JP4095646B2 - 元素分析装置 - Google Patents
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Description
そして、高周波誘導結合型プラズマ質量分析法は高周波誘導結合型プラズマ発光分析法よりも3桁以上も感度が高く、ppt以下の濃度の元素分析が可能である。
また、高周波誘導結合型プラズマトーチを用いた分析法においても、検出方法を分光器からさらに高感度の質量分析器を採用した高周波誘導結合型プラズマ質量分析に変遷することにより、高周波誘導結合型プラズマ発光分析のppbよりも3桁低いpptの感度を実現することができた。
一方、試料導入系についても、超音波ネブライザや脱溶媒型ネブライザの開発によって試料導入の効率化が図られ、通常型のネブライザより1桁から2桁程度感度が向上することが知られている。
ここで、その分析精度は、トーチで発生させるプラズマ炎の形状により大きく影響される。そして、トーチ内の試料気流の制御によって高温炎(プラズマ炎)の形状が左右されるにもかかわらず、従来では、試料気流の制御については単に圧力と流量とを制御するだけである。
高周波誘導結合型プラズマ発光分析,高周波誘導結合型プラズマ質量分析を例にとると、現在市販されている装置では、加圧されたアルゴンガスを装置の配管に単純に通すだけである。もちろん、減圧弁などによる圧力制御や流量計などによる流量制御は行なわれているが、トーチ内の試料気流自体を制御していない。
このため、従来よりある市販の装置では、試料気流をさらに二重のガス流で包み込む三重構造のプラズマトーチを用い、収束されたプラズマ炎を得る方式を採用しているが、十分に収束されたプラズマ炎が得られていない。したがって、従来では、より高感度,高精度に元素の分析を行うことができないという問題があった。
以上の構成とすることにより、プラズマ室で発生するプラズマ炎は、トーチ先端部の形状に沿って、より収束したものとなる。
このような構成としたことにより、トーチのプラズマ炎が生成される領域では、試料気流がスパイラル気流となりプラズマ炎が収束されるようになる。この結果、この発明によれば、元素の分析を高感度に行うことができるとともに、ゆらぎがほとんどない安定な炎が得られるから、元素の分析を高精度に行うことができる。
図1は、この発明の実施の形態におけるICPを用いた原始吸光分析装置の要部構成を示す概略図である。
図1に示すように、試料導入部1内の試料溶液は、試料管1aを通ってプラズマトーチ2の試料導入管2aに供給される。
この石英製のプラズマトーチ2は3重構造となっており、冷却ガス系2bおよび補助ガス系2cよりArガスが導入され、試料導入管2aを取り巻くようにそれらガスが供給されるようになっている。
ここで、冷却ガス系2bより供給されるArは、プラズマトーチ2の外壁を冷却しながらプラズマ室2dにおいてプラズマ源として消費されている。
このようにして、高周波が印加されArによるプラズマ4が生成しているプラズマ室2d内には、気化した試料溶液が導入される。そして、プラズマ4中に導入された試料は、プラズマにより電離してイオン化する。なお、プラズマトーチ2の外径は20mm、プラズマトーチ2の先端ノズル径dは11mm、トーチ部の絞り角度θは13度である。
そして、プラズマ4中でイオン化した試料の発光スペクトルもしくは光吸収スペクトルを検出器5で検出することで、試料の分析が行える。
この質量分析の場合は、プラズマトーチ2のプラズマ室2dでイオン化されプラズマトーチ2を飛び出した試料を、セパレーター6により磁場をかけてその飛行方向曲げ、ファラデーカップなどからなる検出器7に到達させて検出するようにしている。また、質量分析装置の場合、プラズマトーチ2の外径は20mm、その先端ノズル径は16mm、先端部の絞り角度θは13度である。
また、トーチの出口を単に絞り込んでも収束されたプラズマ炎とならない。このようにトーチの出口を単に絞り込んだだけでは、圧損が増加して静圧を確保できなくなり、ガスが流れにくくなるために生成するプラズマ炎が収束されなくなる。
このグラフは横軸にトーチの中心軸からの半径方向の距離rとトーチ先端のノズル半径Rとの比すなわち相対距離r/Rをとっており、縦軸にトーチの軸方向速度Vzとトーチにおける最大軸方向速度Vzmaxとの比すなわち相対速度Vz/Vzmaxをとっている。また、図3において、上向三角,円,四角,下向三角は、それぞれノズル出口からの軸方向の距離zとノズル径dとの比z/dが、1.25,2.50,3.75,5.00の場合を示す。
この図3から明らかなように、スパイラル気流の場合には、軸方向速度Vzは中心部で大きくなっており、トーチの管壁に向かって急激に軸方向速度Vzが減少するような速度分布を持ち、層流に限りなく近い安定な気流となるから、プラズマ炎は広がらず、収束したプラズマ炎となる。
また、その収束された検出可能な領域の径がプラズマ炎の外径より十分小さければ、その効果は一段と大きくなる。たとえば、プラズマ炎の検出可能な領域の径がプラズマ炎の外径の1/2となれば、不純物濃度は4倍となるから、感度が4倍に向上し、プラズマ炎の検出可能な領域の径がプラズマ炎の外径の1/3となれば、不純物濃度は9倍となるから感度が9倍となり、感度が約1桁向上する。
このときは、トーチのプラズマ室には、27.12MHzの高周波を出力1kW印加し、供給する試料気流は0.55(l/min)とした。また、冷却ガスとしてArを15(l/min)供給し、補助ガスとしてArを0.5(l/min)供給した。
図5に示すように、従来のプラズマトーチでは、プラズマ炎は収束されていないが、図4に示すように、この発明によるプラズマトーチでは、プラズマ炎が収束されている。
また、スパイラル流のプラズマ炎では中心部の流速が速いため、トーチの管壁との相互作用もほとんど起きなくなり、図4に示すように、プラズマ炎がトーチの管壁に直接ふれることがなくなる。このため、トーチを溶融させることがなくなり、また、トーチと試料成分との化学反応による汚染で分析感度や精度を阻害することもなくなる。
たとえば、周波数27.12MHzの高周波出力を1.4kW、冷却ガス流量を12.0(l/min)、補助ガス流量を0.5(l/min)とした条件で、試料気流量を1.0(l/min)としたランタン10ppb溶液を、従来のプラズマトーチを用いて質量分析すると、139Laの強度は、ファラデーカップ(検出器)測定では7.4×1010カウントであった。
また、10回の測定での繰り返し精度は、従来のプラズマトーチを用いた分析では、相対標準偏差が4.04%であるのに対し、この発明のプラズマトーチを用いた分析では相対標準偏差が1.04%となり、精度が格段に向上した。さらに、プラズマ炎がトーチ先端部で包まれる構造となっているので、空気中成分の妨害による感度や精度の低下がさけられる。
図6に示されるように、ICPを用いた31Pの質量分析では、15N16Oや14N16O1Hが妨害イオンとなる。
これが、図7に示すように、この発明のトーチを用いると、31Pの検出ピーク高さが約2倍となる。しかし、妨害イオンである15N16Oや14N16O1Hの検出ピーク高さに変化はない。すなわち、この発明のトーチを用いることにより、相対的に妨害イオンの影響が半減していることがわかる。
Claims (3)
- 分析対象の試料を解離させることで生じた原子を用いて前記試料を分析する元素分析装置において、
周囲に高周波を印加するためのコイルが配置され、前記高周波によりプラズマを生成して前記試料を解離させるプラズマ室を備えたトーチと、
前記プラズマ室に向かって前記試料溶液が吐出される試料供給部と、
プラズマ源となりかつ前記試料供給部より吐出される試料溶液を気化するための補助ガスを前記プラズマ室に向かって前記試料供給部周囲より供給する補助ガス供給部と、
プラズマ源となりかつ前記トーチ壁面を冷却するための主ガスを前記プラズマ室に向かって前記補助ガス供給部周囲より供給する主ガス供給部と、
前記トーチより吐出されたプラズマ中の解離された前記試料の原子の状態を検出する検出器と
を備え、
前記トーチのプラズマ室が配置される先端部は、所定の絞り角度θで先端に行くほど絞られた円錐台形状に形成され、
前記トーチの出口には円筒形状の先端ノズルが設けられ、
前記トーチの外径が20mm、前記絞り角度θが13度、前記先端ノズルの径が11mmまたは16mmである
ことを特徴とする元素分析装置。
- 請求項1に記載の元素分析装置において、
前記検出器は、前記トーチより放出されたプラズマ中の原子の光特性を検出する光検出手段から構成されていることを特徴とする元素分析装置。 - 請求項1に記載の元素分析装置において、
前記検出部は、
前記トーチの前記プラズマが放出される先に配置されたセパレーターと、
前記トーチより放出してそのセパレーターを通過した原子を検出するイオン検出器と
から構成されていることを特徴とする元素分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006274813A JP4095646B2 (ja) | 1995-12-27 | 2006-10-06 | 元素分析装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34034595 | 1995-12-27 | ||
JP2006274813A JP4095646B2 (ja) | 1995-12-27 | 2006-10-06 | 元素分析装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35015196A Division JPH09318542A (ja) | 1995-12-27 | 1996-12-27 | 元素分析方法および元素分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007047185A JP2007047185A (ja) | 2007-02-22 |
JP4095646B2 true JP4095646B2 (ja) | 2008-06-04 |
Family
ID=37850090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006274813A Expired - Lifetime JP4095646B2 (ja) | 1995-12-27 | 2006-10-06 | 元素分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4095646B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6463279B2 (ja) * | 2013-02-14 | 2019-01-30 | エレメンタル サイエンティフィック レーザーズ エルエルシー | 組成分析システムのためのレーザアブレーションセル及びトーチシステム |
US20140227776A1 (en) | 2013-02-14 | 2014-08-14 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser ablation cell and torch system for a compositional analysis system |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2926782B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1999-07-28 | 横河電機株式会社 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JPH0426099A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Hitachi Ltd | 高周波プラズマ用トーチおよび該トーチを用いる元素分析装置 |
JPH053990U (ja) * | 1991-06-27 | 1993-01-22 | 株式会社島津製作所 | 分光的分析装置の試料霧化器 |
JPH0560694A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-12 | Nippon Steel Corp | プラズマ照射溶鋼直接分析装置 |
JPH07185823A (ja) * | 1992-11-27 | 1995-07-25 | Komatsu Ltd | プラズマトーチ |
-
2006
- 2006-10-06 JP JP2006274813A patent/JP4095646B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007047185A (ja) | 2007-02-22 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061016 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061101 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061220 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070227 |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120314 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130314 Year of fee payment: 5 |
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