JP2016513254A5

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Publication number: JP2016513254A5
Application number: JP2015558111A
Authority: JP
Filing date: 2014-02-12
Publication date: 2017-03-16
Anticipated expiration: 2034-02-12

Claims

閉じ込めチューブを有する誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチにエアロゾル試料を噴射するための噴射器であって、
流体入力ポートと、前記流体入力ポートと流体連通する流体噴射端とを有する外側管を備え、
前記流体入力ポートは、流体を含む第１の材料流れを受け入れるように構成され、
前記外側管は、前記流体入力ポートから前記第１の材料流れを前記流体噴射端に移送して前記流体を前記流体噴射端から前記閉じ込めチューブに噴射できるように構成されており、
前記外側管の内部に配置され、試料受入端と試料噴射端とを有する移送管を備え、
前記試料受入端は、エアロゾルを含む第２の材料流れを受け入れるように構成され、
前記移送管は、前記試料受入端から前記第２の材料流れを前記試料噴射端に移送して前記エアロゾルを前記試料噴射端から前記閉じ込めチューブに噴射できるように構成されており、
前記移送管は、前記外側管と同軸であり、
材料流れを移送するように構成された２つだけの同軸管を備える、
噴射器。
前記試料噴射端は前記外側管の外側に位置している、請求項１の噴射器。
前記試料噴射端は前記外側管内に位置する、請求項１の噴射器。
前記外側管は、前記流体噴射端から噴射軸に沿って延び、前記移送管は、前記試料噴射端から前記噴射軸に沿って延びる、請求項１から３のいずれか一項の噴射器。
前記外側管及び前記移送管は同軸である、請求項２から４のいずれかの噴射器。
前記試料噴射端は、１mmよりも大きな範囲の距離だけ前記流体噴射端を超えて延びる、請求項２から５のいずれかの噴射器。
前記移送管の内部空間と流体連通し、粒子を前記移送管の前記内部空間に移送するように構成された液滴生成器をさらに備える、請求項１から６のいずれかの噴射器。
前記液滴生成器と前記移送管との間に連結される脱溶媒ユニットをさらに備える、請求項７の噴射器。
前記流体噴射端は、1.5mmから３mmの範囲の内径を有する、請求項１の噴射器。
前記試料受入端の内径は前記試料噴射端の内径と等しい、請求項１の噴射器。
前記外側管は、前記流体噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記移送管は、前記試料噴射端から前記噴射軸に沿って延び、
前記噴射軸に沿って測定したときの前記流体噴射端と前記試料噴射端との間の距離は０mmから20mmの範囲にある、
請求項１の噴射器。
前記噴射軸に沿って測定したときの前記流体噴射端と前記試料噴射端との間の前記距離は０mmから15mmの範囲にある、請求項11の噴射器。
前記噴射器は、前記外側管及び前記移送管それぞれにより移送される前記第１及び第２の材料流れを加熱するように構成されたヒータを含んでいない、請求項１の噴射器。
前記移送管は、前記試料噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記外側管の一部は、前記流体噴射端から前記噴射軸に沿って延び、
前記流体入力ポートは、前記噴射軸とは異なる軸に沿って前記第２の材料流れを前記外側管の前記一部に移送するように構成されている、
請求項１の噴射器。
前記移送管は、前記試料噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記外側管は、その内部で前記第１の材料流れを前記噴射軸に沿って移送可能な空間を規定する内面を含み、
前記外側管は、さらに壁を含み、
前記外側管の内面は、前記流体噴射端と前記壁との間で前記噴射軸に沿って延び、
前記壁は、前記移送管が前記外側管の内部に配置されるように前記移送管を挿入できる開口を含み、
請求項１の噴射器。
前記壁と前記移送管との間に介在する管ガイドをさらに備える、請求項15の噴射器。
前記管ガイドは、前記内面から離間している、請求項16の噴射器。
前記試料噴射端は、0.5mm以上の内径を有する、請求項１の噴射器。
前記試料噴射端は、１mm以上の内径を有する、請求項18の噴射器。
その閉じ込めチューブ内にプラズマを生成するように構成されたプラズマトーチに近接して配置されるように構成された噴射器を備え、
前記噴射器は、
流体噴射端を有する外側管であって、流体の外側噴射器流れを前記流体噴射端に移送して前記流体を前記流体噴射端から前記閉じ込めチューブに噴射できるように構成された外側管と、
前記流体噴射端で前記外側管の内部に配置され、試料噴射端を有する移送管であって、前記試料噴射端を介して材料を含むキャリア流れを噴射できるように構成された移送管と
を備え、
前記外側管は、前記閉じ込めチューブ内に、比較的激しい乱流の流体流れを含む第１のゾーンと、比較的弱い乱流の流体流れを含む第２のゾーンとを生成するように構成され、
前記第１のゾーンは前記第２のゾーンよりも前記流体噴射端に近く、
前記試料噴射端は、前記第２のゾーン内に位置し、
前記移送管は、前記試料噴射端から前記材料を含むキャリア流れを前記第２のゾーンに噴射できるように構成されている、
装置。
前記プラズマトーチをさらに含む、請求項20の装置。
前記プラズマトーチは、前記閉じ込めチューブを有する誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）トーチである、請求項21の装置。
第１の管と該第１の管の内部に配置された第２の管とを有する噴射器をプラズマトーチに挿入し、
内部にプラズマを生成可能な前記プラズマトーチにより規定される空間に前記第１の管の噴射端から第１の材料流れを噴射し、
前記空間に前記第２の管の噴射端からエアロゾルを含む第２の材料流れを噴射する、
方法。
前記第２の管は、前記第１の管と同軸である、請求項23の方法。
前記第１の材料流れはガスを含む、請求項23の方法。
前記ガスはアルゴン（Ar）を含む、請求項25の方法。
さらに、ターゲット材料のレーザアブレーションにより前記エアロゾルを生成する、請求項23の方法。
さらに、
前記第２の管の外側で前記生成されたエアロゾルを捕捉し、
前記捕捉されたエアロゾルを前記第２の管に移送する、
請求項27の方法。