エステルとしては、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが例示される。

グリコール酸エステルとしては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ジトリメチロールプロパンテトラプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート、ソルビトールトリアセテートトリプロピオネート、イノシトールペンタアセテートまたはソルビタンテトラブチレート等が挙げられる。

なかでも、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネートまたはソルビトールトリアセテートトリプロピオネート等が好ましい。特に、トリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネートまたはソルビトールトリアセテートトリプロピオネートが好ましい。

可塑剤の具体例としては、特開平１１−１２４４４５号公報記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特開平１１−２４６７０４号公報記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号公報記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号公報記載のクエン酸エステル類、特開平１１−９０９４６号公報記載の置換フェニルリン酸エステル類などが挙げられる。

可塑剤の添加量は、本発明の光学異方性積層体から光学フィルムを作成した場合に、フィルム特性を大きく損ねない範囲で適宜調整することができる。例えば、樹脂層（Ａ）の固形分総量に対して０．１〜３０重量％程度が挙げられる。

構造単位（ａ）の分子量は、特別に限定されないが、粘性や溶解性の観点から、数平均分子量で１，０００〜１００，０００の範囲であることが好ましい。また、オリゴマーなどの低分子量の樹脂であってもよい。

樹脂（Ａ）は、さらに、式（II）で表されるモノマー（以下「モノマー（II）」という場合がある）、式（III）で表されるモノマー（以下「モノマー（III）」という場合がある）及び共重合可能なモノマー（IV）（以下「モノマー（IV）」という場合がある）からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来するモノマー単位を含む（コ）ポリマー（以下「含有ポリマー（Ｃ）」という場合がある）を含有していてもよい。特に、モノマー（II）及びモノマー（III）に由来するモノマー単位を含む（コ）ポリマーを含有することにより、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

式（II）及び（III）において、Ｒ^２及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、好ましくは水素原子である。
Ｒ^３は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は−Ｑ―Ｒ^３’もしくは−Ｒ^３’−Ｑ―Ｒ^３’’（ただし、Ｒ^３’及びＲ^３’’は、それぞれ独立に、結合手、炭素数１〜５のアルキル又はアルキレン基を表し、Ｑは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−である）、
Ｒ^４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は−Ｑ―Ｒ^４’もしくは−Ｒ^４’−Ｑ―Ｒ^４’’（ただし、Ｒ^４’及びＲ^４’’は、それぞれ独立に、結合手、炭素数１〜５のアルキル又はアルキレン基を表し、Ｑは、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−である）、
あるいはＲ^３及びＲ^４が連結する場合には、Ｒ^３及びＲ^４が隣接する窒素原子と一緒になって炭素数４〜６の窒素含有複素環を形成してもよい。
これらのアルキル基及び該アルキレン基に含まれる水素原子は、水酸基又はオキソ基に置換されていてもよい。

Ｒ^５は単結合又は炭素数２〜６のオキシアルキレン基を表す。
Ｒ^７は、水素原子、メチル基、５〜２０員環の環状炭化水素基又は５〜２０員環の複素環基を表す。この環状炭化水素基及び複素環基は、水酸基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシドキシ基、炭素数２〜４のアシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。これらアルキル基、該アルコキシ基、該アリール基及び該アラルキル基は、水酸基又はハロゲン原子が置換されていてもよい。

オキシアルキレン基としては、オキシメチレン基、オキシエチレン基、ジメチルオキシメチレン基、１−メチルオキシエチレン基、２−メチルオキシエチレン基、オキシｎ−プロピレン基、オキシｎ−ブチレン基、オキシイソブチレン基、オキシsec−ブチレン基、オキシｔ−ブチレン基、１−エチルオキシエチレン基、２−エチルオキシエチレン基、オキシペンチレン基、オキシヘキシレン基、オキシヘプタレン基、オキシオクタレン基等が挙げられる。

環状炭化水素基としては、飽和又は不飽和炭化水素基のいずれでもよく、上述した脂環式炭化水素及び芳香族炭化水素等、例えば、フェニル基、ナフチル基又はアントラニル基等の芳香族炭化水素基、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、イソボルニル基、トリシクロデカニル基又はアダマンチル基などのシクロアルキル基などが挙げられる。

複素環及び複素環基としては、上述したものと同様のものが挙げられる。
アリール基としては、フェニル、トチル、キシリル、クメニル、メシチル、ナフチル、ビフェニル等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、クミル、ナフチルメチル、ナフチルエチル等が挙げられる。
アシル基としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル等が例示される。
ハロゲン原子としては、臭素、フッ素、塩素又は臭素原子が挙げられる。

モノマー（II）の具体例としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド又はＮ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド等のＮ−置換（メタ）アクリルアミド、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン等のＮ，Ｎ−置換（メタ）アクリルアミド、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及び２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。なかでも、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリンが好ましい。光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になるからである。なお、これらのモノマーは、単独又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

モノマー（II）は、例えば、和光純薬工業（株）、東京化成工業（株）、シグマ・アルドリッチジャパン（株）などから市販されており、市販品をそのまま使用することができる。

含有ポリマー（Ｃ）１００モル％対し、モノマー（II）に由来するモノマー単位の含有量は、例えば、０〜９５モル％、５〜８０モル％、好ましくは１０〜７０モル％、特に好ましくは１５〜６０モル％である。この範囲で含有される場合には、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

モノマー（III）の具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート及び１−アクリロイル−４−メトキシナフタレン等が挙げられる。なかでも、メタアクリル酸、メチルメタアクリレート等が好ましい。光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になるからである。

含有ポリマー（Ｃ）１００モル％対し、モノマー（III）に由来するモノマー単位の含有量は、例えば、０〜９５モル％、好ましくは５〜９０モル％、特に好ましくは１０〜８０モル％である。この範囲で含有されることにより、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

共重合可能なモノマー（IV）としては、酢酸ビニル等のビニルエステル類、エチレン、炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物、炭素数５〜２０の環状オレフィン、ビニル化合物、３官能以上の多官能光重合性化合物等が挙げられる。
炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物としては、例えば、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンのような炭素原子数３〜２０の直鎖状α−オレフィン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ブテンのような炭素原子数４〜２０の分岐状α−オレフィン等が挙げられる。

共重合可能なモノマー（IV）としては、得られる共重合体をフィルム状に成形した際の柔軟性に優れることから、エチレン及び炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物が好ましく、エチレン、炭素数が３又は４の直鎖状α−オレフィンであるプロピレン及び１−ブテンがより好ましく、エチレンが最も好ましい。

