JP2016509342A - Oled照明デバイス製造方法及び装置 - Google Patents
Oled照明デバイス製造方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016509342A JP2016509342A JP2015552734A JP2015552734A JP2016509342A JP 2016509342 A JP2016509342 A JP 2016509342A JP 2015552734 A JP2015552734 A JP 2015552734A JP 2015552734 A JP2015552734 A JP 2015552734A JP 2016509342 A JP2016509342 A JP 2016509342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- organic material
- vaporized
- plume
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 258
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 179
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 112
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 77
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 43
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 13
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 4
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 44
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 29
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- -1 for example Chemical compound 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- GENZLHCFIPDZNJ-UHFFFAOYSA-N [In+3].[O-2].[Mg+2] Chemical compound [In+3].[O-2].[Mg+2] GENZLHCFIPDZNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- USPVIMZDBBWXGM-UHFFFAOYSA-N nickel;oxotungsten Chemical compound [Ni].[W]=O USPVIMZDBBWXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 235000021018 plums Nutrition 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
- H10K71/441—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour in the presence of solvent vapors, e.g. solvent vapour annealing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
本願は、2013年1月8日付米国特許出願第13/736870号の一部継続出願である。
1.分野
本発明は、有機発光デバイス(OLED)及びその照明への利用の分野、特にそうしたデバイスの作成方法及び装置に関する。より具体的には、本発明は、OLEDを作成すべく基板表面の諸領域内に各種素材層を成長させる装置及び除去可能マスク、並びにそれを使用する方法に関する。
近年、OLEDデバイスの分野が多大な注目を集めている。この種のデバイスによれば、例えばテレビジョン、スマートフォンその他の表示重視型装置内で鮮明且つ明澄なディスプレイとしてOLEDを使用することができる。OLEDが期待されているもう一つの分野は照明の分野である。OLEDパネルは、大面積照明例えばオーバヘッド照明の代わりに使用できそうである。そうしたOLED照明の長所は、比較的省電力な条件でパネルを発光させること及び副産物たる熱を抑えることができ、電力使用量が減ることにある。この種のパネルなら、寿命延長を通じ、定期的ランプ交換の必要性を抑えられる可能性もある。OLED照明は、必要に応じ照明レベルを変えられるよう可調にすることもできる。
Claims (19)
- OLED照明デバイスの有機素材層1個又は複数個を基板の第1領域上に成長(deposit)させ、且つそのOLED照明デバイスの導電層1個又は複数個を第2領域上に成長させる装置であって、上記1個又は複数個の導電層が、上記1個又は複数個の有機層を部分的に又は完全に覆い更に当該有機層の一辺を超えて延びる装置において、
a)1個又は複数個の開口エリアを有し、基板に接触するよう配置及び保持されているが基板に接合されていない再使用可能なマスクであり、少なくとも1個のマスク開口エリアの一縁が、オーバハング構造(overhang feature)を呈するように構成されているマスクと、
b)蒸気(vapor)の総フラックスのうち90%を含み蒸気プリューム中心線を取り巻いている領域がその固有(intrinsic)カットオフ角により画定されるよう、固有カットオフ角を伴う選定(selected)固有プリューム形状を有する気化(vaporized)有機素材をもたらす1個又は複数個の気化有機素材プリューム源であり、上記一種類又は複数種類の有機素材が、OLED照明デバイスの層1個又は複数個の層を基板上に形成するよう選定されており、且つ上記気化有機素材プリュームが、同側で基板の第1領域に対する有機素材の実質的な輸送が選定カットオフ角以下の角に制限されるよう、上記プリュームから見てマスク開口エリアのオーバハング構造に対応する側でシェーピングされるものであり、上記角が、基板表面に対する垂線を基準としたものである気化有機素材プリューム源と、
c)基板の第2領域へと導電素材を輸送し、気化有機素材のそれとほぼ同じ固有カットオフ角を伴うほぼ同じ固有プリューム形状を有する気化導電素材をもたらす1個又は複数個の気化導電素材プリューム源であり、その第2領域が、第1領域に部分的に又は完全に重なり、更に第1領域から見てマスクのオーバハング構造に対応する側にて第1領域を超え延びる気化導電素材プリューム源と、
を備える装置。 - 請求項1記載の装置であって、上記1個又は複数個の気化有機素材源及び上記1個又は複数個の気化導電素材源が真空熱蒸着装置である装置。
