JP2016503382A - 追加金属を有する亜鉛酸化物含有層を含む低放射率コーティングを有する被覆製品 - Google Patents
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Abstract
被覆製品は、基板（例えば、ガラス基板）によって支持される低放射率（低Ｅ）コーティングなどのコーティングを含む。コーティングは、他の金属でドープされた亜鉛酸化物を含む少なくとも１つの誘電体層を含む。コーティングは、少なくとも一部の赤外線（ＩＲ）照射を反射させるために銀などの材料又はこれを含む１つ以上のＩＲ反射層を含んでもよい。特定の例示的な実施形態において、被覆製品は、熱処理（例えば、焼き戻し処理、熱曲げ、及び／又は熱強化）されてもよい。本発明の特定の例示的な実施形態に従う被覆製品は、建物の一体型窓、建物のＩＧ窓などを含む、窓に関連して用いてもよい。【選択図】図１
Description
本発明の実施例の実施形態は、基板（例えば、ガラス基板）によって支持される低放射率コーティング（Ｌｏｗ−ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ ｃｏａｔｉｎｇ）などのコーティングを含む被覆製品に関する。コーティングは、他の金属でドープされた亜鉛酸化物を含む少なくとも１つの誘電体層を含む。コーティングは、少なくとも一部の赤外線（ＩＲ）照射を反射させるために銀などの材料又はこれを含む１つ以上のＩＲ反射層を含んでもよい。特定の例示的な実施形態において、被覆製品は、熱処理（例えば、焼き戻し処理（ｔｈｅｒｍａｌ ｔｅｍｐｅｒｉｎｇ）、熱曲げ（ｈｅａｔ ｂｅｎｄｉｎｇ）、及び／又は熱強化（ｈｅａｔ ｓｔｒｅｎｇｔｈｅｎｉｎｇ））されてもよい。本発明の特定の例示的な実施形態に従う被覆製品は、建物の一体型窓、建物のＩＧ窓、車両の窓を含む、窓に関連して、かつ／又は任意のその他の適切な用途に用いてもよい。
当該分野において、断熱ガラス（ＩＧ）窓ユニット、車両の窓など窓の用途に用いられる被覆製品が知られている。特定の例において、焼き戻し、曲げなどの目的のために、このような被覆製品を熱処理（例えば、焼き戻し処理、熱曲げ、及び／又は熱強化）するのが好ましいことが知られている。典型的に、被覆製品の熱処理（ＨＴ）は、少なくとも５８０℃、さらに好ましくは少なくとも約６００℃、より好ましくは少なくとも６２０℃の温度の使用を必要とする。このような高温（例えば、５〜１０分以上）では、しばしばコーティングが破壊され、かつ/又は予測不可能な方法で劣化若しくは変化する。したがって、前記コーティングは、必要に応じて予測可能な方法で熱処理（例えば、焼き戻し処理）に顕著に損傷せずに耐えられることが好ましい。
特定の状況では、被覆製品の設計者は、所望の可視光線透過率、所望の色、低放射率（又は放射力）、及び低シート抵抗（Ｒｓ）の組合せを試みている。このような被覆製品は、低放射率（ｌｏｗ−Ｅ）及び／又は低シート抵抗特徴によってかなりのＩＲ照射を遮断し、例えば、車両又は建物内の好ましくない加熱を減らすことができる。
米国特許第７，５２１，０９６号は、本明細書に参考として含まれ、銀系のＩＲ反射層の下に亜鉛酸化物（ＺｎＯ）接触層を用いて下部の銀（Ａｇ）系ＩＲ反射層の上にＮｉＣｒＯｘ接触層、次に中央にスズ酸化物（ＳｎＯ２）誘電体層を用いる低放射率コーティングを開示する。米国特許第７，５２１，０９６号のコーティングでＳｎＯ２は、熱処理の際に微細結晶質及び応力によりＳｎＯ２、ＺｎＯ及びＡｇの間の界面が粗くなり、耐久性劣化につながって、伝達される色に影響を及ぼしかねないことが分かった。粗い金属含有界面は、特に低い可視スペクトル領域（３８０〜５５０ｎｍ）で全体層スタックで選択的な吸収をもたらす、いわゆる表面プラズモンを開始する傾向がある。これは、予測不可能な光学特性、あまり中間的でない色（ｌｅｓｓ ｎｅｕｔｒａｌ ｃｏｌｏｒ）、低い可視光線透過率及び／又は低いＬＳＧのうちの１つ以上を引き起こす傾向がある。また、スズ酸化物（例えば、ＳｎＯ２）は、加熱時の応力及び結晶質が顕著に変化して、ＺｎＯの構造が劣化され、その上にＡｇが成長することが分かった。また、これは、好ましくない高いΔＥ＊など、コーティングの不良Ａｇ品質及び／又は不良熱安定性につながり得る。
上記の点において、純粋なＳｎＯ２誘電体層に関連する上述した１つ以上の問題を解決する少なくとも１つの誘電体層を含むコーティング（例えば、低放射率コーティング）を有する被覆製品が必要であることが当業者には明白であろう。特定の例示的な実施形態において、亜鉛酸化物（例えば、ＺｎＯ）含有誘電体層内に特定の追加金属が含まれれば、上述した１つ以上の問題を解決できることが分かった。例えば、このようなコーティング内に誘電体層をスパッタ蒸着する場合、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、及びＭｇの金属のうちの１つ以上の金属を亜鉛酸化物に添加することができる。任意の熱処理（ＨＴ）前及び／又は後に誘電体層及び全体コーティングが熱的に安定するようにし、任意の熱処理工程中の応力変化を減少及び／又は遅くするために、三元合金及び／又は二元合金（その酸化物を含む）が亜鉛酸化物含有誘電体層に含まれてもよい。追加金属が含まれるこのような亜鉛酸化物含有誘電体層は、例えば、その他にコーティングに使用することができる１つ以上のスズ酸化物誘電体層を交換するために用いてもよい。追加金属を有する亜鉛酸化物含有誘電体層の構造が無秩序な状態になり、その層及びコーティングはさらに安定化する。材料の構造がさらに無秩序になれば（例えば、ＨＴ時）、より安定するようになることが分かった。本発明の特定の例示的な実施形態において、その他の金属が添加されたこのような亜鉛酸化物含有誘電体層は、任意の好適な低放射率コーティング内で誘電体層として用いることができ、例えば、少なくとも第１ＩＲ反射層と第２ＩＲ反射層との間、ＩＲ反射層の下、及び／又はＩＲ反射層の上である。しかし、コーティング内の全ての誘電体層がこのような材料によって構成される必要はない。特定の例示的な実施形態において、その他の金属が添加された亜鉛酸化物含有誘電体層は、シリコン窒化物（例えば、Ｓｉ３Ｎ４）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、などのような材料で構成されたその他の誘電体層を含むコーティングで用いられてもよい。