炭素数５〜２０の環状オレフィンとは、炭素環内に重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物である。具体的には、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エンや、６−アルキルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン、５，６−ジアルキルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン、１−アルキルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン、７−アルキルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エンのような、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基が導入されたノルボンネン誘導体、ジメタノオクタヒドロナフタレンとも呼ばれているテトラシクロ［４，４，０，１２，５，１７，１０］−３−ドデセン、８−アルキルテトラシクロ［４，４，０，１２，５，１７，１０］−３−ドデセン、８，９−ジアルキルテトラシクロ［４，４，０，１２，５，１７，１０］−３−ドデセンなどのジメタノオクタヒドロナフタレンの８位及び／又は９位に炭素数３以上のアルキル基が導入されたジメタノオクタヒドロナフタレン誘導体、分子内に１個又は複数個のハロゲンが導入されたノルボルネンの誘導体、８位及び／又は９位にハロゲンが導入されたジメタノオクタヒドロナフタレンの誘導体などが挙げられる。

ビニル化合物としては、酢酸ビニル、炭素数５〜２０の脂環式構造を有するビニル化合物が挙げられる。

脂環式構造を有するビニル化合物とは、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデカニル基、ノルボルネニル基、アダマンチル基などの炭素数３〜１２程度の脂環式炭化水素基及びビニル基を有する化合物である。

３官能以上の多官能光重合性化合物としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が挙げられる。

また、共重合可能なモノマー（IV）として、以下の式（IV）の化合物を用いてもよい。

式（IV）において、Ｒ^８は水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^９は、水素原子、メチル基又は５〜２０員環の環状炭化水素基及び複素環基を表す。この環状炭化水素基は、水酸基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシドキシ基、炭素数２〜４のアシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｙは、炭素数２〜６のアルキレン基又は炭素数２〜６のアルキレンオキシ基を表す。
アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ヘプタレンオキシ、ヘキサレンオキシが挙げられる。なかでも、エチレンオキシ基（−Ｃ_２Ｈ_４−Ｏ−）が好ましい。
ｓは、１〜２０の整数を表す。）

なかでも、共重合可能なモノマー（IV）としては、式（IV−１）又は式（IV−２）で表されるモノマーが好ましい。

（式（IV−１）中、Ｒ^８、Ｙ及びｓは上記と同義であり、Ｒ^１０は、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はグリシドキシ基を表す。ｔは０〜４の整数を表し、ｕは０〜５の数を表す。ｔ及びｕの合計が２以上の場合、複数のＲ^１０それぞれ異なっていてもよい。）

（式（IV−２）中、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｙ、ｓ及びｕは上記と同義である。）

モノマー（IV−１）の具体例としては、式（IV−１−１）で表されるモノマーが挙げられ、モノマー（IV−２）の具体例としては、式（IV−２−１）で表されるモノマーが挙げられる。

モノマー（IV）の製造方法としては、例えば、Ｒ^９の構造を与える化合物としてフェノール化合物を用い、この化合物にエチレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを反応させて、Ｒ^９−（Ｙ）_ｓ−Ｈ（好ましくは、Ｒ^９−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｓ−Ｈ）を得て、さらにアクリル酸又はメタクリル酸などをエステル化する方法等が挙げられる。

式（IV−１−１）及び式（IV−２−１）で表される化合物は、新中村化学工業（株）からＮＫエステルＬ−４及びＮＫエステルＡ−ＣＭＰ−１Ｅの商品名で市販されている。
共重合可能なモノマー（IV）は、単独又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

含有ポリマー（Ｃ）１００モル％に対し、共重合可能なモノマー（IV）に由来するモノマー単位の含有量は、例えば、０〜５０モル％、好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。この範囲で含有されることにより、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

含有ポリマー（Ｃ）は、ランダム又はブロック共重合体等であることが好ましい。ただし、樹脂層（Ａ）中で、各構造単位及び含有ポリマー（Ｃ）がそれぞれドメインを形成しない程度にブロック形式を少量とすることにより、得られる光学フィルムの透明性を向上させることができる。

含有ポリマー（Ｃ）は、例えば、モノマー（II）、モノマー（III）および共重合可能なモノマー（IV）からなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーを１０重量％以上、好ましくは２０〜４０重量％の濃度になるように有機溶剤に溶解させ、窒素雰囲気下にて、２０〜１００℃程度、好ましくは４０〜９０℃程度、特に好ましくは６０〜８０℃程度に加熱しながら、１〜２４時間程度攪拌して、含有ポリマー（Ｃ）を含む溶液を得る方法等が挙げられる。また、反応を制御するために、用いるモノマー、重合開始剤等を重合中に添加したり、有機溶剤に溶解したのち添加したりしてもよい。
また、エチレン又はプロピレン等の気体状の共重合可能なモノマー（IV）を用いる場合には、窒素に代えて、これらの共重合可能なモノマー雰囲気下、好ましくは、加圧下で反応させればよい。

重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）または２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレートまたは（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムまたは過酸化水素など無機過酸化物等が挙げられる。また、熱重合開始剤と還元剤を併用したレドックス系開始剤などを重合開始剤として用いてもよい。

ここで用いられる有機溶剤としては、上述したものから適当なものを選択することができる。なかでも、トルエンまたはキシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたはプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；ｎ−プロピルアルコールまたはイソプロピルアルコール等の脂肪族アルコール類；メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン類等が適している。

なお、含有ポリマー（Ｃ）は、任意に、上述したような、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤または可塑剤等の添加剤を用いて製造してもよい。
重合禁止剤の使用量は、例えば、樹脂層（Ａ）の合計量１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。この範囲内であれば、透過率を低下することなく、モノマーを重合させることができる。

本発明の組成物は、光重合開始剤の反応を高感度化するために光増感剤を含有していてもよい。光増感剤としては、上述した中から適宜選択することができる。

また、別の観点から、樹脂層（Ａ）は、上述した構造単位（ａ）を含む限り、さらに、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエチレンオキサイド、ポリフェニレンエーテル等からなる群から選択される１種以上の樹脂が含有されていてもよい。

樹脂層（Ａ）における構造単位（ａ）の含有量は、樹脂層（Ａ）の全重量に対して、５〜９５重量％、好ましくは１０〜９０重量％、特に好ましくは２０〜８０重量％である。この範囲内であれば、光学異方性積層体を光学フィルムとして用いた場合に、広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になるからである。また、後述する構造単位（ｂ）を含む樹脂との塗布性の観点からは、上述した（１）〜（４）の構造単位のみからなる又は主成分として含有されるもの、つまり、ポリウレタン、ポリウレタン尿素、ポリウレタン（メタ）アクリレート及び／又はポリウレタン尿素（メタ）アクリレート樹脂のみからなる又は主成分として含有されるものが好ましい。

樹脂層（Ａ）は、例えば、用いた材料、得ようとする光学特性等によるが、１０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成することが適している。言い換えると、光学異方性積層体の全膜厚の９〜９４％程度であることが適している。