- 請求項2記載の装置であって、上記1個又は複数個の気化有機素材源及び上記1個又は複数個の気化導電素材源が60°超の固有カットオフ角を有し、更に、気化有機素材源(群)と基板及びマスクとの間に、上記有機素材プリュームから見てマスク開口エリアのオーバハング構造に対応する側に配置された1個又は複数個のシールドを備え、同側にて基板の第1領域に対する気化有機素材の実質的な輸送が選定カットオフ角以下の角に制限されるよう、そのシールドにより上記有機素材蒸気プリュームがシェーピングされる装置。
- 請求項2記載の装置であって、上記1個又は複数個の気化有機素材源及び上記1個又は複数個の気化導電素材源が30°〜60°の固有カットオフ角を有し、その気化有機素材源が基板及びマスクに対し第1姿勢(orientation)をとっており、その第1姿勢が、上記有機素材蒸気プリュームがシェーピングされるよう、ひいては上記有機素材プリュームから見てマスク開口エリアのオーバハング構造に対応する側にて基板の第1領域に対する気化有機素材の実質的な輸送が選定カットオフ角以下の角に制限されるように選定されており、且つ上記気化導電素材源が基板及びマスクに対し第2姿勢をとっており、その第2姿勢が、基板の第2領域に気化導電素材をもたらしうるよう選定されている装置。
- 請求項1記載の装置であって、選定カットオフ角が、基板の表面に対する垂線に対し30°〜60°である装置。
- 請求項1記載の装置であって、選定カットオフ角が、基板の表面に対する垂線に対し40°〜50°である装置。
- 請求項1記載の装置であって、更に、上記気化素材源と基板及びマスクとの間に相対運動をもたらすことを含む装置。
- 請求項1記載の装置であって、上記再使用可能なマスクが2個以上の個別マスクを有し、オーバハング構造がもたらされるよう、それら個別マスクそれぞれの少なくとも1個の開口エリアの一縁がずらされている装置。
- 請求項8記載の装置であって、上記再使用可能なマスクが下マスク及び上マスクを有し、オーバハング構造がもたらされるよう、それら上及び下マスクの少なくとも1個の開口エリアの一縁がずらされている装置。
- 請求項1記載の装置であって、上記再使用可能なマスクが単一のマスクを有し、オーバハング構造がもたらされるよう、そのマスクの少なくとも1個の開口エリアの一縁が構成されている装置。
- 請求項1記載の装置であって、オーバハング構造が、基板の上方にあり且つ50〜1000μmの距離を以て基板から隔てられている装置。
- 請求項11記載の装置であって、オーバハング構造が、基板の上方にあり且つ100〜300μmの距離を以て基板から隔てられている装置。
- OLED照明デバイスの有機素材層1個又は複数個を基板の第1領域上に成長(deposit)させ、且つそのOLED照明デバイスの導電層1個又は複数個を第2領域上に成長させる方法であって、上記1個又は複数個の導電層が、上記1個又は複数個の有機層を部分的に又は完全に覆い更に当該有機層の一辺を超えて延びる方法において、
a)OLED照明デバイスでの使用に適した基板を準備するステップと、
b)再使用可能なマスクを基板に接触するよう配置しそのマスクの位置を保持するステップであり、そのマスクが1個又は複数個のマスク開口エリアを有し、少なくとも1個のマスク開口エリアの一縁がオーバハング構造(overhang feature)を有するステップと、
c)固有(intrinsic)プリューム形状を有する気化(vaporized)有機素材プリュームに対しマスク及び基板を露出させ、且つマスクのオーバハング構造に対応する側にて有機素材の実質的な輸送が選定(selected)カットオフ角以下の角に制限されるようそのプリュームをシェーピングすることによって、基板の第1領域上に有機素材を堆積(deposit)させるステップと、
d)気化有機素材のそれとほぼ同じ固有プリューム形状を有する気化導電素材プリュームに対しそれらマスク及び基板を更に露出させることによって基板の第2領域に導電素材を堆積させるステップであり、その第2領域が、第1領域を部分的に又は完全に覆い更に第1領域から見てマスクのオーバハング構造に対応する側にてその第1領域を超え延びるステップと、
e)マスクを基板から取り払うステップと、
を有する方法。 - 請求項13記載の方法であって、マスク及び基板を複数種類の有機素材に対し順次露出させることによって複数個の有機層を成長させる方法。
- 請求項13記載の方法であって、上記導電素材が、基板の第2領域内に第1領域を超え配置されている接触部への電気接続を形成する方法。
- 請求項13記載の方法によって作成されたOLED照明デバイス。
- 請求項16記載のOLED照明デバイスであって、直列接続された素子群を有するOLED照明デバイス。
- 請求項13記載の方法であって、気化有機素材プリューム及び気化導電素材プリュームが広角な分布を有する方法。
- 請求項13記載の方法であって、気化有機素材プリューム及び気化導電素材プリュームが挟角な分布を有する方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/736,870 US20140191200A1 (en) | 2013-01-08 | 2013-01-08 | Apparatus and Method for Making OLED Lighting Device |
US13/736,870 | 2013-01-08 | ||
US13/848,510 | 2013-03-21 | ||
US13/848,510 US9142777B2 (en) | 2013-01-08 | 2013-03-21 | Apparatus and method for making OLED lighting device |
PCT/US2014/010591 WO2014110073A1 (en) | 2013-01-08 | 2014-01-08 | Apparatus and method for making oled lighting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016509342A true JP2016509342A (ja) | 2016-03-24 |
JP6186447B2 JP6186447B2 (ja) | 2017-08-23 |
Family
ID=51060309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015552734A Active JP6186447B2 (ja) | 2013-01-08 | 2014-01-08 | Oled照明デバイス製造方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9142777B2 (ja) |
EP (1) | EP2943989B1 (ja) |
JP (1) | JP6186447B2 (ja) |