本発明の特定の例示的な実施形態において、ガラス基板上に低放射率コーティングを含む被覆製品が提供され、コーティングは、ガラス基板上の誘電体層及びＩＲ反射層を含み、誘電体層は、ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上の酸化物を含む。
同様の参照番号は、本明細書に記載した図面における同様の部分を意味する。図１〜図４の実施形態において、層は、好ましくは本発明の実施例の実施形態でセラミック又は金属ターゲットによってスパッタ蒸着することによって形成される。
本発明の特定の例示的な実施形態に係る被覆製品は、建物の一体型窓、建物用ＩＧ窓、車両の窓を含む、窓に関連して、かつ／又は任意のその他の適切な用途に用いてもよい。
特定の例示的な実施形態において、亜鉛酸化物（例えば、ＺｎＯ）含有誘電体層内に特定の追加金属が含まれれば（図面中の層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上を参照）、純粋なＳｎＯ２誘電体層に関連する上述した問題のうちの１つ以上の問題を解決できることが分かった。例えば、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、及び／又はＭｇのうちの１つ以上の金属が、このようなコーティング内に誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上をスパッタ蒸着する場合、亜鉛酸化物に添加されることができる。追加金属（その酸化物を含む）と共に、亜鉛酸化物は、任意の熱処理（ＨＴ）前及び／又は後で誘電体層及び全体コーティング３０，６０，７０が熱的により安定するようにし、任意の熱処理工程中の応力変化を減少及び／又は遅延させる。例えば、層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、誘電体層及び全体コーティング３０，６０，７０が熱的により安定できるようにするために、ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上の酸化物であってもよく、又はそれらを含んでもよい。追加金属が含まれるこのような亜鉛酸化物含有誘電体層は、好ましくは完全に酸化又は実質的に完全に酸化されてもよく、任意のＨＴ後に非晶質であってもよい。当然、このような三元合金又は二元合金のうちの１つの酸化物は、層（１３，１５，２３、及び／又は４０）の１つ又は２つに対して用いられてもよく、このような三元合金又は二元合金の他の酸化物を層１３，１５，２３，４０のうちの残りに対して用いてもよい。同様に、このような三元合金又は二元合金のうちの１つの酸化物は、誘電体層（１３，１５，２３、及び／又は４０）のうちの１つ又は２つに対して用いてもよく、ＳｎＯ２は、誘電体層（１３，１５，２３、４０）の残りに対して用いてもよい。
追加金属を有する亜鉛酸化物含有誘電体層（例えば、層（１３，１５，２３及び／又は４０）のうちの１つ以上）の構造がＳｎＯ２より無秩序になれば、その層及びコーティングはさらに安定化する。材料の構造体が無秩序になれば、さらに安定化する（例えば、ＨＴ時）ことが分かった。その他の金属が添加されたこのような亜鉛酸化物含有誘電体層は、本発明の特定の例示的な実施形態において、任意の適切な低放射率コーティングにおける誘電体層として用いることができ、例えば、少なくとも第１ＩＲ反射層９と第２ＩＲ反射層１９との間、ＩＲ反射層９，１９の下、及び／又はＩＲ反射層９，１９の上である。本発明の様々な実施形態において、このような層は、単一銀、二重銀、又は、三重銀の低放射率コーティングに用いてもよい。しかし、コーティング内の全ての誘電体層がこのような材料によって構成される必要はない。特定の例示的な実施形態において、その他の金属が添加された亜鉛酸化物含有誘電体層は、図１〜図４に示すように、シリコン窒化物（例えば、Ｓｉ３Ｎ４）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＡｌＯなどのような材料で構成されるその他の誘電体層を含むコーティングに用いられてもよい。追加金属が含まれるこのような１つ以上の亜鉛酸化物含有誘電体層を用いれば、例えば、ガラス側反射率ΔＥ＊の減少などの改善された熱安定性を可能にする。本発明の特定の例示的な実施形態において、ガラス基板１及び低放射率コーティングを含む被覆製品は、ＨＴによってガラス側反射率ΔＥ＊が層にＳｎＯ２だけを用いる場合の反射率より少なくとも０．５又は１．０小さい（さらに好ましくは、少なくとも１．５小さい）。本発明の特定の例示的な実施形態において、ガラス基板１及び低放射率コーティングを含む被覆製品は、ガラス側反射率ΔＥ＊が５．０以下、好ましくは４．５又は４．０以下である。
特定の例示的な実施形態において、追加金属が含まれる亜鉛酸化物含有誘電体層（１３，１５及び／又は４０）は、ＩＲ反射層の品質を改善するために、ＩＲ反射層（９及び／又は１９）を支持する亜鉛酸化物又は亜鉛アルミニウム酸化物シード層（７及び／又は１７）の下に位置し直接接触する（例えば、図１〜図２の層１５、図３の層４０、図４の層１３を参照）。ＺｎＯ又はＺｎＡｌＯ系接触層（７又は１７）の下の層の構造及び熱安定性は、テクスチャ加工されたＺｎＯ成長（００２）及びＡｇ成長（１１１）に関連する。純粋なＳｎＯ２の層は、高い応力などの構造的変化を起こし、例えば、ＨＴ時のコーティングの光及び熱安定性を劣化させる傾向がある。純粋なＳｎＯ２の層は、典型的に、スパッタ蒸着時には非晶質であるが、ＨＴ時には結晶質になる。本明細書に記載した亜鉛酸化物含有誘電体層内に提供される追加金属は、このような構造変化を減らし、ＨＴ前後に層の応力制御を改善して、特定の例示的な実施形態において、層がＨＴ後にも非晶質又は実質的に非晶質の状態になる。これは、低放射率コーティングのパフォーマンスを向上させる。
本発明の特定の例示的な実施形態において（例えば、図１〜図２、及び図４）、コーティングは、二重銀スタックを含むが、本発明の全ての例において、このように限定されるものではない。本発明の例示的な実施形態によれば、低放射率コーティングを有する被覆製品は、シート抵抗（Ｒｓ）が７．０以下（さらに好ましくは５．０以下、より好ましくは４．０又は３．０以下）である（任意のＨＴ前及び／又は後に測定される）。本発明の例示的な実施形態によれば、低放射率コーティングを有する被覆製品は、垂直放射率（Ｅｎ）が約０．０９以下、好ましくは約０．０７以下、最も好ましくは約０．０５又は０．０４以下である（任意のＨＴ前及び／又は後に測定される）。特定の例示的な実施形態において、任意の熱処理（ＨＴ）前及び／又は後に一体型の形態で測定された本発明の例示的な実施形態によれば、被覆製品は、可視光線透過率（Ｉｌｌ．Ｃ、２度）が少なくとも約３０％、好ましくは少なくとも約４０％、さらに好ましくは少なくとも約５０％、場合により少なくとも約６０％である。
本明細書に記載した「熱処理」及び「熱処理する」は、ガラス含有被覆製品の焼き戻し処理、熱曲げ及び／又は熱強化を得るために十分な温度まで製品を加熱することを意味する。この定義は、焼き戻し、曲げ及び／又は熱強化を得るために、例えば、少なくとも約５８０℃、好ましくは少なくとも約６００℃の温度でオーブン又は炉で十分な期間の間被覆製品を加熱することを含む。特定の例において、ＨＴは、少なくとも約４から５分以上の間実施されてもよい。本発明の別の例示的な実施形態において、被覆製品は、熱処理してもしなくてもよい。
図１は、本発明の実施例の非限定的な実施形態による被覆製品の側断面図である。被覆製品は、基板１（例えば、厚さが約１．０から１０．０ｍｍ、さらに好ましくは約１．０から３．５ｍｍである、透明、緑色、青銅色、又は、青緑色ガラス基板）及び基板１上に直接又は間接的に提供される低放射率コーティング（又は層システム）３０を含む。コーティング（又は層システム）３０は、ヘイズ減少用Ｓｉリッチ型の、又は、本発明の他の実施形態において、任意の異なる適切な化学量論の、Ｓｉ３Ｎ４であり得る下部シリコン窒化物含有誘電体層３、第１下部接触層７（これは、ＩＲ反射層９と接触する）、第１伝導性（好ましくは金属性又は実質的に金属性）赤外線（ＩＲ）反射層９、第１上部接触層１１（ＩＲ反射層９に接触）、亜鉛酸化物含有誘電体層１３、他のシリコン窒化物含有層１４、亜鉛酸化物含有誘電体層１５、第２下部接触層１７（これは、ＩＲ反射層１９に接触する）、第２伝導性（好ましくは金属性又は実質的に金属性）ＩＲ反射層１９、第２上部接触層２１（ＩＲ反射層１９に接触する）、特定の例において、亜鉛酸化物を含んでもよい誘電体層２３、シリコン窒化物含有誘電体層２５、及びジルコニウム酸化物の又はこれを含有する任意の保護誘電体層２７を含む。「接触」層７，１１，１７，２１は、各々少なくとも１つのＩＲ反射層（例えば、Ａｇ系層）に接触する。前記スパッタ蒸着層３〜２７は、ガラス又はプラスチック基板１上に提供される低放射率コーティング３０を構成する。
一体型の例として、被覆製品は、図１（及び図２〜図４）で図に示すように１つのガラス基板１だけを含む。しかし、本明細書に記載した一体型被覆製品（例えば、図１〜図４参照）は、積層された車両遮蔽版、ＩＧ窓ユニットなどの装置に用いてもよい。ＩＧ窓ユニットに関しては、ＩＧ窓ユニットは、２つの離隔されたガラス基板を含んでもよい。例示のＩＧ窓ユニットは、米国特許第６，６３２，４９１号に図示して記載され、その全体内容は、参照として含まれる。例示のＩＧ窓ユニットは、例えば、図１〜図４に示した（又は本明細書に記載した）コーティングされたガラス基板１が他のガラス基板（図示せず）との間に限定された間隙を有するように、スペーサ、シール剤等を介して他のガラス基板に結合されたものを含む。ＩＧユニット実施形態で基板の間の間隙は、特定の例において、アルゴン（Ａｒ）などの気体で充填してもよい。
図２の実施形態は、層１３，１５，２３のうちの１つ又は２つ内において追加金属材料を含む亜鉛酸化物に替えてＳｎＯ２が用いられ得ることを強調するために、図２の実施形態の誘電体層２３がＳｎＯ２であると説明されていることを除いて図１の実施形態と同一である。
図３の実施形態は、低放射率コーティング６０が二重銀のコーティングでない単一銀のコーティングである被覆製品を示す。図１で識別された参照符号と同一の図３の実施形態の層は、同様の層であると考えてもよい。
図４の実施形態は、本発明の他の実施形態として低放射率コーティング７０を含む被覆製品を示す。図４の実施形態は、多数の面で図１の実施形態と互いに異なる。例えば、図１の実施形態からの層１４，１５，２７は、図４の実施形態に存在する必要はない。また、図４の実施形態は、下部シリコン窒化物含有層３と下部亜鉛酸化物又は亜鉛アルミニウム酸化物含有層７との間にチタン酸化物（例えば、ＴｉＯ２）又はこれを含む誘電体層４を含む。上記のように、同様の参照番号は、図面で類似の部分／層を意味する。
本発明の特定の実施形態において、誘電体層３，１４，２５は、シリコン窒化物であるかシリコン窒化物を含んでもよい。シリコン窒化物層３，１４は、特に被覆製品の熱処理性（例えば、焼き戻し処理など）を向上することができる。シリコン窒化物層（３及び／又は１４）は、化学量論形態（すなわち、Ｓｉ３Ｎ４）であったり、本発明の他の実施形態ではＳｉリッチ型のシリコン窒化物であってもよい。例えば、銀系のＩＲ反射層の下に亜鉛酸化物及び／又はスズ酸化物が組み合わせられたＳｉリッチシリコン窒化物３（及び／又は１４）により、銀が（例えば、スパッタリング等を介して）蒸着し、それによりシート抵抗は特定のその他の材料が銀の下にある場合に比べて減少する。また、Ｓｉリッチシリコン窒化物含有層３において、フリーＳｉ（ｆｒｅｅ−Ｓｉ）が存在すれば、熱処理（ＨＴ）中にガラス１から外側に移動するナトリウム（Ｎａ）などの特定の原子が銀に到達することができ、損傷する前にＳｉリッチシリコン窒化物含有層によって特定の原子が効率的に遮断されてもよい。したがって、熱処理による酸化は可視光線透過率を増加させ、本発明の特定の例示的な実施形態において、層３のＳｉリッチＳｉｘＮｙがＨＴ中に損傷する銀層の部分を減らし、シート抵抗（Ｒｓ）を満足する方法によって減少させたり保持できることが分かる。
特定の例示的な実施形態において、Ｓｉリッチシリコン窒化物が層（３及び／又は１４）に用いられる場合、蒸着されたＳｉリッチシリコン窒化物層は、ＳｉｘＮｙ層を特徴として、ｘ／ｙは、０．７６から１．５、さらに好ましくは０．８から１．４、より好ましくは０．８５から１．２であってもよい。また、特定の例示的な実施形態において、ＨＴ前及び／又は後に、ＳｉリッチＳｉｘＮｙ層は、屈折率「ｎ」が少なくとも２．０５、好ましくは少なくとも２．０７、場合によって少なくとも２．１０（例えば、６３２ｎｍ）である（注：用いることができる化学量論Ｓｉ３Ｎ４は、屈折率ｎが２．０２〜２．０４である）。特定の例示的な実施形態において、驚くべきことに、改善された熱安定性は、特に蒸着されたＳｉリッチＳｉｘＮｙ層の屈折率「ｎ」が少なくとも２．１０、好ましくは少なくとも２．２０、最も好ましくは２．２から２．４である場合に実現可能になることが分かった。また、特定の例示的な実施形態において、ＳｉリッチＳｉｘＮｙ層は、消滅係数ｋが少なくとも０．００１、好ましくは少なくとも０．００３であってもよい（注：化学量論Ｓｉ３Ｎ４は、消滅係数「ｋ」が実質的に０である）。また、特定の例示的な実施形態において、改善された熱安定性は、驚くべきことにＳｉリッチＳｉｘＮｙ層に対する「ｋ」が５５０ｎｍの蒸着時に０．００１から０．０５である場合に実現され得ることが分かった。ｎ及びｋは、熱処理のために減少する傾向があることに留意する。
本発明の特定の例示的な実施形態において、本明細書に検討されたシリコン窒化物層の一部及び／又は全部がステンレス鋼又はアルミニウムなどのその他の材料でドープされてもよい。例えば、本明細書で検討されたシリコン窒化物層の一部及び／又は全体は、本発明の特定の例示的な実施形態において、任意に約０〜１５％のアルミニウム、好ましくは約１〜１０％のアルミニウムを含んでもよい。シリコン窒化物は、本発明の特定の実施形態において、少なくとも窒素ガスを含む雰囲気でＳｉ又はＳｉＡｌのターゲットをスパッタリングすることによって蒸着してもよい。
赤外線反射層（９及び１９）は、好ましくは実質的に又は全体的に金属性及び／又は伝導性を有し、銀（Ａｇ）、金、又は、任意のその他の適切なＩＲ反射材料を含んでもよく、本質的にこれらによって構成されてもよい。ＩＲ反射層（９及び１９）は、コーティングが低Ｅ及び／又は良好な日光制御特徴を有するように助ける。しかし、本発明の特定の実施形態において、ＩＲ反射層は、僅かに酸化されてもよい。
本発明の特定の例示的な実施形態において、上部接触層１１，２１は、ニッケル（Ｎｉ）酸化物、クロム／クロム（Ｃｒ）酸化物、又は、ニッケル合金酸化物、例えば、ニッケルクロム酸化物（ＮｉＣｒＯｘ）、又は、その他の適切な材料であったり、又はそれらを含んでもよい。例えば、このような層（１１及び／又は２１）において、ＮｉＣｒＯｘ又はＮｉＣｒを用いれば、耐久性を向上させることができる。層（１１及び／又は２１）のＮｉＣｒＯｘは、本発明の特定の実施形態で完全に酸化されたり（すなわち、完全に化学量論的）、又は部分的に酸化されたり（すなわち、下位酸化物）、又はＮｉＣｒの実施形態において金属性であってもよい。特定の例において、ＮｉＣｒＯｘ層（１１及び／又は２１）は、少なくとも約５０％酸化されてもよい。本発明の他の実施形態において、接触層（１１及び／又は２１）（例えば、Ｎｉ及び／又はＣｒの酸化物又はそれを含む）は、酸化勾配（ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｇｒａｄｅｄ）したり酸化勾配しないこともある。酸化勾配は、層の厚さ全体で層の酸化程度が変化することを意味する。例えば、接触層（１１及び／又は２１）は、直接隣接したＩＲ反射層から、さらに又はより／最も遠い接触層の一部でよりも、直接隣接したＩＲ反射層と接触した界面において少なく酸化されるように勾配することができる。様々な形態の酸化物勾配接触層の説明は、米国特許第６，５７６，３４９号に記載されており、その開示は本明細書に参照として含まれる。本発明の他の実施形態において、接触層（１１及び／又は２１）（例えば、Ｎｉ及び／又はＣｒであったり、Ｎｉ及び／又はＣｒを含む）は、全体の下部ＩＲ反射層で連続的であっても連続的でなくてもよい。
本発明の特定の例示的な実施形態において、誘電体シード層７，１７は、亜鉛酸化物（例えば、ＺｎＯ）及び／又は亜鉛アルミニウム酸化物（ＺｎＡｌＯｘ）であってもよく、又はそれらを含んでもよい。しかし、他の例として、本明細書に記載したその他の層と同様に、その他の材料を用いてもよい。亜鉛酸化物層７，１７は、その他の材料を含有してもよい。例えば、本発明の特定の例示的な実施形態において、１つ以上の亜鉛酸化物層７，１７は、約１から１０％のＡｌ、好ましくは約１から５％のＡｌ、最も好ましくは約１から４％のＡｌでドープされてもよい。
本発明の特定の例示的な実施形態において、オーバーコート誘電体層２７は、ジルコニウム酸化物（例えば、ＺｒＯ２）であってもよく、又はそれらを含んでもよい。本明細書に記載したその他の層のように、この層は、任意であって、本発明の特定の例示的な実施形態において提供される必要はない。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕＡｌの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化されている。本明細書中に使用される「実質的に完全に酸化」とは、完全に酸化された場合の少なくとも約８０％まで酸化されることを意味することに注意する。例えば、ＺｎＣｕＡｌ酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＣｕＡｌ酸化物材料は、図１の実施形態で示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＣｕＡｌ酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＣｕＡｌ酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕＡｌ酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＣｕ及びＡｌに比べて多くのＺｎを含有して、Ｃｕに比べて多くのＡｌを含有し、例えば、層の金属含量は、約５０〜９８％のＺｎ（好ましくは約６０〜９７％、さらに好ましくは約７０〜９７％、より好ましくは約８０〜９３％のＺｎ）、約０．１〜１５％のＣｕ（さらに好ましくは約０．１〜５％、より好ましくは約０．１〜３０％、さらに好ましくは約０．３〜３％のＣｕ）、及び約０．５〜５０％のＡｌ（さらに好ましくは約０．５〜２５％、より好ましくは約１〜２０％、最も好ましくは約４〜１５％のＡｌ）である。一例として、ＺｎＣｕＡｌ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約８７％のＺｎ、約０．５％のＣｕ、及び約１２．５％のＡｌである。本明細書において、材料のパーセンテージ（％）は原子％を表す。当然、その他の少量の材料は層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ｃｕ及びＡｌが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよく、このような文献は、本明細書に参照として含まれる。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化される。例えば、ＺｎＣｕ酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＣｕ酸化物材料は、図１の実施形態に示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＣｕ酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＣｕ酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕ酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＣｕに比べて実質的に多くのＺｎを含有し、例えば、その層の金属含量は、約５０〜９９％のＺｎ（好ましくは約６０〜９８％、さらに好ましくは約７０〜９８％、より好ましくは約８５〜９７％のＺｎ）、約０．２〜５０％のＣｕ（さらに好ましくは約０．２〜２０％、より好ましくは約１〜１５％、さらに好ましくは約２〜７％のＣｕ）である。一例として、ＺｎＣｕ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約９５％のＺｎ、約５％のＣｕである。当然、その他の少量の材料はその層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ｃｕが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよい。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕＮｉの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化される。例えば、ＺｎＣｕＮｉの酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＣｕＮｉの酸化物材料は、図１の実施形態に示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＣｕＮｉの酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＣｕＮｉの酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＣｕＮｉの酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＣｕ及びＮｉに比べて多くのＺｎを含有し、例えばその層の金属含量は、約５０〜９８％のＺｎ（好ましくは約６０〜９７％、さらに好ましくは約７０〜９７％、より好ましくは約８０〜９３％のＺｎ）、約０．１〜１５％のＣｕ（さらに好ましくは約０．１〜５％、より好ましくは約０．１〜３０％、さらに好ましくは約０．３〜３％のＣｕ）及び約０．５〜５０％のＮｉ（さらに好ましくは約０．５〜２５％、より好ましくは約１〜２０％、最も好ましくは約４〜１５％のＮｉ）である。一例として、ＺｎＣｕＮｉ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約８７％のＺｎ、約０．５％のＣｕ、及び約１２．５％のＮｉである。当然、その他の少量の材料はその層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ｃｕ及びＮｉが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよい。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化される。例えば、ＺｎＮｉの酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＮｉの酸化物材料は、図１の実施形態に示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＮｉの酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＮｉの酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉの酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＮｉに比べて多くのＺｎを含有し、例えばその層の金属含量は、約５０〜９９％のＺｎ（好ましくは約６０〜９８％、さらに好ましくは約７０〜９８％、より好ましくは約８５〜９７％のＺｎ）及び約０．２〜５０％のＮｉ（さらに好ましくは約０．２〜２０％、より好ましくは約１〜１５％、さらに好ましくは約３〜１２％のＮｉ）である。一例として、ＺｎＮｉ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約９０％のＺｎ及び約１０％のＮｉである。当然、その他の少量の材料はその層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ｎｉが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよい。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉＡｌの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化される。例えば、ＺｎＮｉＡｌの酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＮｉＡｌの酸化物材料は、図１の実施形態に示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＮｉＡｌの酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＮｉＡｌの酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉＡｌの酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＮｉ及びＡｌに比べて多くのＺｎを含有し、例えばその層の金属含量は、約５０〜９８％のＺｎ（好ましくは約６０〜９７％、さらに好ましくは約７０〜９７％、より好ましくは約８０〜９３％のＺｎ）、約０．１〜１５％のＮｉ（好ましくは約０．１〜５％、さらに好ましくは約０．１〜３０％、より好ましくは約０．３〜３％のＮｉ）、及び約０．５〜５０％のＡｌ（さらに好ましくは約０．５〜２５％、より好ましくは約１〜２０％、最も好ましくは約４〜１５％のＡｌ）である。一例として、ＺｎＮｉＡｌ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約８７％のＺｎ、約０．５％のＮｉ、及び約１２．５％のＡｌである。当然、その他の少量の材料はその層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ａｌ及びＮｉが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよい。
図１〜図４を参照すると、誘電体層１３，１５，２３，４０のうちの１つ以上は、本発明の特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉＭｇの酸化物であったり、又はそれを含んでもよく、その層は、実質的に透明で完全に酸化又は実質的に完全に酸化される。例えば、ＺｎＮｉＭｇの酸化物材料は、図１〜図２の実施形態における層１５に対してだけ用いてもよく、基本的にＳｎＯ２又はその他の適切な誘電体材料は、誘電体層１３，２３に対して用いられる。また、例えば、ＺｎＮｉＭｇの酸化物材料は、図１の実施形態に示された層１３，１５，２３のうち２つ又は３つに対して用いてもよい。別の例として、ＺｎＮｉＭｇの酸化物材料は、図３の実施形態における層（４０及び／又は１３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよく、図４の実施形態における層（１３及び／又は２３）のうちの１つ又は両方に対して用いてもよい。例えば、ＺｎＮｉＭｇの酸化物は、図４の実施形態における層１３に対して用いられる場合、ＳｎＯ２、ＳｎＺｎＯ、又は、その他の適切な誘電体材料は、誘電体層２３に対して用いてもよい。特定の例示的な実施形態において、ＺｎＮｉＭｇの酸化物は、１つ以上の層１３，１５，２３，４０内に又はそのために用いられる場合、その層は、好ましくは実質的にＮｉ及びＭｇに比べて多くのＺｎを含有し、例えばその層の金属含量は、約５０〜９８％のＺｎ（好ましくは約６０〜９７％、さらに好ましくは約７０〜９７％、より好ましくは約８０〜９３％のＺｎ）、約０．１〜１５％のＮｉ（好ましくは約０．１〜５％、さらに好ましくは約０．１〜３０％、より好ましくは約０．３〜３％のＮｉ）、及び約０．５〜５０％のＭｇ（さらに好ましくは約０．５〜２５％、より好ましくは約１〜２０％、最も好ましくは約４〜１５％のＭｇ）である。一例として、ＺｎＮｉＭｇ酸化物を挙げることができ、金属含量は、約８７％のＺｎ、約０．５％のＮｉ、及び約１２．５％のＭｇである。当然、その他の少量の材料はその層内に含まれてもよい。本発明のその他の実施形態において、追加金属Ｎｉ及びＭｇが含まれるこのような亜鉛酸化物含有材料は、米国特許第７，５２１，０９６号、同第７，８７９，４４８号、同第８，１４２，６２２号、同第７，６４８，７６９号、同第８，０１７，２４３号、同第７，５９７，９６５号、又は、同第７，８５８，１９１号の任意の文献における任意のコーティング中のスズ酸化物系の誘電体層のうちのいずれか１つに対して用いてもよい。
上述したコーティングの上又は下にその他の層がまた提供されてもよい。したがって、層システム又はコーティングが基板１「上に」あったり、基板１に「よって支持される」（直接又は間接的）ものであっても、その間に他の層が提供されてもよい。したがって、例えば、図１〜図４のコーティングは、層３と基板１との間にその他の層が提供されても、基板１「上に」あったり、基板１に「よって支持される」ものと見ることができる。また、特定の実施形態において、図示されたコーティングの特定の層は、除去されてもよいが、本発明の特定の実施形態の全体の思想を逸脱しない範囲で、その他の層が様々な層の間に追加されたり、本発明のその他の実施形態において、様々な層が分離した領域の間に追加されるその他の層によって分離されてもよい。
本発明の他の実施形態において、様々な厚さ及び材料が層に用いられるが、図１〜図２の実施形態において、ガラス基板１上のガラス基板から外部へのそれぞれの層の厚さ及び材料の例は次のようになる（下記亜鉛酸化物＋Ｍ層のうちの１つ以上は、誘電体層が追加金属を有する亜鉛酸化物又はそれを含む上述した材料中の任意のものであってもよく、又はスズ酸化物であってもよいことに注意する）。
本発明の特定の例示的な実施形態において、ガラス基板上に低放射率コーティングを含む被覆製品が提供され、コーティングは、前記ガラス基板上の誘電体層及びＩＲ反射層を含み、前記誘電体層は、ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上の酸化物を含む。誘電体層は、完全に酸化されたり実質的に完全に酸化されてもよい。コーティングは、（例えば、銀であるか銀を含む）１つ、２つ、又は３つのＩＲ反射層を含んでもよい。
直前の段落の被覆製品で、ＩＲ反射層は、銀であるか銀を含んでもよい。
前記２つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ガラス基板と前記ＩＲ反射層の間に配置されてもよい。
前記３つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、ガラス基板とＩＲ反射層の間に位置する亜鉛酸化物又はそれを含む層をさらに含んでもよく、前記ＩＲ反射層は、亜鉛酸化物層と直接接触してもよい。ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上又はそれを含む誘電体層は、亜鉛酸化物を含む層と直接接触してもよい。
前記４つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記コーティングは、他のＩＲ反射層をさらに含んでもよく、２つのＩＲ反射層は、銀を含んでもよく、誘電体層は、ＩＲ反射層の間に配置されてもよい。コーティングは、前記他のＩＲ反射層と直接接触する亜鉛酸化物を含む層をさらに含んでもよく、誘電体層は、ＩＲ反射層の間に位置できて亜鉛酸化物を含む層と直接接触してもよい。
前記５つの段落のうちいずれか１つの被覆製品は、可視光線透過率が少なくとも３０％、好ましくは少なくとも約３０％、さらに好ましくは少なくとも約５０％又は６０％であってもよい。
前記６つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記コーティングは、シート抵抗が５Ω／□以下であってもよい。
前記７つの段落のうちいずれか１つの被覆製品は、熱処理（例えば、焼き戻し処理）されてもよい。被覆製品は、熱処理によってガラス側反射率ΔＥ＊が５．０以下（好ましくは４．５又は４．０以下）であってもよい。
前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＣｕＡｌの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９７％のＺｎ、約０．１〜１５％のＣｕ及び約０．５〜２５％のＡｌ、好ましくは約８０〜９３％のＺｎ、約０．１〜５％のＣｕ及び約４〜１５％のＡｌを含んでもよい。前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＣｕの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９８％のＺｎ及び約０．２〜２０％のＣｕ、好ましくは約８５〜９７％のＺｎ及び約２〜７％のＣｕを含んでもよい。前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＮｉの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９８％のＺｎ及び約０．２〜２０％のＮｉ、好ましくは約８５〜９７％のＺｎ及び約１〜１５％のＮｉを含んでもよい。前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＣｕＮｉの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＮｉＡｌの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。前記８つの段落のうちいずれか１つの被覆製品において、前記誘電体層は、ＺｎＮｉＭｇの酸化物を含んだり実質的にこれらで構成されてもよい。本発明の特定の例示的な実施形態において、コーティングの異なる誘電体層は、このような材料からなる様々なコーティングであってもよい。
本発明は、現在最も実用的かつ好ましい実施形態であると考えられるものに関して説明してきたが、本発明は開示された実施形態に限定されるものではなく、添付する請求の範囲の思想と範囲内に含まれる様々な変更及び同等な配列を含むものと理解される。
Claims (31)
- ガラス基板上に低放射率コーティングを含む被覆製品であって、前記コーティングは、
前記ガラス基板上の誘電体層及びＩＲ反射層を含み、
前記誘電体層は、ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上の酸化物を含む、被覆製品。 - 前記ＩＲ反射層は、銀を含む、請求項１に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、前記ガラス基板と前記ＩＲ反射層の間に位置する、請求項１又は２に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、前記ガラス基板と前記ＩＲ反射層の間に位置する亜鉛酸化物を含む層をさらに含み、前記ＩＲ反射層は、前記亜鉛酸化物層と直接接触して、ＺｎＣｕＡｌ、ＺｎＣｕ、ＺｎＣｕＮｉ、ＺｎＮｉ、ＺｎＮｉＡｌ、及びＺｎＮｉＭｇのうちの１つ以上の酸化物を含む前記誘電体層は、前記亜鉛酸化物を含む層と直接接触する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、他のＩＲ反射層をさらに含み、２つのＩＲ反射層は、銀を含み、前記誘電体層は、前記ＩＲ反射層の間に位置する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、前記他のＩＲ反射層と直接接触する亜鉛酸化物を含む層をさらに含み、前記誘電体層は、前記ＩＲ反射層の間に位置して前記亜鉛酸化物を含む層と直接接触する、請求項５に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、銀を含有する１つのＩＲ反射層だけを有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品は、可視光線透過率が少なくとも３０％である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品は、可視光線透過率が少なくとも５０％である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、実質的に完全に酸化及び／又は完全に酸化される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、シート抵抗が５Ω／□以下である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品は、熱処理される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品は、熱処理され、前記熱処理によってガラス側反射率ΔＥ＊が５．０以下である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＣｕＡｌの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９７％のＺｎ、約０．１〜１５％のＣｕ、及び約０．５〜２５％のＡｌを含む、請求項１又は１４に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約８０〜９３％のＺｎ、約０．１〜５％のＣｕ、及び約４〜１５％のＡｌを含む、請求項１又は１４に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＣｕＡｌの酸化物で構成される、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＣｕの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９８％のＺｎ及び約０．２〜２０％のＣｕを含む、請求項１８に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約８５〜９７％のＺｎ及び約２〜７％のＣｕを含む、請求項１９に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＣｕの酸化物からなる、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＮｉの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約６０〜９８％のＺｎ及び約０．２〜２０％のＮｉを含む、請求項２２に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層の金属含量は、約８５〜９７％のＺｎ及び約１〜１５％のＮｉを含む、請求項２３に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＮｉの酸化物で構成される、請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＣｕＮｉの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＣｕＮｉの酸化物で構成される、請求項１〜１３又は２６のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＮｉＡｌの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＮｉＡｌの酸化物で構成される、請求項１〜１３又は２８のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、ＺｎＮｉＭｇの酸化物を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記誘電体層は、本質的にＺｎＮｉＭｇの酸化物で構成される、請求項１〜１３又は３０のいずれか一項に記載の被覆製品。
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