本発明の光学異方性積層体は、負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）とを含む。

負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）としては、例えば、スチレン誘導体及び類縁体ホモポリマー、（メタ）アクリル酸系ホモポリマー、（メタ）アクリル酸エステル系ホモポリマー、マレイミド誘導体導入ポリマーならびにこれらに対応するモノマー、上述したモノマー（II）、（III）、共重合可能なモノマー（IV)、下記に示す式（V)〜（VIII)で表されるモノマー（以下、モノマー（V)〜（VIII)という場合がある）の（コ）ポリマー等が挙げられる。

（式（Ｖ）中、Ｒ^１１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^１２は、５〜２０員環の芳香族炭化水素基もしくは芳香族複素環基又は基−Ｒ^１２’−（Ｂ_ｎ−Ｒ^１２’’）_ｄ（ここで、Ｒ^１２’及びＲ^１２’’は、それぞれ独立に、５〜２０員環の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、Ｂ_ｎは連結基を表す。ｄは、１〜３の整数である。ｄが２以上の整数である場合、複数のＲ^１２’’は、異なる基であってもよい。）。該芳香族炭化水素基及び該芳香族複素環基は、水酸基、オキソ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２のアラルキル基、グリシドキシ基、炭素数２〜４のアシル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。）

（式（VI）中、Ｒ^１９及びＲ^２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、炭素数２〜６のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、炭素数１〜６のアルキル基、水酸基又はオキソ基で置換されていてもよい。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、単結合又はメチレン基を表す。ｓは１又は２の整数、ｔは０又は１の整数を表す。ｖ_１及びｗ_１は、それぞれ独立に、０〜６の整数を表す。）

（式（VII）中、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘ^３及びＸ^４は、それぞれ独立に、炭素数２〜６のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、炭素数１〜６のアルキル基、水酸基又はオキソ基で置換されていてもよい。Ｚ^３及びＺ^４は、それぞれ独立に、単結合又はメチレン基を表す。ｖ_２及びｗ_２は、それぞれ独立に、０〜６の整数を表す。）

（式（VIII）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘ^５及びＸ^６は、それぞれ独立に、炭素数２〜６のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、炭素数１〜６のアルキル基、水酸基又はオキソ基で置換されていてもよい。Ｒは、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、グリシドキシ基、ニトロ基又はシアノ基を表す。ｖ_３及びｗ_３は、それぞれ独立に、０〜６の整数を表し、ｗは、それぞれ独立に、０〜４の整数を表す。ｗが２以上整数である場合、複数のＲは、それぞれ同一の種類の基であっても異なる種類の基であってもよい。）

上記（Ｖ）〜式（VIII)において、芳香族複素環基としては、上記と同様のものが例示される。

なかでも、モノマー（Ｖ）においては、Ｒ^１１が水素原子であるものが好ましい。

連結基としては、例えば、結合手、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、エチレン基及びプロピレン基等の炭素数１〜６程度の炭化水素基（カルボキシ基、水酸基、ハロゲン原子等が置換されていてもよい）、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、−ＣＯ_２−等が挙げられる。なお、これらの芳香族炭化水素基及び／又は芳香族複素環基（式（Ｖ）中、ｄ）は２個でもよいし、３個以上でもよい。
式（Ｖ）において、基−Ｒ^１２’−（Ｂ_ｎ−Ｒ^１２’）_ｄ、つまり、芳香族炭化水素基及び／又は芳香族複素環基が連結基を介して結合された１価の基としては、具体的には、複数の芳香族炭化水素基が単結合で結合したビフェニル基、複数の芳香族炭化水素基がイソプロピリデン基で結合した下記式で表される基等が挙げられる。

モノマー（Ｖ）としては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、トリメチルスチレン、プロピルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ドデシルスチレン等のアルキルスチレン；ヒドロキシスチレン、ｔ−ブトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンジルアセテート、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン及びアミノスチレン等のベンゼン環に水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アシルオキシ基、ハロゲン及びアミノ基等から選ばれる基が結合した置換スチレン；４−ビニルビフェニル、２−エチル−４ベンジルスチレン、４−（フェニルブチル）スチレン及び４−ヒドロキシ−４’−ビニルビフェニル等のビニルビフェニル系化合物；ビニルナフタレン及びビニルアントラセン等の縮合環及びビニル基を有する化合物；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルフタルイミド及びＮ−ビニルインドール等の芳香族炭化水素基、複素環基及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

なかでも、モノマー（Ｖ）として、スチレン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルナフタレン又はビニルアントラセン等が好ましい。光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になるからである。

モノマー（Ｖ）に由来する構造単位の含有量は、例えば、樹脂層（Ｂ）の合計量を１００重量％とした場合、例えば０〜４０重量％、好ましくは２〜３５重量％、特に好ましくは３〜３０重量％である。この範囲内であると、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

モノマー（VI）について、具体的には、式（VI−１）で表されるモノマーが挙げられる。

式（VI−１）及び式（VII−１）中、Ｒ^１９〜Ｒ^２０、ｓ、ｔは、上記と同じ意味を表す。

モノマー（VI）として、さらに具体的には、例えば、式（VI−２）〜式（VI−４）で表されるモノマーが挙げられる。式（VI−４）で表されるモノマーは、ＤＣＰ（商品名、新中村化学工業（株）製）として市販されている。

式（VI−２）及び式（VI−３）中、ｖ_１及びｗ_１は上記と同じ意味を表す。

モノマー（VI）に含まれる（メタ）アクリロイル基は、脂環式炭化水素基を有する原子団の水酸基に直接、（メタ）アクリル酸をエステル化させて得られたものであってもよい。また、脂環式炭化水素を有する原子団の水酸基にエチレンオキサイドを反応させて得られた末端水酸基に（メタ）アクリル酸をエステル化させて得られたものであってもよい。
具体的には、例えば、式（VI−１）で表される化合物は、アクリル酸にカプロラクトンを反応させ、末端カルボン酸と脂環式アルコール（トリシクロデカンジアルコール）とを反応させて得ることができる。

モノマー（VI）としては、さらに式（VI−５）で表されるモノマーが挙げられる。

式（VI−５）中、Ｒ^１９、Ｒ^２０、ｖ_１及びｗ_１は上記と同じ意味を表す。

さらに具体的には、例えば、式（VI−６）及び式（VI−７）で表されるモノマーが挙げられる。

式（VI−７）中、ｖ_１及びｗ_１は上記と同じ意味を表す。

式（VI−６）で表されるモノマーに含まれるアクリロイル基は、脂環式炭化水素に結合した水酸基に直接、アクリル酸をエステル化させて得られたものである。
式（VI−７）で表されるモノマーに含まれるアクリロイル基は、脂環式炭化水素基に結合した水酸基にエチレンオキサイドを反応させて得られた末端水酸基に、アクリル酸をエステル化させて得られたものである。

モノマー（VII）について、具体的には、式（VII−１）で表されるモノマーが挙げられる。

式（VII−１）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２２、ｖ_２及びｗ_２は、上記と同じ意味を表す。

モノマー（VII）として、さらに具体的には、例えば、式（VII−２）で表されるモノマーが挙げられる。式（VII−２）で表されるモノマーは、Ａ−ＣＨＤ−４Ｅ（商品名、新中村化学工業（株）製）として市販されている。

モノマー（VII）に含まれる（メタ）アクリロイル基も、上記と同様に、脂環式炭化水素基を有する原子団の水酸基に直接又は間接に反応させて得られる。
具体的には、式（VII−１）で表される化合物は、脂環式アルコール（トリシクロデカンジアルコール）にグリシジルアクリレートを反応させて得ることができる。

モノマー（VI）及びモノマー（VII）に由来する構造単位の含有量は、それぞれ、樹脂層（Ｂ）の合計量を１００重量％とした場合、例えば０〜７０重量％、好ましくは３〜６５重量％、特に好ましくは５〜６０重量％である。この範囲内とすることにより、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

モノマー（VIII）としては、特に、式（VIII−１）で表される化合物が好ましい。

式（VIII−１）中、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｘ^５、Ｘ^６、ｖ_３及びｗ_３は、上記と同じ意味を表す。

モノマー（VIII）として、さらに具体的には、例えば、式（VIII−２）で表されるモノマーが挙げられる。式（VIII−２）で表されるモノマーは、Ａ−ＢＰＥＦ（商品名、新中村化学工業（株）製）として市販されている。

モノマー（VIII）に含まれる（メタ）アクリロイル基は、ビスフェノールフルオレンの水酸基に直接、（メタ）アクリル酸をエステル化させて得られたものであってもよいし、ビスフェノールフルオレンの水酸基にエチレンオキサイド等を反応させて得られた末端水酸基に（メタ）アクリル酸をエステル化させて得られたものであってもよい。

モノマー（VIII）に由来する構造単位の含有量は、樹脂層（Ｂ）の合計量を１００重量％とした場合、例えば、０〜５０重量％、好ましくは２〜４５重量％、特に好ましくは３〜４０重量％である。この範囲内とすることにより、光学フィルムが広い波長域でより一様の偏光変換を行うことが可能になる。

構造単位（ｂ）としては、特に、ビニル系の（コ）ポリマーが好ましい。
具体的には、スチレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、無水マレイン酸、Ｎ−フェニルマレイミド等のモノマーから得られる（コ）ポリマーが挙げられる。
なかでも、無水マレイン酸から得られる（コ）ポリマーが好ましく、特に、スチレン−無水マレイン酸コポリマーが好ましい。無水マレイン酸から得られる（コ）ポリマーを用いることにより、樹脂層（Ａ）との塗布性及び延伸性等を向上させることができる。

スチレン−無水マレイン酸コポリマー、さらに上述した各モノマーをモノマー単位として含有する（コ）ポリマーは、公知のラジカル重合法によって製造することができる。ラジカル重合法としては、特に限定されず、溶液重合、懸濁重合、乳化重合、塊状重合等の種々の重合方法を利用することができる。分子量調整、容易性、成膜性等の観点から、溶液重合が好ましい。

溶液重合に用いる溶剤としては、重合の妨げにならない限り特に限定されず、上述した中から１種又は２種以上を組み合わせて、適宜選択することができる。

また、ラジカル重合においては、上述した重合開始剤から１種又は２種以上を組み合わせて利用することができる。

溶液重合を行う反応系のモノマー濃度は、１０重量％以上であることが好ましく、１５重量％以上５０重量％以下であることがより好ましく、２０重量％以上４０重量％以下であることが最も好ましい。この範囲のモノマー濃度とすることにより、重合を制御しやすく、得られる樹脂溶液の粘度等を向上させることができる。

溶液重合を行う反応系の温度は、１５℃以上１２０℃以下であることが好ましく、３０℃以上１１０℃以下であることがより好ましく、さらに４０℃以上１００℃以下であることが最も好ましい。この範囲とすることにより、重合を容易に制御することができる。

例えば、スチレン−無水マレイン酸コポリマーの重合比は、重合に用いる全モノマーに対して、スチレンが５０モル％以上であることが好ましく、スチレン：無水マレイン酸が５０：５０（モル％）であることがより好ましい。この比率とすることにより、粘性、成膜性、靭性及び耐熱性を向上させることができる。また、得られるフィルムの光学特性を向上させることができ、広い波長領域で均一な偏光変換を行う光学フィルムを得ることができる。

本発明の構造単位（ｂ）の平均分子量は、１０００以上１００００００以下であることが好ましく、２０００以上８０００００以下であることがより好ましく、さらに３０００以上５０００００以下であることが最も好ましい。この範囲とすることにより、粘性、成膜性、靭性及び耐熱性を向上させることができる。また、得られるフィルムの光学特性を向上させることができ、広い波長領域で均一な偏光変換を行う光学フィルムを得ることができる。

特に、スチレン−無水マレイン酸コポリマーは、市販の共重合体を用いることができる。スチレン−無水マレイン酸コポリマーは、例えば、シグマ・アルドリッチジャパン（株）社から販売されており、ＮＯＶＡ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｊａｐａｎ Ｌｔｄ．社から商品名「ＤＹＬＡＲＫ」として市販されている。

スチレン−無水マレイン酸コポリマーは、無水マレイン酸に由来するモノマー単位の一部が開環してエステル基及びカルボキシル基となった構造を有する、いわゆるハーフエステル構造を有していてもよい。
スチレン−無水マレイン酸コポリマーのエステル化は、スチレン−無水マレイン酸コポリマーとアルコールとを混合し、不活性ガス気流下、１２０℃以上２００℃以下で加熱しながら攪拌することにより得ることができる。

なお、構成単位（ｂ）及び構成単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）においては、構成単位（ａ）及び／又は樹脂層（Ａ）において含有されていてもよい含有ポリマー（Ｃ）、ポリオレフィン系等の種々の樹脂、各種添加剤等を任意に含有していてもよい。この場合の含有量は構成単位（ａ）又は樹脂層（Ａ）で用いた量に対応した量とすることができる。

樹脂層（Ｂ）は、例えば、用いた材料、得ようとする光学特性等によるが、１０〜１００程度の膜厚で形成することが適している。言い換えると、光学異方性積層体の全膜厚の６〜９１％程度であることが適している。

本発明の光学異方性積層体は、樹脂層（Ａ）及び樹脂層（Ｂ）のいずれか一方を成膜し、この少なくとも片面に、他方を塗布することによって形成することができる。成膜は、樹脂層（Ａ）及び樹脂層（Ｂ）のいずれか一方を含む溶液を平滑な面にキャストして溶剤を留去する溶剤キャスト法、この溶液を溶融押出機などでフィルム状に押出成形する溶融押出法などが挙げられる。特に、溶剤キャスト法は、簡便な手法で、つまり、溶液をそのまま成膜することができることから好ましい。