KR (1) | KR102121087B1 (ja) |
CN (1) | CN104956509B (ja) |
WO (1) | WO2014110073A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150031819A (ko) * | 2013-09-17 | 2015-03-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착방법 및 그를 이용한 유기전계발광 표시장치의 제조방법 |
CN103882375B (zh) * | 2014-03-12 | 2016-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制作方法 |
RU2729687C2 (ru) * | 2015-11-12 | 2020-08-11 | Эрликон Метко Аг, Волен | Способ маскирования детали, на которую должно быть нанесено термически напыляемое покрытие |
CN105870327A (zh) * | 2016-06-17 | 2016-08-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 柔性oled的制作方法及柔性oled |
KR102003974B1 (ko) | 2017-05-23 | 2019-07-26 | 한국생산기술연구원 | 유기반도체의 용액공정에 적용되는 선택적 박막 형성 방법, 이에 사용되는 도포방지 필름 및 용액공정을 적용한 oled 조명의 제조방법 |
JP6912670B2 (ja) | 2018-01-25 | 2021-08-04 | オーレッドワークス エルエルシー | マスクなしのoled堆積及び製造のための方法 |
CN108726474A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-11-02 | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 | 一种制作三维电极图形的辅助装置 |
DE102018133062A1 (de) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Optics Balzers Ag | Verfahren zur Herstellung eines linear variablen optischen Filters |
CN110581225B (zh) * | 2019-08-22 | 2021-09-07 | 湖畔光电科技(江苏)有限公司 | 一种oled结构及其制作方法 |
CN110699671B (zh) * | 2019-10-21 | 2022-05-20 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 镀膜夹具及其应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10223376A (ja) * | 1997-02-10 | 1998-08-21 | Tdk Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5641611A (en) | 1995-08-21 | 1997-06-24 | Motorola | Method of fabricating organic LED matrices |
JPH10319870A (ja) | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Nec Corp | シャドウマスク及びこれを用いたカラー薄膜el表示装置の製造方法 |
US6013538A (en) | 1997-11-24 | 2000-01-11 | The Trustees Of Princeton University | Method of fabricating and patterning OLEDs |
US5953587A (en) | 1997-11-24 | 1999-09-14 | The Trustees Of Princeton University | Method for deposition and patterning of organic thin film |
JP4053209B2 (ja) | 2000-05-01 | 2008-02-27 | 三星エスディアイ株式会社 | 有機elディスプレイの製造方法 |
US6867539B1 (en) * | 2000-07-12 | 2005-03-15 | 3M Innovative Properties Company | Encapsulated organic electronic devices and method for making same |
US6513451B2 (en) * | 2001-04-20 | 2003-02-04 | Eastman Kodak Company | Controlling the thickness of an organic layer in an organic light-emiting device |
TWI336905B (en) * | 2002-05-17 | 2011-02-01 | Semiconductor Energy Lab | Evaporation method, evaporation device and method of fabricating light emitting device |
KR100525819B1 (ko) | 2003-05-06 | 2005-11-03 | 엘지전자 주식회사 | 유기 이엘 디스플레이 패널 제조용 새도우 마스크 |
JP2007095324A (ja) | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示パネルの製造方法、及びこの製造方法により製造した有機el表示パネル |
DE102005054609B4 (de) * | 2005-11-09 | 2010-10-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von Licht emittierenden Elementen mit organischen Verbindungen |
EP2404336A2 (en) | 2009-03-05 | 2012-01-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Oleds connected in series |
