JP2016512383A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 極端紫外線光源のためのシステムであって、
   位置決めされ、反射した増幅光ビームを受け、前記反射した増幅光ビームを第１、第２、及び第３のチャネルへと誘導する１つ以上の光学要素であって、前記反射した増幅光ビームが、ターゲット材料と相互作用する照射用増幅光ビームの少なくとも一部の反射を含む、光学要素と、
   前記第１のチャネルからの光を感知する第１のセンサと、
   前記第２のチャネル及び前記第３のチャネルからの光を感知し、前記第１のセンサより低い取得率を有する第２のセンサと、
   コンピュータ可読記憶媒体に結合される電子プロセッサであって、前記媒体が、実行されると、前記プロセッサに、
   前記第１のセンサ及び前記第２のセンサからのデータを受信させ、
   前記受信データに基づいて、複数の次元で前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの場所を判定させる、命令を記憶する、電子プロセッサと、
   を備える、システム。
2. 前記媒体がさらに、実行されると、前記プロセッサに、前記判定された場所に基づいて前記照射用増幅光ビームに対する調整を判定させる、命令を記憶し、
   前記判定された調整が、前記照射用増幅光ビームを移動させる複数の次元の距離を含む、請求項１に記載のシステム。
3. 前記プロセッサに前記照射用増幅光ビームの場所を判定させる前記命令が、実行されると、前記プロセッサに、
   前記照射用増幅光ビームの伝播方向に平行な方向で、前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの焦点位置の場所を判定させ、
   前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に垂直な第１の横断方向で、前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの前記焦点位置の場所を判定させる、命令を含み、
   前記命令が、実行されると、前記プロセッサに、前記第１の横断方向に垂直で、前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に垂直な第２の横断方向で、前記照射用増幅光ビームの前記予想焦点位置の場所を判定させる命令をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
4. 前記第３のチャネルに位置決めされ、前記反射した増幅光ビームの波面を修正する非点収差光学要素をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
5. 複数の部分反射性無非点収差光学要素をさらに備え、それぞれが前記第３のチャネルの異なる場所に位置決めされて、それぞれが前記反射した増幅光ビームの少なくとも一部を受け、前記複数の部分反射性光学要素がそれぞれ、前記ターゲット材料と前記第２のセンサの間の異なる長さの経路を辿るビームを形成する、請求項１に記載のシステム。
6. 前記第１、第２、及び第３のチャネルが３つの別個の経路であり、それぞれが前記反射した増幅光ビームの一部を誘導する１つ以上の屈折性又は反射性光学要素によって画定される、請求項１に記載のシステム。
7. 前記反射した増幅光ビームがプリパルスビーム及びドライブビームの反射を含み、前記ドライブビームが、相互作用すると前記ターゲット材料をプラズマに変換する増幅光ビームであり、前記プリパルス及びドライブビームが異なる波長を有し、
   前記システムが、前記プリパルスビーム及び前記ドライブビームのうち一方に対してのみ透明である１つ以上のスペクトルフィルタをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
8. 前記第１のセンサが、前記第１のチャネルから高い取得率で指し示す光を感知し、前記第２のセンサが、光を感知して、前記第２のチャネル及び前記第３のチャネルからの前記光の強度分布を測定する２次元撮像センサを備え、
   前記命令が、実行されると、前記プロセッサに、前記受信したデータに基づいて前記照射用増幅光ビームの場所を判定させ、かつ、複数の次元で前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの焦点位置を判定させる、請求項１に記載のシステム。
9. ターゲット材料に対して照射用増幅光ビームを位置合わせする方法であって、
   反射した増幅光ビームの第１、第２、及び第３の測定値にアクセスすることであって、前記第１の測定値が、第１のセンサから得られ、前記第２及び第３の測定値が、前記第１のセンサより低い取得率を有する第２のセンサから得られ、前記反射した増幅光ビームが、ターゲット材料からの前記照射用増幅光ビームの反射であることと、
   前記第１の測定値に基づいて、前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に垂直な方向で、前記ターゲット材料に対する前記増幅光ビームの第１の場所を判定することと、
   前記第２の測定値に基づいて、前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に垂直な方向で、前記ターゲット材料に対する前記増幅光ビームの第２の場所を判定することと、
   前記第３の測定値に基づいて、前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に平行な方向で、前記ターゲット材料に対する前記増幅光ビームの焦点位置の場所を判定することと、
   前記第１の場所、前記第２の場所、又は前記焦点位置の前記場所のうち１つ以上に基づいて、前記ターゲット材料に対して前記照射用増幅光ビームの位置変更をし、前記ターゲット材料に対して前記照射用増幅光ビームを位置合わせすることと、
   を含む、方法。
10. 照射用増幅光ビームを生成する光源と、
    真空チャンバ内で前記照射用増幅光ビームを操縦してターゲット材料に集束させるステアリングシステムと、
    ビーム位置決めシステムであって、
    位置決めされ、前記ターゲット材料から反射した反射増幅光ビームを受け、前記反射増幅光ビームを第１、第２、及び第３のチャネル内に誘導する１つ以上の光学要素と、
    前記第１のチャネルからの光を感知する第１のセンサと、
    前記第２のチャネル及び前記第３のチャネルからの光を感知する２次元撮像センサを備え、前記第１のセンサより低い取得率を有する第２のセンサと、
    を備えるビーム位置決めシステムと、
    コンピュータ可読記憶媒体と結合する電子プロセッサであって、前記媒体が、実行されると、前記プロセッサに、
    前記第１のセンサ及び前記第２のセンサからデータを受信させ、
    前記受信したデータに基づき、複数の次元で前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの場所を判定させる、命令を記憶する、電子プロセッサと、
    を備える、極端紫外線システム。
11. 前記媒体が、実行されると、前記プロセッサに、前記判定された場所に基づいて前記照射用増幅光ビームの前記場所に対する調整を判定させる、命令をさらに記憶し、
    前記判定された調整が、複数の次元での調整を含み、
    前記プロセッサに、前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの場所を判定させる前記命令が、実行されると、前記プロセッサに、
    前記照射用増幅光ビームの伝播方向に平行な方向で、前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの焦点の場所を判定させ、
    それぞれが前記照射用増幅光ビームの前記伝播方向に垂直な第１及び第２の横断方向で、前記ターゲット材料に対する前記照射用増幅光ビームの焦点の場所を判定させる、命令を含む、請求項１０に記載のシステム。
12. 前記命令がさらに、実行されると、前記プロセッサに、
    前記増幅光ビームの前記判定された場所に基づいて、前記増幅光ビームに対する調整を判定させ、
    前記発生させた出力を前記ステアリングシステムに提供させる、
    命令を含む、請求項１０に記載のシステム。