本発明による光学フィルムは、上述した光学異方性積層体により形成することができる。具体的には、光学異方性積層体を延伸することにより、光学フィルムを製造することができる。
また、光学フィルムは、構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）を延伸して延伸フィルムを作成し、これとは別に、構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）を延伸して延伸フィルムを作成し、両延伸フィルムを積層して製造してもよい。

延伸方法としては、例えば、テンター法による延伸法、ロール間延伸による延伸法など、当該分野で公知の方法のいずれをも用いることができる。
延伸は、一軸延伸でも二軸延伸のいずれでもよく、縦延伸でも横延伸のいずれでもよい。特に生産性の観点から、二軸延伸及び横一軸延伸が好ましく、特に横一軸延伸が好ましい。
また、延伸は、得ようとする光学特性によって適宜調整することができるが、延伸倍率としては、通常の延伸フィルム製造に用いられる倍率でよく、例えば、１．２倍〜７倍、好ましくは、１．５倍〜５倍である。

一般に、光学フィルムを透過する光の波長４５０ｎｍのレターデーション［Ｒｅ（４５０）］と波長５５０ｎｍのレターデーション［Ｒｅ（５５０）］との比（［Ｒｅ（４５０）］／［Ｒｅ（５５０）］）は波長分散係数αと定義される。光学フィルムが広い波長域において一様の偏光変換を行うためには、光学フィルムの波長分散係数αが１．００未満である波長分散特性を有することが好ましい。
従って、本発明の光学フィルムは、通常、波長分散係数αが１．００未満である。
また、本発明の光学フィルムを透過する光の波長νｎｍにおける位相差値Ｒｅ（ν）は、通常、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）の関係を充足する。さらに、３００〜７００ｎｍ可視領域全般で、通常、右上がりの分散を示す。従って、本発明の光学フィルムは、広い波長域で一様の偏光変換を行うことができる。

本発明の光学フィルムは、広い波長域において一様の偏光変換が可能であるため、λ／２板またはλ／４板などの位相差板、視野角向上フィルムなどとして用いることができる。
また、光学フィルムがλ／４板であれば、それを直線偏光板と組み合わせて広波長域の円偏光板とすることができる。λ／２板であれば、それを直線偏光板と組み合わせて広波長域の偏光回転素子とすることができる。
したがって、各種液晶表示装置、陰極線管（ＣＲＴ）、タッチパネル、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）ランプ等における反射防止フィルター、さらには液晶プロジェクターなどに使用することができる。

本発明の位相差板は、上述した光学フィルムからなる。従って、広い波長域において一様の偏光変換が可能である。

以下、実施例により本発明の光学異方性積層体及び光学フィルムをさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、重量％及び重量部である。なお、光学異方性及び平均分子量は以下の方法によって求めた。

（光学異方性）
延伸によって重合体主鎖を一軸配向させた際に、その配向方向と屈折率が最大になる方向が異なる（例えば、直交する等）光学異方性を有する場合、負の複屈折性を有している。一方、配向方向と屈折率が最大になる方向が一致する又はほぼ一致する（例えば、配向方向と屈折率が最大になる方向との差が１０度以内の場合等）場合、正の複屈折性を有している。
屈折率が最大になる方向は自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）より求められる。

（波長分散特性）
４５０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長範囲において、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器（株）製）を用いて波長分散特性を測定した。

（平均分子量）
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）（東ソー（株）製、ＨＬＣ−８２００）を用い、ポリスチレン換算で求めた。

装置 ；ＨＬＣ-８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
ガードカラム ；ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨ−Ｈ（商品名）
カラム ；ＴＳＫ−ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（商品名）
ＴＳＫ−ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（商品名）
ＴＳＫ−ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（商品名）（直列接続）
カラム温度 ；４０℃
溶媒 ；ＴＨＦ
流速 ；０．６ｍＬ／ｍｉｎ
注入量 ；５０μＬ
検出器 ；ＲＩ、ＵＶ
測定試料濃度 ；０．６質量％（溶媒；ＴＨＦ）
校正用標準物質；ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ
Ａ−５００、Ａ−１０００、Ａ−２５００、Ａ−５０００、
Ｆ−１、Ｆ−２、Ｆ−４、Ｆ−１０、Ｆ−２０、Ｆ−４０、
Ｆ−８０、Ｆ−１２８、Ｆ−２８８，Ｆ−３８０
（商品名、東ソー（株）製）
上記測定方法で得られたポリスチレン換算重量平均分子量及び数平均分子量の比を分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）とした。

（合成例１：構造単位（ｂ）の合成）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、スチレン７７．９部、無水マレイン酸７３．３部、メチルエチルケトン４５４部を仕込み、窒素気流攪拌下７０℃に加熱した。α，α’−アゾビスイソブチロにトリル０．７４部を加え、７時間攪拌しながら保温し、スチレン−無水マレイン酸共重合体溶液を得た。
得られた共重合体の平均分子量は、ポリスチレン換算でＭｗ＝２１４５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５４であった。

（合成例２：構造単位（ｂ）の合成）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、スチレン７５部、無水マレイン酸７１部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４５部、シクロヘキサノン４３７部を仕込み、窒素気流攪拌下６０℃に加熱した。α，α’−アゾビスイソブチロにトリル０．７２部を加え、７時間攪拌しながら保温し、スチレン−無水マレイン酸共重合体溶液を得た。
得られた共重合体の平均分子量は、ポリスチレン換算でＭｗ＝２４１２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７２であった。

（合成例３：構造単位（ａ）の合成）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリ（ヘキサメチレンカーボネート）ジオール（分子量８６０）３４４部、１，６−ヘキサンジオール１１．８部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル４７３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
得られたポリウレタンの平均分子量は、ポリスチレン換算でＭｗ＝８３５０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５２であった。

（実施例１）
合成例１で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、基材フィルムを得た。この基材フィルムを離型フィルムから剥離し、この基材フィルム上に合成例３で作成したポリウレタン溶液を５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥した。
得られた積層フィルムを温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸し、光学フィルムを作成した。光学フィルムの光学特性を表１に示す。

（実施例２）
合成例１で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液を、合成例２で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液に変さらしたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作成した。光学フィルムの光学特性を表１に示す。

（実施例３）
合成例１で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液を、ＮＯＶＡ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｊａｐａｎ Ｌｔｄ．社製「ＤＹＬＡＲＫ−Ｄ２３２」ペレットをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、２０％溶液を調整した溶液に変さらしたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作成した。光学フィルムの光学特性を表１に示す。

（実施例４）
合成例３で作成したポリウレタン溶液をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、基材フィルムを得た。
ＮＯＶＡ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｊａｐａｎ Ｌｔｄ．社製「ＤＹＬＡＲＫ−Ｄ２３２」ペレットをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、２０％溶液を調整した。

この基材フィルムを離型フィルムから剥離し、該基材フィルム上にＤＹＬＡＲＫ溶液を５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥した。
得られた積層フィルムを、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸し、光学フィルムを作成した。光学フィルムの光学特性を表１に示す。

実施例１〜４の光学フィルムは、正の複屈折性を示した。

（実施例５）
合成例１で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、離型フィルムから剥離し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸した。
ポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、合成例３で作成したポリウレタン溶液を５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して３．０倍延伸した。
得られた２枚のフィルムを積層して光学フィルムを作成した。得られた光学フィルムの光学特性を表２に示す。

（実施例６）
合成例２で作成したスチレン−無水マレイン酸共重合体溶液をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、離型フィルムから剥離し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸した。
ポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、合成例３で作成したポリウレタン溶液を５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して３．０倍延伸した。
得られた２枚のフィルムを積層して光学フィルムを作成した。得られた光学フィルムの光学特性を表２に示す。

（実施例７）
ＮＯＶＡ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｊａｐａｎ Ｌｔｄ．社製「ＤＹＬＡＲＫ−Ｄ２３２」ペレットをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、２０％溶液を調整し、ポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、離型フィルムから剥離し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸した。
ポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、合成例３で作成したポリウレタン溶液を５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して３．０倍延伸した。
得られた２枚のフィルムを積層して光学フィルムを作成した。得られた光学フィルムの光学特性を表２に示す。
実施例５〜７の光学フィルムは、正の複屈折性を示した。

（合成例４）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、スチレン１１７部、無水マレイン酸１１０部、メチルエチルケトン９０８部を仕込み、窒素気流攪拌下７０℃に加熱した。２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．４８部を加え、７時間攪拌しながら保温し、重合体（１−ａ）を含む溶液を得た。
得られた重合体の平均分子量は、ポリスチレン換算でＭｗ＝２．５×１０^５、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２８であった。

（合成例５）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、スチレン１５０部、無水マレイン酸１４２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２９０部、シクロヘキサノン８７４部を仕込み、窒素気流攪拌下６０℃に加熱した。２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．４４部を加え、７時間攪拌しながら保温し、重合体（１−ｂ）を含む溶液を得た。
得られた重合体の平均分子量は、ポリスチレン換算でＭｗ＝２．２×１０^５、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５２であった。

（合成例６）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量７００）７０部、１，４−シクロヘキサンジオール１０５部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５９６部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−１）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例７）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量７００）７０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１３０部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６３３部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−２）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例８）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８６部、１，４−シクロヘキサンジオール１０５部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６２０部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−３）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例９）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８６部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１３０部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６５７部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−４）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例１０）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）３４４部、１，４−ブタンジオール５４．１部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９３０部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−５）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例１１）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）３４４部、１，６−ヘキサンジオール７０．９部、ジラウリン酸ジブチル錫１．７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２２２部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９５６部を添加し、窒素気流下、７０℃で６時間反応させ化合物（２−ａ−６）を含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例１２）
イソホロンジアミン２５．６部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部とを混合してジアミン希釈液を調製した。合成例６に従って得た化合物（２−ａ−１）を含むポリウレタン溶液４９７部を攪拌しながら４０℃にて保温し、該希釈液を１時間かけて滴下した。滴下終了後も４０℃に保温しながら３０分攪拌を続け、化合物（２−ｂ−１）を含むポリウレタン尿素溶液を得た。

（合成例１３）
イソホロンジアミン２５．６部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部とを混合してジアミン希釈液を調製した。合成例７に従って得た化合物（２−ａ−２）を含むポリウレタン溶液５２８部を攪拌しながら４０℃にて保温し、該希釈液を１時間かけて滴下した。滴下終了後も４０℃に保温しながら３０分攪拌を続け、化合物（２−ｂ−２）を含むポリウレタン尿素溶液を得た。

（合成例１４）
イソホロンジアミン２５．６部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部とを混合してジアミン希釈液を調製した。合成例８に従って得た化合物（２−ａ−３）を含むポリウレタン溶液５１７部を攪拌しながら４０℃にて保温し、該希釈液を１時間かけて滴下した。滴下終了後も４０℃に保温しながら３０分攪拌を続け、化合物（２−ｂ−３）を含むポリウレタン尿素溶液を得た。

（合成例１５）
イソホロンジアミン２５．６部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部とを混合してジアミン希釈液を調製した。合成例９に従って得た化合物（２−ａ−４）を含むポリウレタン溶液５４８部を攪拌しながら４０℃にて保温し、該希釈液を１時間かけて滴下した。滴下終了後も４０℃に保温しながら３０分攪拌を続け、化合物（２−ｂ−４）を含むポリウレタン尿素溶液を得た。

（実施例８〜２７）
重合体（１−ａ）又は（１−ｂ）を含む溶液を用いて、実施例１と同様又は準じて、それぞれ基材フィルムを形成する。その各基材フィルム上に、実施例１と同様又は準じて、それぞれ化合物（２−ａ−１）〜化合物（２−ｂ−４）を含む溶液を用いて積層体を形成する。
この積層体を、実施例１と同様にそれぞれ延伸し、光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例１６）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール３８．５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０７５部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３４１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート５５．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例１７）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０３７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２７．８部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル２８．５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン１０．６部、酢酸エチル５３．２部、及びイソプロピルアルコール３１．９部からなる混合物に、このポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。

（実施例２８、２９）
合成例３のポリウレタン溶液に代えて、合成例１６または１７の溶液を用いる以外、実施例１と同様又は準じて、それぞれ光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。
（実施例３０）
合成例１の溶液に代えて、式（VI−４）又は式（VII−２）で表されるモノマーから得られる重合体溶液をそれぞれ用いる以外、実施例１と同様又は準じて、それぞれ光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例１８）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール３８．５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０７５部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３４１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート５５．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例１９）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０３７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２７．８部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル２８．５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン１０．６部、酢酸エチル５３．２部、及びイソプロピルアルコール３１．９部からなる混合物に、該ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。

（実施例３１、３２）
合成例３のポリウレタン溶液に代えて、合成例１８または１９の溶液を用いる以外、実施例１と同様又は準じて、それぞれ光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。
（実施例３３）
合成例１の溶液に代えて、式（VIII−２）で表されるモノマーから得られる重合体溶液を用いる以外、実施例１と同様又は準じて、光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。
（合成例２０）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、プロピレングリコール７．６部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２１）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−ブタンジオール９．０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２２）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−ブタンジオール９．０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９４部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。

（合成例２３）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、トリプロピレングリコール（異性体混合物）１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２４）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、トリプロピレングリコール（異性体混合物）１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４２部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７１部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。

（合成例２５）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物）１４．４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８９部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２６）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−シクロヘキサンジオール（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物）１１．６部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１７５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２７）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリ（ヘキサメチレンカーボネート）ジオール（平均分子量８６０）３４４部、１，６−ヘキサンジオール１１．８部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル４７３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。

（合成例２８）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリ（ヘキサメチレンカーボネート）ジオール（平均分子量８６０）３４４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル４７３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、酢酸エチル３７部、及びイソプロピルアルコール３０部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。

（実施例３４〜４２）
Ｎ−ビニルカルバゾール（モノマー（Ｖ）） ２．５部
メタアクリル酸メチル（モノマー（II）） １０ 部
イルガキュア１８４（光重合開始剤） ０．１部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶剤） １ 部
ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（界面活性剤） ０．１部

上記混合組成物をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、ＵＶ照射（高圧水銀ランプ：１Ｐａｓｓ当たり ２００ｍＪ／ｃｍ^２：３６５ｎｍ）する。
合成例２０〜２８で作製したポリウレタン溶液を、この上に塗布し、実施例１と同様に、光学フィルムを作成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例２９）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８．６０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１２．９８部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９２．０６部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：１．４×１０^４のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３０）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８．６０部、１，４−シクロヘキサンジオール１０．４５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８７．０１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：５．４×１０^３のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３１）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８．６０部、１，３−シクロヘキサンジオール１０．４５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８７．０１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：４．５×１０^３のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３２）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）１７．２０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１１．５４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０６．３８部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：２．５×１０^４のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３３）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）２５．８０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１０．１０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２０．６９部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：３．３×１０^４のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３４）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）３４．４０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール８．６５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１３５．０１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：４．５×１０^４のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３５）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール ジオール型（平均分子量７００）１４．００部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１１．５４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９９．９８部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、数平均分子量：８．３×１０^３のポリウレタンを含むポリウレタン溶液を得た。

（合成例３６）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）１７．２０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１１．５４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０６．３８部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、７０℃で４時間反応させ、５０℃まで冷却後、イソホロンジアミン０．３１部をイソプロピルアルコール１５．４５部に混合した溶液を滴下し、５０℃で１時間反応させ、数平均分子量：３．７×１０^４のポリウレタン尿素を含むポリウレタン尿素溶液を得た。

（実施例４３〜５０）
Ｎ−ビニルカルバゾール（モノマー（Ｖ）） ２．０ ｇ
メタアクリル酸メチル（モノマー（II）） ５．０ ｇ
イルガキュア１８４（光重合開始剤） ０．１ ｇ
ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（界面活性剤） ０．０５ｇ
上記混合組成物をポリエチレンテレフタレート製の離型フィルム上に、５００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で３０分乾燥し、ＵＶ照射（高圧水銀ランプ：１Ｐａｓｓ当たり ２００ｍＪ／ｃｍ^２：３６５ｎｍ）する。
合成例２９〜３６で作製した重合体溶液を、この上に塗布し、実施例１と同様に、光学フィルムを作成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例３７）
合成例６の化合物（２−ａ−１）を含むポリウレタン溶液４９７部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート３４．８部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｃ−１）を含むウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例３８）
合成例７の化合物（２−ａ−２）を含むポリウレタン溶液５２８部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート３４．８部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｃ−２）を含むウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例３９）
合成例８の化合物（２−ａ−３）を含むポリウレタン溶液５１７部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート３４．８部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｃ−３）を含むウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例４０）
合成例９の化合物（２−ａ−４）を含むポリウレタン溶液５４８部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート３４．８部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｃ−４）を含むウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例４１）
合成例１３の化合物（２−ｂ−２）を含むポリウレタン尿素溶液６０５部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート１７．０部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｄ−１）を含むウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例４２）
合成例１５の化合物（２−ｂ−４）を含むポリウレタン尿素溶液５９４部に、２−ヒドロキシエチルアクリレート１７．０部を添加し、４０℃で攪拌反応させて、化合物（２−ｄ−２）を含むウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（実施例５１〜５６）
化合物（２−ａ−１）〜化合物（２−ｂ−４）を含む溶液に代えて、化合物（２−ｃ−１）〜（２−ｃ−４）、（２−ｄ−１）、（２−ｄ−２）を含む重合体溶液をそれぞれ用いる以外、実施例８〜２７と同様に光学フィルムを作成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例４３）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール３８．５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０７５部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３４１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート５５．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１５部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例４４）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０３７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２７．８部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル２８．５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン１０．６部、酢酸エチル５３．２部、およびイソプロピルアルコール３１．９部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１２部を上記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例４５）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、イソホロンジイソシアネート６６．７部、メチルヒドロキノン０．１７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．２９部を仕込み、窒素気流攪拌下、２−ヒドロキシエチルアクリレート７０．４部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１５．２部を添加し、窒素気流下、８０℃で反応させウレタンアクリレート溶液を得た。

（実施例５７〜５９）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、メチルメタクリレート［モノマー（III）］４０部、Ｎ−ビニルカルバゾール［モノマー（Ｖ）］１９部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１１０部を混合し溶解させ、その後、７０℃に昇温させた。その後、重合開始剤（アゾビスイソブチロニトリル）０．２５部を添加した後、同温度で攪拌し、構造単位（ｂ）を含むプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得る。
これを実施例１と同様に基材フィルムとする。
その上に、合成例４３〜４５でそれぞれ作製したウレタンアクリレート溶液５部、光重合開始剤（３）（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イルガキュア１８４、チバ・ジャパン（株）製）０．１ｇ、ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ８４００（トーレシリコーン（株）製）０．０５ｇを混合溶解した重合体溶液を３００μｍのギャップのアプリケーターで塗布、１００℃で１０分間乾燥し、ＵＶ照射（高圧水銀ランプ：１Ｐａｓｓ当たり ２００ｍＪ／ｃｍ^２：３６５ｎｍ）、さらに温度調節オートグラフ延伸機（（株）東洋精機製作所製、ストログラフＴ）を使用して１．８倍延伸し光学フィルムを作成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例４６）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール３８．５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０７５部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３４１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート５５．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１５部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例４７）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０３７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２７．８部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル２８．５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン１０．６部、酢酸エチル５３．２部、およびイソプロピルアルコール３１．９部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１２部を上記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例４８）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、イソホロンジイソシアネート６６．７部、メチルヒドロキノン０．１７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．２９部を仕込み、窒素気流攪拌下、２−ヒドロキシエチルアクリレート７０．４部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１５．２部を添加し、窒素気流下、８０℃で反応させウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例４９）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール３８．５部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０７５部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３４１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート５５．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート５６．４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１５部を前記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例５０）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、トリプロピレングリコール１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０３７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７１部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２７．８部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル２８．５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン１０．６部、酢酸エチル５３．２部およびイソプロピルアルコール３１．９部からなる混合物に、前記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。次いで２−ヒドロキシエチルアクリレート１２部を前記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例５１）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に、イソホロンジイソシアネート６６．７部、メチルヒドロキノン０．１７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．２９部を仕込み、窒素気流攪拌下、２−ヒドロキシエチルアクリレート７０．４部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート１５．２部を添加し、窒素気流下、８０℃で反応させウレタンアクリレート溶液を得た。
（実施例６０〜６５）
合成例３のポリウレタン溶液に代えて、合成例４６〜５１の溶液をそれぞれ用いる以外、実施例１と同様又は準じて、それぞれ光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

（合成例５２）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）１７．２０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１１．５４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４８．９３部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、９０℃で５時間反応させ、５０℃まで冷却した。
その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート２．６２部を仕込み、５０℃で１時間反応させウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例５３）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）１７．２０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール１１．５４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４８．９３部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、９０℃で５時間反応させ、５０℃まで冷却後、イソホロンジアミン０．３１部をイソプロピルアルコール１５．４５部に混合した溶液を滴下し、５０℃で１時間反応させた。
次いで、２−ヒドロキシエチルアクリレート２．６２部を仕込み、５０℃で１時間反応させウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例５４）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール（平均分子量８６０）８６．００部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０４部、ジラウリン酸ジブチル錫０．１７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３０９．２６部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート２４．４５部を滴下し、滴下終了後、窒素気流下、９０℃で５時間反応させ、５０℃まで冷却後、イソホロンジアミン０．３１部をイソプロピルアルコール１５．４５部に混合した溶液を滴下し、５０℃で１時間反応させた。
次いで、２−ヒドロキシエチルアクリレート２．６２部を仕込み、５０℃で１時間反応させウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例５５）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、プロピレングリコール７．６部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例５６）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−ブタンジオール９．０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例５７）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−ブタンジオール９．０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９４部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９４部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例５８）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、トリプロピレングリコール（異性体混合物）１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例５９）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、トリプロピレングリコール（異性体混合物）１９．２部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４２部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７１部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例６０）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−シクロヘキサンジメタノール（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物）１４．４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８９部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例６１）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）１６０部、１，４−シクロヘキサンジオール（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物）１１．６部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１７５部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例６２）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリ（ヘキサメチレンカーボネート）ジオール（平均分子量８６０）３４４部、１，６−ヘキサンジオール１１．８部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル４７３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例６３）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリ（ヘキサメチレンカーボネート）ジオール（平均分子量８６０）３４４部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、酢酸エチル４７３部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。次いで、イソホロンジアミン４２．６部、酢酸エチル３７部、およびイソプロピルアルコール３０部からなる混合物に、上記ポリウレタン溶液を添加し、７０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン尿素溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタン尿素アクリレート溶液を得た。

（合成例６４）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、１，４−ブタンジオール４５．０部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６２部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。

（合成例６５）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に、ポリプロピレングリコール（ジオール型、平均分子量４００）２００部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２７９部、ジラウリン酸ジブチル錫０．５３７部を仕込み、窒素気流攪拌下、イソホロンジイソシアネート１１６．７部を滴下し、滴下終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３１７部を添加し、窒素気流下、７０℃で反応させポリウレタン溶液を得た。
２−ヒドロキシエチルアクリレート８０．１部を上記ポリウレタン溶液に添加し、４０℃で攪拌反応させて、ポリウレタンアクリレート溶液を得た。
（実施例６６〜７９）
合成例２９〜３６の重合体溶液に代えて、合成例５２〜６５の溶液をそれぞれ用いる以外、実施例４３〜５０と同様又は準じて、それぞれ光学フィルムを形成する。
その結果、実施例１〜４と同様の光学特性を得ることができる。

実施例８〜７９の光学フィルムは、正の複屈折性を示す。

（実施例８０〜１５５）
実施例８〜７９で使用した溶液を用いて、実施例５〜７に準じて光学フィルムを作成する。
その結果、実施例５〜７と同様の光学特性を得ることができる。

実施例８０〜１５５の光学フィルムは、正の複屈折性を示す。

本発明の光学異方性積層体及び光学フィルムは、各種液晶表示装置、陰極線管（ＣＲＴ）、タッチパネル、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）ランプ等における反射防止フィルター、さらには液晶プロジェクターなどの種々の用途において広く使用することができる。

Claims (14)

1. 正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）と、
   負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）とを含む光学異方性積層体。
2. 構造単位（ａ）が、脂環式ポリイソシアネートに由来するモノマー単位を含むポリウレタン、ポリウレタン尿素、ポリウレタンアクリレート及び／又はポリウレタン尿素アクリレートに由来する構造単位である請求項１記載の光学異方性積層体。
3. 構造単位（ａ）が、下記式（Ｉ）で表されるモノマー単位を含む請求項１又は２に記載の光学異方性積層体。
   

   

   （式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアルコキシ基を表す。ｎは０〜１０の整数を表す。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ^１はそれぞれ異なる基であってもよい。）
4. 式（Ｉ）で表されるモノマー単位がイソホロンジイソシアネートである請求項３に記載の光学異方性積層体。
5. 負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）が、ビニル系（コ）ポリマーである請求項１〜４のいずれか１つに記載の光学異方性積層体。
6. 負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）が、無水マレイン酸に由来するモノマー単位を含むビニルコポリマーである請求項１〜５のいずれか１つに記載の光学異方性積層体。
7. 負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）が、スチレン−無水マレイン酸コポリマーである請求項１〜６のいずれか１つに記載の光学異方性積層体。
8. 共重合体へのスチレン導入率が５０モル％以上である請求項７に記載の光学異方性積層体。
9. 請求項１〜８のいずれか１つに記載の光学異方性積層体から形成される光学フィルム。
10. 光学フィルムを透過する透過光の波長νｎｍにおける位相差値Ｒｅ（ν）が、下記式を充足する請求項９記載の光学フィルム。
    Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）
11. 請求項１〜８のいずれか１つに記載の光学異方性積層体を延伸することを含む光学フィルムの製造方法。
12. 正の複屈折性を有し、かつ−ＮＨ−ＣＯ−で表される基を備える構造単位（ａ）を含む樹脂層（Ａ）を延伸して延伸フィルム（Ａ）を作成し、
    負の複屈折性を有する構造単位（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）を延伸して延伸フィルム（Ｂ）を作成し、
    延伸フィルム（Ａ）及び延伸フィルム（Ｂ）を積層することを含む光学フィルムの製造方法。
13. 構造単位（ａ）及び／又は構造単位（ｂ）を含む溶液を平滑な面にキャストして溶剤を留去することによって成膜化することを含む請求項１１又は１２記載の光学フィルムの製造方法。
14. 請求項９又は１０記載の光学フィルムからなる位相差板。