US9458532B2 (en) * | 2009-09-15 | 2016-10-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition method and vapor deposition apparatus |
KR101558519B1 (ko) | 2010-09-15 | 2015-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기물 증착 장치 및 증착 방법 |
-
2013
- 2013-03-21 US US13/848,510 patent/US9142777B2/en active Active
-
2014
- 2014-01-08 CN CN201480004259.1A patent/CN104956509B/zh active Active
- 2014-01-08 JP JP2015552734A patent/JP6186447B2/ja active Active
- 2014-01-08 KR KR1020157018166A patent/KR102121087B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-08 EP EP14738077.8A patent/EP2943989B1/en active Active
- 2014-01-08 WO PCT/US2014/010591 patent/WO2014110073A1/en active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10223376A (ja) * | 1997-02-10 | 1998-08-21 | Tdk Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102121087B1 (ko) | 2020-06-09 |
US20140191201A1 (en) | 2014-07-10 |
EP2943989A4 (en) | 2016-10-19 |
WO2014110073A1 (en) | 2014-07-17 |
JP6186447B2 (ja) | 2017-08-23 |
CN104956509A (zh) | 2015-09-30 |
KR20150104567A (ko) | 2015-09-15 |
CN104956509B (zh) | 2017-07-04 |
EP2943989A1 (en) | 2015-11-18 |
US9142777B2 (en) | 2015-09-22 |
EP2943989B1 (en) | 2019-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6186447B2 (ja) | Oled照明デバイス製造方法及び装置 | |
CN110301053B (zh) | 包括设置在发射区域上面的导电涂层的器件及其方法 | |
US11997864B2 (en) | Device including patterning a conductive coating | |
JP4455937B2 (ja) | 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法 | |
KR101097311B1 (ko) | 유기 발광 디스플레이 장치 및 이를 제조하기 위한 유기막 증착 장치 | |
US8962383B2 (en) | Multi-nozzle organic vapor jet printing | |
JP4909152B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
JP2022121593A (ja) | パターン化コーティングにわたって伝導性コーティングを選択的に堆積させるための方法および伝導性コーティングを含むデバイス | |
US20160149135A1 (en) | Vapor deposition particle projection device and vapor deposition device | |
KR20220150987A (ko) | 표면 상에 코팅을 패턴화하는 방법 및 패턴화된 코팅을 포함하는 디바이스 | |
JP2007227086A (ja) | 成膜装置および発光素子の製造方法 | |
JPH10298738A (ja) | シャドウマスク及び蒸着方法 | |
US10103348B2 (en) | OLED, method for manufacturing the same, and OLED display device | |
KR20100133678A (ko) | 박막 증착 장치 | |
KR20120029895A (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 | |
JP3197439U (ja) | 有機発光ダイオード(oled)製造用セラミックマスク | |
US20170016117A1 (en) | Scalable triode pecvd source and system | |
US20180209039A1 (en) | Vapor deposition method and vapor deposition device | |
US20180212103A1 (en) | Light Emitting Element and Fabrication Method Thereof | |
KR102216676B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법 | |
JP5557653B2 (ja) | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 | |
US20140191200A1 (en) | Apparatus and Method for Making OLED Lighting Device | |
KR20150113742A (ko) | 증발원 및 이를 포함하는 증착장치 | |
TW201324888A (zh) | 有機發光二極體與其所組成之有機發光二極體顯示器 | |
KR101604495B1 (ko) | 유기발광다이오드 표시장치 및 이를 제조하는 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161104 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170725 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170731 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6186447 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |