JP2016516670A5

JP2016516670A5 -

Info

Publication number: JP2016516670A5
Application number: JP2015559311A
Authority: JP
Filing date: 2014-02-27
Publication date: 2017-03-23
Anticipated expiration: 2034-02-27

Claims

式Ｉの化合物の調製方法であって、
（ａ）式（２）の化合物を塩基および銅触媒の存在下で、２−ヒドラジニルエタノールと反応させて、式（３）の化合物を提供することであって、
ここでＸは、ＢｒまたはＩである、ことと、
ならびに
（ｂ）式Ｉの前記化合物を提供するように、アンモニアおよび水素の存在下で、ラネーニッケル触媒で化合物（３）を処理することにより化合物（３）のニトリル基を還元することと、を含む、方法。
式（２）の前記化合物が以下の工程によって調製される、請求項１に記載の方法であって、
（ａ１）式（１）の化合物を塩基の存在下で２，５−ジフルオロベンゾニトリルと反応させて、式（２）の前記化合物を提供することであって、
ここで、Ｘは、ＢｒまたはＩである、ことを含む、方法。
約２当量の２，５−ジフルオロベンゾニトリルを使用する、請求項２に記載の方法。
ステップ（ａ１）の前記塩基が、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属重炭酸塩である、請求項２または３の方法。
約１．０５〜約１．２当量の２−ヒドラジニルエタノールを使用する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
ステップ（ａ）の前記塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコキシド、またはアルカリ金属水酸化物である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
前記銅触媒はＣｕＣＯ_３・Ｃｕ（ＯＨ）_２、ＣｕＩ、ＣｕＯ、ＣｕＢｒ_２、ＣｕＣＯ_３、ＣｕＣｌまたはＣｕ_２Ｏである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
前記銅触媒はＣｕＣＯ_３・Ｃｕ（ＯＨ）_２である、請求項７に記載の方法。
反応はジアミン配位子の非存在下で行われる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
約０．２０〜０．２５当量の前記銅触媒を使用する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
前記ラネーニッケル触媒は、ＲａｎｅｙＮｉ−ＭＣ７００またはＲａｎｅｙＮｉ−ＭＣ７０３である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
前記生成物は、ＨＰＬＣにより、０．１０ａ％未満の不純物（２，２’−（５，５’−（（（アザンジイルビス（メチレン））ビス（４−フルオロ−２，１−フェニレン））ビス（オキシ））ビス（１Ｈ−インダゾール−５，１−ジイル））ジエタノール）を含有する、請求項１１に記載の方法。
前記生成物は、ＨＰＬＣにより、０．１０ａ％未満の不純物２，２’−（５，５’−（（（１，２−ジアミノエタン−１，２−ジイル）ビス（４−フルオロ−２，１−フェニレン））ビス（オキシ））ビス（１Ｈ−インダゾール−５，１−ジイル））ジエタノール）を含有する、請求項１１に記載の方法。
前記生成物は、ＨＰＬＣにより、０．１０ａ％未満の不純物２−（５−（２−（アミノメチル）フェノキシ）−１Ｈ−インダゾール−１−イル）エタノール）を含有する、請求項１１に記載の方法。
前記生成物は、ＨＰＬＣにより、０．１０ａ％未満の不純物２−（５−（４−フルオロ−２−（ヒドロキシメチル）フェノキシ）−１Ｈ−インダゾール−１−イル）エタノール）を含有する、請求項１１に記載の方法。
以下の式を有する化合物（Ａ）の調製方法であって、
（ａ）式（２）の化合物を塩基および銅触媒の存在下で２−ヒドラジニルエタノールと反応させて、式（３）の化合物を提供することであって、
ここで、Ｘは、ＢｒまたはＩである、ことと、
（ｂ）式Ｉの化合物を提供するように、アンモニアおよび水素の存在下で、ラネーニッケル触媒で化合物（３）を処理することにより化合物（３）のニトリル基を還元することと、
（ｃ）式Ｉの前記化合物を式（４）の化合物と結合させて、前記化合物（Ａ）を提供することであって、
ここでＺは脱離基を表す、ことと、ならびに
（ｄ）一塩酸塩として化合物Ａを単離するために、ＨＣｌでステップ（ｄ）の前記生成物を処理してもよいことと、を含む、方法。
式（２）の前記化合物が以下の工程によって調製される、請求項１６に記載の方法であって、
（ａ１）式（１）の化合物を塩基の存在下で２，５−ジフルオロベンゾニトリルと反応させて、式（２）の前記化合物を提供することであって、
ここで、Ｘは、ＢｒまたはＩである、ことを含む、方法。
約２当量の２，５−ジフルオロベンゾニトリルを使用する、請求項１７に記載の方法。
ステップ（ａ１）の前記塩基はアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属重炭酸塩である、請求項１７または１８に記載の方法。
約１．０５〜約１．２当量の２−ヒドラジニルエタノールを使用する、請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の方法。
ステップ（ａ）の前記塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコキシド、またはアルカリ金属水酸化物である、請求項１６〜２０のいずれか１項に記載の方法。
前記銅触媒はＣｕＣＯ_３・Ｃｕ（ＯＨ）_２、ＣｕＩ、ＣｕＯ、ＣｕＢｒ_２、ＣｕＣＯ_３、ＣｕＣｌまたはＣｕ_２Ｏである、請求項１６〜２１のいずれか１項に記載の方法。
前記銅触媒がＣｕＣＯ_３・Ｃｕ（ＯＨ）_２である、請求項２２に記載の方法。
ステップ（ａ）は、ジアミン配位子の非存在下で実施される、請求項１６〜２３のいずれか１項に記載の方法。
約０．２０〜０．２５当量の前記銅触媒を使用する、請求項１６〜２４のいずれか１項に記載の方法。
前記ラネーニッケル触媒は、ＲａｎｅｙＮｉ−ＭＣ７００またはＲａｎｅｙＮｉ−ＭＣ７０３である、請求項１６〜２５のいずれか１項に記載の方法。
Ｚで表される脱離基は、ハロ（１−６Ｃ）アルコキシ基、アルケニルオキシ基、またはアリールオキシ基であり、アリール部分は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、およびＮＯ_２から独立して選択される１つ以上の基で置換されていてもよい、請求項１６〜２６のいずれか１項に記載の方法。