DE10115196A1

DE10115196A1 - Glasscheibe als Vorprodukt für eine thermisch vorgespannte und/oder gebogene Glasscheibe mit Sonnenschutz- und/oder Low-E-Beschichtung

Info

Publication number: DE10115196A1
Application number: DE10115196A
Authority: DE
Inventors: Thomas Paul; Axel Noethe; Dieter Mueller; Michael Rismann; Heinz Hoelscher
Original assignee: Pilkington Deutschland AG
Current assignee: Pilkington Deutschland AG
Priority date: 2001-03-27
Filing date: 2001-03-27
Publication date: 2002-10-17
Also published as: US20040137235A1; WO2002076901A1; EP1385798A1

Abstract

Eine Glasscheibe als Vorprodukt für die Herstellung einer thermisch vorgespannten und/oder gebogenen Glasscheibe, mit einer Beschichtung (2), die mindestens eine Schichtfolge aus einer lichtdurchlässigen Silberschicht (3), einer unter der Silberschicht (3) angeordneten unteren Einbettungsschicht (5) und einer über der Silberschicht (3) angeordneten suboxidischen oberen Einbettungsschicht (4) umfaßt, ist dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens 3 nm dicke obere Einbettungsschicht (4) aus suboxidischem ITO (Indium-Zinn-Oxid) besteht.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Glasscheibe als Vorprodukt für die Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glasscheibe, mit einer Beschichtung, die mindestens eine Schichtfolge aus

- einer lichtdurchlässigen Silberschicht,
- einer unter der Silberschicht angeordneten unteren Einbettungsschicht und
- einer über der Silberschicht angeordneten suboxidischen oberen Einbettungsschicht

umfaßt. Sie bezieht sich außerdem auf ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Glas scheibe sowie eine daraus hergestellte thermisch vorgespannte u/o gebogene Glasscheibe mit Sonnenschutz- u/o Low-E-Beschichtung.

Für eine Vielzahl von Anwendungsbereichen, zum Beispiel für Bau- oder Fahrzeugvergla sungen, werden Glasscheiben benötigt, die zur Erzielung von Sicherheitseigenschaften vorge spannt u/o die gebogen sind. Bekanntlich ist es zum thermischen Vorspannen bzw. zum Bie gen von Glasscheiben erforderlich, die Glasscheiben auf eine Temperatur nahe bzw. über dem Erweichungspunkt des verwendeten Glases zu erwärmen und sie danach entweder durch plötzliches Abkühlen vorzuspannen oder mit Hilfe von Biegeeinrichtungen zu biegen. Die hierfür erforderlichen Temperaturen liegen typischerweise bei etwa 620 ± 50°C. Schwierig keiten können dabei auftreten, wenn diese Glasscheiben mit Beschichtungen, insbesondere mit mindestens einer Funktionsschicht auf Basis von Silber, versehen werden sollen, z. B. um ihnen Sonnenschutz- u/o Low-E-Eigenschaften zu verleihen. Derartige Beschichtungen sind nämlich bekanntermaßen ohne weiteres nicht wärmebeständig. Zwar besteht grundsätzlich die Möglichkeit, derartige Beschichtungen erst nach der thermischen Behandlung auf die Glas scheibe aufzubringen. Das ist jedoch nicht frei von Nachteilen.

Es hat daher in der Vergangenheit eine Reihe von Versuchen gegeben, Beschichtungen mit mindestens einer lichtdurchlässigen Funktionsschicht auf Basis von Silber zu entwickeln, die auf plane Glasscheiben aufgebracht und anschließend einem thermischen Behandlungsschritt, insbesondere einem Vorspann- u/o Biegeprozeß, unterworfen werden können, ohne daß die Beschichtung dabei Schaden nimmt.

DE 36 28 057 A1 offenbart eine wärmebeständige Beschichtung als Dreischichtsystem aus einer unteren Einbettungsschicht aus mit Al₂O₃ dotiertem ZnO, einer Silberschicht und einer oberen Einbettungsschicht, ebenfalls aus mit Al₂O₃ dotiertem ZnO. Die beiden vollständig oxidierten Metalloxidschichten werden ausgehend von Metalloxidtargets mittels DC-Katho denzerstäubung in einer Beschichtungsatmosphäre hergestellt, die 0-20 Vol.% Sauerstoff enthält. Die Verfahrensführung erfolgt so, daß die Silberschicht bei der Herstellung der Be schichtung auch ohne die üblicherweise vorhandene Blockerschicht möglichst wenig mit Sauerstoff in Berührung kommt.

Aus der EP 0 229 921 A1 ist eine bieg- u/o vorspannbare Glasscheibe mit einer Beschichtung bekannt, die eine Schichtfolge aus einer lichtdurchlässigen Silberschicht und zwei metalli schen Einbettungsschichten umfaßt. Als Materialien für die Einbettungsschichten werden die Übergangsmetalle Ta, W, Ni u/o Fe genannt.

Aus der EP 0 233 003 A1, von der die Erfindung ausgeht, ist eine bieg- u/o vorspannbare Glasscheibe mit einer Beschichtung bekannt, die eine Schichtfolge aus einer Silberschicht und zwei Einbettungsschichten umfaßt. Als Materialien für die Einbettungsschichten werden die Übergangsmetalle Al, Ti, Zn, Ta u/o Zr genannt. Zwar ist nach dieser Veröffentlichung vor gesehen, daß die Einbettungsschichten möglichst sauerstofffrei hergestellt werden, doch kön nen auch Suboxide der genannten Metalle zum Einsatz kommen, soweit sichergestellt ist, daß die Einbettungsschichten ein hinreichendes Sauerstoffdefizit aufweisen, um während der Wärmebehandlung in die Beschichtung eindiffundierenden Sauerstoff aufzunehmen und da durch die Silberschicht zu schützen.

Auch die EP 0 761 618 A1 offenbart eine bieg- u/o vorspannbare Glasscheibe mit einer Be schichtung, die zumindest eine Schichtfolge aus einer Silberschicht und zwei Einbettungs schichten umfaßt. Nach dieser Veröffentlichung werden die Einbettungsschichten so ausge wählt und dimensioniert, daß sie zur Sauerstoffaufnahme in ausreichendem Umfang fähig sind. Außerdem wird die Silberschicht in einer sauerstoffhaltigen Beschichtungsatmosphäre gesputtert. Als Materialien für die Einbettungsschichten werden Metalle, Metallegierungen, Suboxide, Nitride oder suboxidische Oxinitride genannt, deren Affinität zu Sauerstoff beson ders hoch ist. Konkret werden genannt Ti, Al, W, Ta, Zr, Hf, Ce, V, Ni, Cr, Zn, Nb, deren Legierungen, Suboxide, Nitride oder suboxidische Nitride.

EP 0 963 960 A1 lehrt im gleichen Zusammenhang die Verwendung von Einbettungsschich ten aus Suboxiden von Metallegierungen aus zwei Metallen. Als einziges konkretes Beispiel wird Ni-Cr-Suboxid genannt. Es hat sich gezeigt, daß bei der Verwendung von Einbettungs schichten aus NiCr-Suboxiden entweder im Falle einer großen Dicke der Einbettungsschich ten die Lichtdurchlässigkeit des fertigen Produktes zu wünschen übrig läßt oder bei geringe ren Dicken während der Wärmebehandlung ein unerwünscht hoher Streulichtanteil des trans mittierten Lichts (auch "Schleier" genannt; englisch: haze) auftritt, der auf eine teilweise Zer störung der Silberschicht hinweist.

Aus anderen Zusammenhängen sind Beschichtungen bekannt, bei denen beiderseits einer Silberschicht Schichten aus vollständig oxidiertem ITO vorgesehen sind (DE 33 16 548 A1, EP 0 599 071 A1, EP 0 378 917 A1, DE 27 50 500 A1, DE 37 04 880 A1, DE 195 33 053 A1). Zum Teil werden die vorbekannten Beschichtungen zur Reduzierung des Flächenwider stands der Silberschicht bei Temperaturen von bis zu etwa 300°C wärmebehandelt. Die vor bekannten Beschichtungen sind allerdings nicht bei Temperaturen wärmebeständig, wie sie für das Biegen oder Vorspannen von Glasscheiben erforderlich sind.

Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine Glasscheibe mit einer wärme beständigen Beschichtung der eingangs genannten Art anzugeben, die als Vorprodukt für die Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glasscheibe mit einer Sonnen schutz- u/o Low-E-Beschichtung verwendbar ist. Die eine oder mehrere der genannten Schichtfolgen umfassende Beschichtung soll besonders wirtschaftlich herstellbar sein und die Herstellung von thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glasscheiben mit hoher Licht durchlässigkeit und niedriger Emissivität u/o mit guten Sonnenschutzeigenschaften, d. h. nied riger Energiedurchlässigkeit bei gleichzeitig möglichst hoher Lichtdurchlässigkeit, ermög lichen. Dabei soll der Streulichtanteil in Transmission der beschichteten und wärmebehan delten Glasscheibe möglichst gering sein. Die Beschichtung soll außerdem ausreichend mechanisch und chemisch beständig sein, um eine Lagerung und die erforderlichen Transfers und ggfs. Reinigungsprozesses des beschichteten Vorprodukts bis zur Wärmebehandlung ohne aufwendige Schutzmaßnahmen unbeschadet überstehen zu können. Es soll außerdem ein verbessertes Verfahren zur Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glas scheibe mit einer Sonnenschutz- u/o Low-E-Beschichtung angegeben werden.

Die Lösung des Problems ist Gegenstand von Anspruch 1. Vorteilhafte Weiterbildungen fin den sich in den Unteransprüchen 2 bis 13 und 26. Hinsichtlich des Verfahrens ist die Lösung des Problems in den Ansprüchen 14 bis 25 angegeben.

Überraschenderweise gelingt es durch die Verwendung einer oberen Einbettungsschicht mit einer Dicke von mindestens 3 nm aus suboxidischem ITO (Indium-Zinn-Oxid), die eine oder mehrere dieser Schichtfolgen umfassende Beschichtung ausreichend wärmebeständig zu machen, so daß übliche Vorspann- u/o Biegeprozesse nicht zur Zerstörung der Silber schicht(en) führen. Bevorzugt besteht die untere Einbettungsschicht ebenfalls aus derartigem suboxidischem ITO.

Das Sauerstoffdefizit und die Dicke der oberen Einbettungsschicht werden dabei bevorzugt so eingestellt, daß während eines nachfolgenden thermischen Vorspann- u/o Biegeprozesses der Flächenwiderstand der Beschichtung gleichbleibt oder abnimmt, die Lichtdurchlässigkeit der fertig beschichteten Glasscheibe zunimmt und der Streulichtanteil der beschichteten Glas scheibe 0,5% nicht überschreitet.

Die Zunahme der Lichtdurchlässigkeit, die meist mehrere Prozent beträgt, wird dabei zumin dest teilweise durch das Aufoxidieren der suboxidischen ITO-Einbettungsschicht(en) verur sacht, während das Gleichbleiben bzw. die im Regelfall auftretende Abnahme des Flächen widerstands der Beschichtung signalisieren, daß die Silberschicht(en) die Wärmebehandlung unzerstört übersteht (überstehen). Erfindungsgemäß beschichtete Glasscheiben zeigen außer dem nach der Wärmebehandlung sehr niedrige Werte für den Streulichtanteil in Transmission. Er liegt bei den von der Anmelderin untersuchten Beschichtungen regelmäßig deutlich unter 0,5%, meist im Bereich von nur etwa 0,1%. Es hat sich gezeigt, daß der Streulichtanteil ein guter Frühindikator für den Beginn von Schichtzerstörungen ist.

Besonders gute Ergebnisse werden erzielt, wenn das Atomverhältnis von In zu Sn in der obe ren sowie gegebenenfalls der unteren Einbettungsschicht bei 80 : 20 bis 99 : 1 liegt, vorzugs weise bei etwa 90 : 10. ITO-Schichten mit derartigen Atomverhältnissen sind für leitfähige Elektrodenschichten weit verbreitet. Dies hat den Vorteil, daß die für die Herstellung der Be schichtung benötigten Materialien, insbesondere Targets für die Magnetron-Kathodenzerstäu bung, in ausreichender Menge zur Verfügung stehen.

Dabei wird das Sauerstoffdefizit der Einbettungsschicht(en) bevorzugt so eingestellt, daß diese beim thermischen Vorspannen u/o Biegen möglichst vollständig aufoxidiert (aufoxidie ren), ohne daß sie allerdings ihre Schutzfunktion für die Silberschicht während der Wärme behandlung verliert (verlieren). Erfahrungsgemäß ist dies dann in der Regel der Fall, wenn der Imaginärteil k des komplexen Brechungsindex n + ik der Einbettungsschicht(en) bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Low-E- u/o Sonnenschutz-Beschichtung mehr als 0,01, vorzugsweise mindestens 0,04, und nach einem nachfolgenden thermischen Vorspann- u/o Biegeprozeß weniger als 0,01 beträgt.

Der Meßwert des Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 450 nm hat sich als besonders gut geeignet zur Qualifizierung einer ITO-Schicht im Rahmen der Erfindung herausgestellt. Der Imaginärteil des Brechungsindex von suboxidischem ITO liegt am unteren Rand des sichtbaren Spektralbereichs deutlich höher als bei höheren Wellenlängen, so daß er bei niedri gen Wellenlängen wie beispielsweise 450 nm besser einer Messung zugänglich ist. Bei voll oxidierten, d. h. im sichtbaren Spektralbereich praktisch absorptionsfreien, ITO-Schichten liegt der Imaginärteil ihres Brechungsindex im gesamten sichtbaren Spektralbereich klar unterhalb von 0,01.

Zwar reichen in manchen Fällen nur etwa 3 nm dicke Einbettungsschichten aus suboxidi schem ITO aus, um die Silberschicht während der Wärmebehandlung zu schützen. Es hat sich jedoch gezeigt, daß Beschichtungen, bei denen zumindest die obere Einbettungsschicht eine Dicke von etwa 10 nm oder mehr hat, auch Wärmebehandlungen mit längerer Dauer u/o bei höheren Temperaturen unbeschadet überstehen. Dabei hat sich herausgestellt, daß größere Dicken als etwa 10 nm keine wesentliche Verbesserung der Wärmebeständigkeit mit sich bringen. Bei relativ geringen Dicken der suboxidischen ITO-Einbettungsschicht wird man erfahrungsgemäß deren Sauerstoffdefizit eher etwas höher einstellen müssen als bei größeren Dicken, um eine hinreichende Wärmebeständigkeit der Beschichtung zu erzielen. Über raschenderweise scheint die vorteilhafte Wirkung der erfindungsgemäßen Einbettungs schichten aus suboxidischem ITO allerdings weniger darauf zu beruhen, daß sie die Sauerstoffdiffusion zur Silberschicht verhindern, daß sie also als Puffer- oder Sperrschicht wirken, wie einige der in diesem Zusammenhang vorbekannten Materialien. Die Erfinder vermuten vielmehr, daß die besonders gute Schutzwirkung der suboxidischen ITO-Schichten darauf beruht, daß sich durch deren Aufoxidation und die damit einher gehende Volumenvergröße rung Grenzflächenspannungen zwischen der Einbettungsschicht und der Silberschicht ein stellen, die eine unerwünschte Agglomeration der Silberatome während der Wärme einwirkung wirksam verhindern. Die Höhe dieser Grenzflächenspannungen ist bei sub oxidischen ITO-Schichten offenbar im Verhältnis zu anderen Materialien besonders günstig. Für diese Annahme spricht, daß die Wärmebeständigkeit erfindungsgemäßer Beschichtungen vergleichsweise unabhängig von der Dauer der Wärmebehandlung ist und daß, wie bereits erwähnt, die Schutzwirkung der erfindungsgemäßen Einbettungsschichten ab einer gewissen Dicke nicht mehr nennenswert zunimmt. Mit einer geringeren Schichtdicke nehmen die von der Einbettungsschicht auf die Silberschicht wirkenden Kräfte ab, was durch die zuvor er wähnte Erhöhung des Sauerstoffdefizits offenbar bis zu einem gewissen Maße kompensiert werden kann.

Für die untere Einbettungsschicht können grundsätzlich auch einige der Materialien, insbe sondere Metalle oder Metallsuboxide, verwendet werden, wie sie aus den oben genannten früheren Veröffentlichungen in diesem Zusammenhang bekannt sind. Im Einzelfall, insbe sondere bei niedrigen Temperaturen oder kurzer Dauer der Wärmebehandlung sowie bei der Verwendung relativ dicker oberer Einbettungsschichten kann es sogar möglich sein, eine voll oxidierte untere Einbettungsschicht zu verwenden. Es hat sich jedoch als besonders vorteilhaft herausgestellt, wenn auch die untere Einbettungsschicht aus suboxidischem ITO in einer Dicke von mindestens 3 nm hergestellt wird. Beschichtungen mit derartigen Schichtfolgen zeichnen sich nicht nur durch eine besonders hohe chemische Beständigkeit aus, sondern sind auch besonders wirtschaftlich herstellbar.

Es liegt im Rahmen der Erfindung, die Einbettungsschichten in einer solchen Dicke herzu stellen, daß sie bereits ohne zusätzliche dielektrische Schichten als Entspiegelungsschichten für die Silberschicht(en) wirken. Eine verbesserte optische Anpassung und eine Optimierung des Beschichtungsprozesses ist jedoch dann möglich, wenn die Beschichtung mindestens eine weitere dielektrische Schicht umfaßt, die aus einem der für diesen Zweck geeigneten Material besteht, insbesondere überwiegend aus einem Oxid von Sn, Ti, Zn, Nb, Ce, Hf, Ta, Zr, Al u/o Si u/o einem Nitrid von Si u/o Al. Es versteht sich, daß diese Schichtmaterialien in bekannter Weise ihre Eigenschaften modifizierende u/o ihre Herstellung erleichternde Zusätze, z. B. Dotierungen oder andere Reaktivgase, wie im Falle der Oxide insbesondere von Stickstoff, aufweisen können. Es hat sich allerdings herausgestellt, daß im Rahmen der Erfindung die Verwendung von oxidischen dielektrischen Schichten der Verwendung von Oxinitriden in aller Regel vorzuziehen ist. Die optischen Dicken etwaiger zusätzlicher dielektrischer Schichten wird man im Normalfall so einstellen, daß sie zusammen mit den Einbettungs schichten die Silberschicht(en) möglichst gut entspiegeln. Wenn es auch in besonderen Fällen wünschenswert sein kann, wenn die zusätzlichen dielektrischen Schichten lichtabsorbierend wirken, so werden sie doch im Regelfall so ausgewählt werden, daß sie die Lichtdurchlässig keit der Beschichtung möglichst wenig mindern.

Die lichtdurchlässige Silberschicht wird im Regelfall lediglich aus Silber ohne weitere Zu sätze bestehen, wie es im Bereich von Low-E- u/o Sonnenschutz-Beschichtungen generell üblich ist. Es liegt jedoch im Rahmen der Erfindung, die Eigenschaften der Silberschicht durch das Hinzufügen von Dotierungen, Legierungszusätzen oder dergleichen zu modifizie ren, solange wie die für die Funktion als hoch lichtdurchlässige und gering lichtabsorbierende IR-Reflexionsschicht benötigten Eigenschaften einer Silberschicht hierdurch nicht erheblich verschlechtert werden. Soweit im Rahmen der Erfindung von Silberschichten die Rede ist, umfaßt dies regelmäßig auch derart modifizierte Schichten. Die Dicke der Silberschicht(en) hängt von den angestrebten optischen Eigenschaften ab. Im Falle hoch lichtdurchlässiger Low-E-Beschichtungen mit einer einzelnen Silberschicht wird deren Dicke typischerweise etwa 6-15 nm betragen, während die Gesamtdicke aller Silberschichten bei Sonnenschutz- Beschichtungen typischerweise bei etwa 12-30 nm liegt.

Es liegt im Rahmen der Erfindung, mehrere Schichtfolgen aus unterer Einbettungsschicht, Silberschicht und oberer Einbettungsschicht einzusetzen, um die optischen Eigenschaften der Sonnenschutz- u/o Low-E-Beschichtung für die jeweilige Anwendung zu optimieren. Dabei werden bevorzugt innerhalb der Beschichtung ausschließlich solche Schichtfolgen eingesetzt, bei denen die oberen und vorzugsweise auch die unteren Einbettungsschichten jeweils die erfindungsgemäße Dicke und chemische Zusammensetzung einer suboxidischen ITO-Schicht aufweisen. Werden mehrere solcher erfindungsgemäßer Schichtfolgen innerhalb einer Be schichtung verwendet, so kann die Beschichtung grundsätzlich so gestaltet werden, daß die obere Einbettungsschicht einer Schichtfolge gleichzeitig die untere Einbettungsschicht der nächsten Schichtfolge ist. Im Regelfall wird man aber zwischen der oberen Einbettungs schicht der einen Schichtfolge und der unteren Einbettungsschicht der nächsten Schichtfolge zumindest eine weitere dielektrische Schicht vorsehen, die zusammen mit den beiden ge nannten Einbettungsschichten als entspiegelnde Fabry-Perot-Abstandsschicht zwischen den jeweiligen Silberschichten wirkt.

Um die Kratzfestigkeit der Beschichtung weiter zu verbessern, kann zwischen der Silber schicht und der oberen Einbettungsschicht jeweils eine dünne Haftschicht, z. B. aus Cr, NiCr, Ni, Zr u/o Ti oder Edelstahl oder deren Suboxiden vorgesehen werden. Derartige Haftschich ten sind an sich bekannt. Da sie als metallische oder suboxidische Schichten Licht im sicht baren Spektralbereich absorbieren, liegt ihre Dicke bevorzugt im Bereich von wenigen Nano metern, üblicherweise bei höchstens etwa 3 nm oder weniger, um die Lichtdurchlässigkeit der Beschichtung möglichst wenig zu reduzieren. Im Rahmen der Erfindung soll aus diesem Grund die Dicke derartiger Haftschichten jedenfalls deutlich geringer sein als die Dicke der jeweils benachbarten Einbettungsschicht.

Schließlich liegt es im Rahmen der Erfindung, die Beschichtung mit einer dünnen äußeren Schutzschicht aus Basis von Metalloxiden, Metalloxinitriden oder Metallnitriden zu versehen, um deren mechanische u/o chemische Beständigkeit weiter zu verbessern. Die Dicke derarti ger Schutzschichten liegt üblicherweise ebenfalls im Bereich nur weniger Nanometer. Als Materialien für derartige Schutzschichten kommen insbesondere TiO₂, SiO₂ oder Si₃N₄ in Frage.

Die Erfindung ist grundsätzlich unabhängig vom Herstellverfahren für die Beschichtung an wendbar. Sie eignet sich aber ganz besonders für Sonnenschutz- u/o Low-E-Beschichtungen, bei denen zumindest eine Schichtfolge aus unterer Einbettungsschicht, Silberschicht und obe rer Einbettungsschicht mittels der besonders wirtschaftlich zur Großflächenbeschichtung ein setzbaren Magnetron-Kathodenzerstäubung auf Glasscheiben aufgebracht wird. Bevorzugt wird dabei die gesamte Beschichtung mittels Magnetron-Kathodenzerstäubung hergestellt, bevor die beschichtete Glasscheibe der Wärmebehandlung unterzogen wird. Dabei werden die suboxidischen ITO-Einbettungsschichten ganz bevorzugt durch das Sputtern von suboxidi schen ITO-Targets in einer inerten oder allenfalls geringfügig Sauerstoff enthaltenden Be schichtungsatmosphäre hergestellt. Alternativ kann dies aber auch durch das Sputtern von In- Sn-Legierungstargets in einer sauerstoffhaltigen Beschichtungsatmosphäre geschehen. Wesentlich ist, daß in beiden Fällen das Beschichtungsverfahren durch die Einstellung geeig neter Beschichtungsparameter so geführt wird, daß sich das erfindungsgemäß angestrebte Sauerstoffdefizit einstellt. Es ist durch die Einstellung geeigneter Beschichtungsbedingungen darauf zu achten, daß jedenfalls die oberen Einbettungsschichten auch nach der Fertigstellung der Beschichtung immer noch suboxidisch sind und nicht bereits im Zuge des Aufbringens weiterer Teilschichten aufoxidieren.

Es hat sich gezeigt, daß der Beschichtungsprozeß bei der Verwendung suboxidischer ITO- Targets deutlich Stabiler abläuft und das angestrebte Sauerstoffdefizit der suboxidischen Einbettungsschichten deutlich einfacher einzustellen ist als bei der Verwendung metallischer Targets. Dabei kommt es überraschenderweise nicht darauf an, daß das Sauerstoffdefizit des Targets sehr genau spezifiziert ist. Entscheidend für die verbesserte Steuerbarkeit des Sputterprozesses ist offenbar lediglich, daß überhaupt ein nennenswertes Sauerstoffdefizit im ITO-Target vorliegt.

Insbesondere unter prozeßtechnischen Gesichtspunkten ist es vorteilhaft, wenn sowohl die obere als auch die untere Einbettungsschicht gleichermaßen aus suboxidischem ITO besteht, wobei vorzugsweise beide ausgehend von suboxidischen ITO-Targets in sauerstoffarmer Be schichtungsatmosphäre, insbesondere in einer Beschichtungsatmosphäre ohne Sauerstoff zusatz, gesputtert werden.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und einer Zeichnung weiter erläutert.

Es zeigen in schematischen Darstellungen

Fig. 1 eine erste Ausführungsform der Erfindung in ihrer einfachsten Form, bei der die Beschichtung genau eine erfindungsgemäße Schichtfolge umfaßt; und

Fig. 2-5 weitere Ausführungsformen der Erfindung.

Fig. 1 zeigt in einer nicht maßstäblichen Schnittdarstellung eine Glasscheibe 1 mit einer Be schichtung 2. Die Beschichtung 2 besteht aus einer erfindungsgemäßen Schichtfolge, die eine lichtdurchlässige Silberschicht 3, eine obere Einbettungsschicht 4 und eine untere Einbet tungsschicht 5 umfaßt. Die beiden Einbettungsschichten 4, 5 haben derartige optische Dicken, daß sie als Entspiegelungsschichten für die Silberschicht 3 wirken. Sie bestehen aus suboxidi schem ITO, dessen Sauerstoffdefizit vorzugsweise so eingestellt ist, daß der Imaginärteil k des komplexen Brechungsindex n + ik beider Einbettungsschichten 4, 5 bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung 2 mehr als 0,01 und nach einem nach folgenden thermischen Vorspann- u/o Biegeprozeß weniger als 0,01 beträgt.

Die in Fig. 1 dargestellte Low-E- u/o Sonnenschutz-Beschichtung 2 stellt die einfachste Ausführungsform der Erfindung dar. Die Beschichtung 2 kann, wie oben bereits erläutert und den nachfolgenden Ausführungsbeispielen zu entnehmen, durch weitere Schichten vervoll ständigt werden, um ihre Eigenschaften weiter zu optimieren.

Die übrigen Figuren werden im Zusammenhang mit den Ausführungsbeispielen näher erläu tert. Soweit die Lichtdurchlässigkeit beschichteter Glasscheiben in den Beispielen beziffert wird, handelt es sich um Messungen gemäß ISO 9050 (D65). Die Meßwerte für den Streu lichtanteil des transmittierten Lichts wurden gemäß ASTM D1003 ermittelt.

Beispiel 1 (Fig. 2)

Auf eine 3,2.6 m² große, 4 mm dicke Floatglasscheibe 1 werden in einer Durchlauf-Be schichtungsanlage mittels Magnetron-Kathodenzerstäubung nacheinander folgende Schichten aufgetragen:

- eine untere dielektrische Schicht 6 aus TiO₂ (12 nm),
- eine untere Einbettungsschicht 5 aus suboxidischem ITO (10 nm),
- eine Silberschicht 3 (10 nm),
- eine Haftschicht 8 aus NiCr (3 nm),
- eine obere Einbettungsschicht 4 aus suboxidischem ITO (10 nm),
- eine obere dielektrische Schicht 7 aus SnO₂ (31 nm) und
- eine äußere Schutzschicht 9 aus TiO₂ (3 nm).

Die TiO₂-Schichten 6, 9 werden mit Hilfe von Zwillingstargets und unter Anwendung der Mittelfrequenz-Sputtertechnik in einer Ar/O₂-Atmosphäre gesputtert. Die suboxidischen ITO- Schichten 4, 5 werden mit Hilfe von suboxidischen ITO-Targets durch DC-Kathodenzerstäu bung in einer Ar-Atmosphäre ohne Sauerstoffzusatz gesputtert. Auch die Silberschicht 3 und die NiCr-Schicht 8 werden jeweils in einer sauerstofffreien Ar-Atmosphäre gesputtert. Die SnO₂-Schicht 7 wird in einer reaktiven Ar/O₂-Atmosphäre gesputtert.

Die erfindungsgemäßen suboxidischen ITO-Schichten 4, 5 haben beide einen komplexen Brechungsindex, dessen Realteil n von 2,23 bei 380 nm auf 1,94 bei 780 nm zurückgeht und dessen Imaginärteil k von 0,12 bei 380 nm auf 0,04 bei 780 nm abnimmt. Bei 450 nm hat k einen Wert von 0,08.

Die beschichtete Floatglasscheibe 1 hat nach der Fertigstellung der Beschichtung 2 eine Lichtdurchlässigkeit von 78%. Der Flächenwiderstand der Beschichtung 2 liegt bei 5,8 Ω.

Im Anschluß daran werden aus der Floatglasscheibe 1 mehrere 50.100 cm² große Glas scheiben herausgeschnitten. Die Kanten der Glasscheiben werden gesäumt und die Glasschei ben sodann durch einen Vorspannofen geschickt.

Nach dem thermischen Vorspannen haben die beschichteten Glasscheiben eine Lichtdurch lässigkeit von 84,5%, der Flächenwiderstand der Low-E-Beschichtung beträgt nur noch 4,2 Ω. Für den Streulichtanteil wird ein Wert von weniger als 0,2% gemessen. Die zuvor suboxidischen ITO-Schichten 4, 5 sind praktisch absorptionsfrei; der Imaginärteil ihres Bre chungsindex liegt nach der Wärmebehandlung deutlich unter 0,01 (bei 450 nm). Werden die vorgespannten Glasscheiben mit der Low-E-Beschichtung jeweils mit einer weiteren unbe schichteten Floatglasscheibe zu einer Isolierglasscheibe verarbeitet, wobei die Beschichtung dem Scheibenzwischenraum zugewandt angeordnet wird, so beträgt die Lichtdurchlässigkeit der Isolierglasscheiben 76%. Mit einem Scheibenzwischenraum von 16 mm und einer Argonfüllung haben die Isolierglasscheiben einen k-Wert von lediglich 1,1 W/m²K (DIN EN 673).

Beispiel 2 (Fig. 3)

- eine untere dielektrische Schicht 6 aus SnO₂ (25 nm),
- eine untere Einbettungsschicht 5 aus suboxidischem ITO (10 nm),
- eine Silberschicht 3 (9 nm),
- eine Haftschicht 8 aus NiCr (3 nm),
- eine obere Einbettungsschicht 4 aus suboxidischem ITO (10 nm) und
- eine obere dielektrische Schicht 7 aus SnO₂ (25 nm).

Die Einbettungsschichten 4, 5 aus suboxidischem ITO werden mit Hilfe von suboxidischen ITO-Targets durch DC-Kathodenzerstäubung in einer Ar-Atmosphäre ohne Sauerstoffzusatz gesputtert. Auch die Silberschicht 3 und die NiCr-Schicht 8 werden jeweils in einer sauer stofffreien Ar-Atmosphäre gesputtert. Die SnO₂-Schichten 6, 7 werden in einer reaktiven Ar/O₂-Atmosphäre gesputtert.

Die beschichtete Floatglasscheibe 1 hat nach der Fertigstellung der Beschichtung 2 eine Lichtdurchlässigkeit von 70,5%. Der Flächenwiderstand der Beschichtung 2 liegt bei 8,1 Ω. Der Imaginärteil des Brechungsindex der ITO-Schichten 4, 5 entspricht demjenigen von Bei spiel 1.

Im Anschluß daran werden aus der Floatglasscheibe 1 mehrere 50.100 cm² große Glas scheiben herausgeschnitten. Die Kanten der Glasscheiben werden gesäumt, und die Glas scheiben werden sodann durch einen Vorspannofen geschickt.

Nach dem Vorspannen haben die beschichteten Glasscheiben eine Lichtdurchlässigkeit von 84%, der Flächenwiderstand der Low-E-Beschichtung beträgt nur noch 6,2 Ω. Für den Streulichtanteil wird ein Wert von weniger als 0,2% gemessen. Die zuvor suboxidischen ITO-Schichten 4, 5 sind im sichtbaren Spektralbereich praktisch absorptionsfrei; der Imaginärteil ihres Brechungsindex liegt nach der Wärmebehandlung deutlich unter 0,01 (bei 450 nm).

Beispiel 3 (Fig. 4)

Eine 10.10 cm² große, 2 mm dicke Floatglasscheibe 1 wird in eine Labor-Beschichtungs anlage eingeschleust. Sodann wird ausgehend von einem keramischen ITO-Target mit Argon- Sputtergas Zusatz von Sauerstoff eine untere Einbettungsschicht 5 aus suboxidischem ITO gesputtert, deren Dicke etwa 40 nm beträgt. Anschließend wird in sauerstofffreier Atmo sphäre eine erste, 12 nm dicke Silberschicht 3 aufgebracht. Auf die erste Silber-Schicht 3 werden wie zuvor beschrieben nacheinander eine weitere suboxidische ITO-Schicht 4 (80 nm), eine zweite Silberschicht 13 (12 nm) und eine dritte suboxidische ITO-Schicht 14 (40 nm) aufgebracht. Die derart beschichtete Glasscheibe 1 hat eine Lichtdurchlässigkeit von 39% und die Beschichtung 2 hat einen Flächenwiderstand von 3,5 Ω.

Die zweite ITO-Schicht 4 ist gleichzeitig obere Einbettungsschicht für die erste Silberschicht 3 und untere Einbettungsschicht für die zweite Silberschicht 13. Sie hat eine solche Dicke, daß sie als entspiegelnde Fabry-Perot-Abstandsschicht für die beiden Silberschichten 3, 13 wirkt.

Die beschichtete Glasscheibe 1 wird in einen auf 650°C aufgeheizten Ofen geschoben und nach 10 Minuten wieder herausgenommen. Ihre Lichtdurchlässigkeit liegt nach dieser Wärmebehandlung bei 80%, und die Beschichtung hat einen Flächenwiderstand von 1,8 Ω. Für den Streulichtanteil wird ein Wert von weniger als 0,2% gemessen.

In einer Variante wird so vorgegangen, daß die suboxidischen ITO-Schichten 4, 5, 14 in einer hauptsächlich Ar enthaltenden Beschichtungsatmosphäre gesputtert werden, der geringfügig Sauerstoff zugesetzt wird (4 sccm). Dieser Sauerstoffzusatz ist so gering bemessen, daß der Imaginärteil des Brechungsindex der suboxidischen ITO-Schichten 4, 5, 14 bei 450 nm mehr als 0,01 beträgt. Die Lichtdurchlässigkeit der beschichteten Glasscheibe 1 beträgt nach der Fertigstellung der Beschichtung 2 und vor der Wärmebehandlung 53%. Der Flächenwider stand der Beschichtung 2 beträgt 3,3 Ω.

Nach der Wärmebehandlung ergibt sich eine Lichtdurchlässigkeit der vorgespannten Glas scheibe mit Low-E-Beschichtung von 80% und ein Flächenwiderstand der Beschichtung von 1,8 Ω. Die thermisch behandelten Glasscheiben zeigen kein störendes Streulicht. In beiden Fällen sind die zuvor suboxidischen ITO-Schichten im sichtbaren Spektralbereich praktisch absorptionsfrei.

Beispiel 4 (Fig. 5)

Mehrere 2,1 mm dicke Floatglasscheiben 1 werden in eine Beschichtungsanlage einge schleust. Es wird jeweils folgende Beschichtung 2 mittels Magnetron-Kathodenzerstäubung aufgebracht:

- eine untere dielektrische Schicht 6 aus SnO₂ (24 nm)
- eine untere Einbettungsschicht 5 aus suboxidischem ITO (15 nm)
- eine erste Silberschicht 3 (7 nm)
- eine erste obere Einbettungsschicht 4 aus suboxidischem ITO (15 nm)
- eine mittlere dielektrische Schicht 7 aus SnO₂ (66 nm)
- eine zweite untere Einbettungsschicht 15 aus suboxidischem ITO (15 nm)
- eine zweite Silberschicht 13 aus Silber (8 nm)
- eine zweite obere Einbettungsschicht 14 aus suboxidischem ITO (15 nm)
- eine obere dielektrische Schicht 17 aus SnO₂ (20 nm).

Die SnO₂-Schichten werden in einer reaktiven Ar/O₂-Atmosphäre gesputtert, die suboxidi schen ITO-Schichten werden von einem suboxidischen ITO-Target in einer Ar-Atmosphäre gesputtert. Die Silberschichten werden in einer Ar-Atmosphäre gesputtert.

Die Lichtdurchlässigkeit der beschichteten Glasscheiben 1 liegt nach der Fertigstellung der Beschichtung 2 bei 66,6%, der Flächenwiderstand der Beschichtung 2 liegt bei 4,7 Ω. Der Streulichtanteil liegt bei 0,11%.

Die beschichteten Glasscheiben 1 werden in einem Ofen für 5 Minuten einer Temperatur von 650°C ausgesetzt, ein Teil der Glasscheiben 1 wird unter Schwerkrafteinfluß gebogen, ein anderer Teil wird in einer Zangenhalterung frei aufgehängt und nicht verformt.

Nach der thermischen Behandlung ergeben sich an den planen Glasscheiben folgende Meß werte: Lichtdurchlässigkeit 77,6%, Flächenwiderstand der Beschichtung 2,7 Ω, Streulicht anteil 0,12%. Die Meßwerte der gebogenen Glasscheiben liegen in der gleichen Größen ordnung.

Gegenbeispiel 1

In einer Labor-Beschichtungsanlage wird auf 10.10 cm² große, 2 mm dicke Floatglas scheiben ein Doppelsilber-Schichtsystem mit einer Schichtfolge SnO₂ (29 nm)/ITO (10 nm) /Ag (8 nm)/ITO (10 nm)/SnO₂(76 nm)/ITO (10 nm)/Ag (8 nm)/ITO (10 nm)/SnO₂ (25 nm) aufgebracht. Im Unterschied zur Beschichtung gemäß Beispiel 4 werden allerdings die vier ITO-Schichten durch Sputtern eines metallischen Indium-Zinn-Targets in einer Ar/O₂-Atmosphäre hergestellt. Der Sauerstoff-Fluß wird so bemessen, daß die resultierenden ITO-Schichten vollständig oxidiert sind und keine Absorption aufweisen, so daß der Imagi närteil ihres Brechungsindex bei 450 nm unter 0,01 liegt. Das wird bei der verwendeten Be schichtungsanlage dadurch erreicht, daß bei einer Sputterleistung von 300 W ein Sauerstoff- Fluß von 22 sccm O₂ eingestellt wird.

Die derart beschichtete Glasscheibe wird in einem Laborofen 10 min. lang auf 650°C aufge heizt. Die Lichttransmission steigt im Laufe der Wärmebehandlung geringfügig von 80 auf 81% an. Der Flächenwiderstand sinkt leicht von 3,0 Ω auf 2,7 Ω. Allerdings zeigt diese Glas scheibe nach der Wärmebehandlung einen hohen Streulichtanteil von über 0,5%, so daß sie etwa als Windschutzscheibe für Kraftfahrzeuge wegen des dort erforderlichen niedrigen Streulichtanteils nicht verkaufsfähig wäre.

Gegenbeispiel 2

Eine 3,2.6,0 m² große, 4 mm dicke Floatglasscheibe wird in eine Durchlauf-Beschichtungs anlage eingeschleust. Danach werden nacheinander eine SnO₂-Schicht (35 nm), eine vollstän dig oxidierte ITO-Schicht (3 nm), eine Silberschicht (8 nm), eine NiCr-Schicht (3 nm), eine weitere vollständig oxidierte ITO-Schicht (3 nm) und eine SnO₂-Schicht (35 nm) aufgetragen. Die ITO-Schichten werden von einem metallischen Indium-Zinn-Target in einer Ar/O₂- Atmosphäre gesputtert, so daß sie praktisch keine Absorption im sichtbaren Spektralbereich zeigen.

10.10 cm² große Stücke dieser Floatglasscheibe werden in einem Laborofen 10 min. lang auf 650°C aufgeheizt. Nach der Wärmebehandlung zeigen diese Glasscheiben starkes Streu licht (Streulichtanteil über 1,2%). Während sich die Lichtdurchlässigkeit der beschichteten Glasscheiben von 85% während der Wärmebehandlung nicht nennenswert ändert, nimmt der Flächenwiderstand von 8 auf 12,5 Ω zu. Damit sind diese Scheiben nicht als Low-E- oder Sonnenschutzscheiben verwendbar.

Es versteht sich, daß die Anwendung der Erfindung nicht auf die Schichtaufbauten der Bei spiele beschränkt ist. Es liegt insbesondere im Rahmen der Erfindung, andere Materialien für die dielektrischen Schichten als SnO₂ zu verwenden oder innerhalb der Beschichtung unter schiedliche Materialien für die dielektrischen Schichten - soweit vorhanden - einzusetzen. Die Tatsache, daß eine Schichtdicke von etwa 10 nm oder weniger für die erfindungsgemäße obere und ggfs. untere Einbettungsschicht(en) aus suboxidischem ITO ausreicht, um die Silberschicht(en) effektiv zu schützen, erlaubt die Herstellung einer großen Vielzahl von Schichtsystemen, die je nach Anwendung durch geeignete Dicken- und Materialauswahlen der Einzelschichten optimiert sind, ohne von der Grundidee der Erfindung abzuweichen.

Bezugszeichenliste

1

(Float-)Glasscheibe

2

Beschichtung

3

Silberschicht

4

obere Einbettungsschicht

5

untere Einbettungsschicht

6

dielektrische Schicht

7

dielektrische Schicht

8

Haftschicht

9

Schutzschicht

13

Silberschicht

14

obere Einbettungsschicht

15

untere Einbettungsschicht

17

dielektrische Schicht

18

Haftschicht

Claims

1. Glasscheibe als Vorprodukt für die Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebo genen Glasscheibe, mit einer Beschichtung (2), die mindestens eine Schichtfolge aus
einer lichtdurchlässigen Silberschicht (3, 13),
einer unter der Silberschicht (3, 13) angeordneten unteren Einbettungsschicht (5, 15) und
einer über der Silberschicht (3, 13) angeordneten suboxidischen oberen Einbet tungsschicht (4, 14)
umfaßt,
dadurch gekennzeichnet, daß
die mindestens 3 nm dicke obere Einbettungsschicht (4, 14) aus suboxidischem ITO (In dium-Zinn-Oxid) besteht.

2. Glasscheibe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Atomverhältnis von In zu Sn in der oberen Einbettungsschicht (4, 14) bei 80 : 20 bis 99 : 1 liegt, vorzugsweise bei etwa 90 : 10.

3. Glasscheibe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Sauerstoffdefizit und die Dicke der oberen Einbettungsschicht (4, 14) so eingestellt sind, daß während eines nachfolgenden thermischen Vorspann- u/o Biegeprozesses der Flächenwiderstand der Be schichtung (2) gleichbleibt oder abnimmt, die Lichtdurchlässigkeit der fertig beschichte ten Glasscheibe (1, 2) zunimmt und der Streulichtanteil der beschichteten Glasscheibe (1, 2) 0,5% nicht überschreitet.

4. Glasscheibe nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Sauerstoffdefizit der oberen Einbettungsschicht (4, 14) so eingestellt ist, daß der Imagi närteil des komplexen Brechungsindex der oberen Einbettungsschicht (4, 14) bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mehr als 0,01 und nach einem nachfolgenden thermischen Vorspann- oder Biegeprozeß weniger als 0,01 be trägt.

5. Glasscheibe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Imaginärteil des kom plexen Brechungsindex der oberen Einbettungsschicht (4, 14) bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mindestens 0,04 beträgt.

6. Glasscheibe einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die min destens 3 nm dicke untere Einbettungsschicht (5, 15) aus suboxidischem ITO besteht.

7. Glasscheibe nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Atomverhältnis von In zu Sn in der unteren Einbettungsschicht (5, 15) bei 80 : 20 bis 99 : 1 liegt, vorzugsweise bei etwa 90 : 10.

8. Glasscheibe nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Sauerstoffdefizit der unteren Einbettungsschicht (5, 15) so eingestellt ist, daß der Imaginärteil des komple xen Brechungsindex der unteren Einbettungsschicht (5, 15) bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mehr als 0,01 und nach einem nach folgenden thermischen Vorspann- oder Biegeprozeß weniger als 0,01 beträgt.

9. Glasscheibe nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Imaginärteil des kom plexen Brechungsindex der unteren Einbettungsschicht (5, 15) bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mindestens 0,04 beträgt.

10. Glasscheibe nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung (2) außerdem mindestens eine unterhalb der unteren Einbettungsschicht (5, 15) u/o oberhalb der oberen Einbettungsschicht (4, 14) angeordnete dielektrische Schicht (6, 7, 17) umfaßt.

11. Glasscheibe nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die mind. eine dielektrische Schicht (6, 7, 17) überwiegend aus einem Oxid von Sn, Ti, Zn, Nb, Ce, Hf, Ta, Zr, Al u/o Si u/o einem Nitrid von Si u/o Al besteht.

12. Glasscheibe nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Silberschicht (3, 13) und der oberen Einbettungsschicht (4, 14) eine dünne Haftschicht (8), insbesondere aus Cr, Ni, NiCr, Zr u/o Ti oder Edelstahl oder deren Suboxiden, angeordnet ist.

13. Glasscheibe nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung (2) eine dünne äußere Schutzschicht (9) aus einem Metalloxid, Metall oxinitrid oder Metallnitrid umfaßt.

14. Verfahren zur Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glasscheibe mit einer Sonnenschutz- u/o Low-E-Beschichtung, dadurch gekennzeichnet, daß ein thermi scher Vorspann- u/o Biegeprozeß mit einer Temperatur von 620 ± 50°C bei einer Vorpro dukt-Glasscheibe nach einem der vorangehenden Ansprüche durchgeführt wird.

15. Verfahren zur Herstellung einer thermisch vorgespannten u/o gebogenen Glasscheibe mit einer Low-E- u/o Sonnenschutz-Beschichtung, wobei zunächst eine Beschichtung (2) auf eine plane Glasscheibe (1) aufgebracht wird, die mindestens eine mittels Magnetron- Kathodenzerstäubung aufgebrachte Schichtfolge aus einer lichtdurchlässigen Silberschicht (3, 13), einer unter der Silberschicht (3, 13) angeordneten unteren Einbettungsschicht (5, 15) und einer über der Silberschicht (3, 13) angeordneten suboxidischen oberen Einbet tungsschicht (4, 14) umfaßt, und wobei nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) die Glasscheibe (1) einem thermischen Vorspann- u/o Biegeprozeß unterworfen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens 3 nm dicke obere Einbettungsschicht (4, 14) als suboxidische ITO-Schicht (Indium-Zinn-Oxid-Schicht) aufgebracht wird, derart, daß sie sich auch nach der Fertig stellung der Beschichtung (2) noch in suboxidischem Zustand befindet.

16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Einbettungsschicht (4, 14) als suboxidische ITO-Schicht mit einem Atomverhältnis von In zu Sn zwischen 80 : 20 und 99 : 1, vorzugsweise von etwa 90 : 10, aufgebracht wird.

17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß das Sauerstoffdefizit und die Dicke der oberen Einbettungsschicht (4, 14) so eingestellt werden, daß während eines nachfolgenden thermischen Vorspann- u/o Biegeprozesses der Flächenwiderstand der Beschichtung (2) gleichbleibt oder abnimmt, die Lichtdurchlässigkeit der fertig beschichteten Glasscheibe (1, 2) zunimmt und der Streulichtanteil der beschichteten Glas scheibe (1, 2) 0,5% nicht überschreitet.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 17 dadurch gekennzeichnet, daß die obere Einbettungsschicht (4, 14) unter solchen Beschichtungsbedingungen aufgebracht wird, daß der Imaginärteil ihres komplexen Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mehr als 0,01, vorzugsweise mindestens 0,04, und nach dem thermischen Vorspann- oder Biegeprozeß weniger als 0,01 beträgt.

19. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Einbettungsschicht (4, 14) durch Sputtern eines suboxidischen ITO-Targets in einer allen falls geringfügig Sauerstoff enthaltenden, insbesondere sauerstofffreien, Beschich tungsatmosphäre hergestellt wird.

20. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Einbettungsschicht (4, 14) durch Sputtern eines Indium-Zinn-Targets in einer Beschich tungsatmosphäre hergestellt wird, deren Sauerstoffgehalt niedriger eingestellt ist, als er zur Herstellung einer vollständig oxidierten ITO-Schicht erforderlich wäre.

21. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die minde stens 3 nm dicke untere Einbettungsschicht (5, 15) als suboxidische ITO-Schicht (Indium- Zinn-Oxid-Schicht) aufgebracht wird, derart, daß sie sich auch nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) sich noch in suboxidischem Zustand befindet.

22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die untere Einbettungsschicht (5, 15) als ITO-Schicht mit einem Atomverhältnis von In zu Sn zwischen 80 : 20 und 99 : 1, vorzugsweise von etwa 90 : 10, aufgebracht wird.

23. Verfahren nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß die untere Einbet tungsschicht (5, 15) unter solchen Beschichtungsbedingungen aufgebracht wird, daß der Imaginärteil ihres komplexen Brechungsindex bei einer Wellenlänge von 450 nm nach der Fertigstellung der Beschichtung (2) mehr als 0,01, vorzugsweise mindestens 0,04, und nach dem thermischen Vorspann- u/o Biegeprozeß weniger als 0,01 beträgt.

24. Verfahren nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die untere Einbettungsschicht (5, 15) durch Sputtern eines suboxidischen ITO-Targets in einer allen falls geringfügig Sauerstoff enthaltenden, insbesondere sauerstofffreien, Beschichtungs atmosphäre hergestellt wird.

25. Verfahren nach einem Anspruch 21 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die untere Ein bettungsschicht (5, 15) durch Sputtern eines Indium-Zinn-Targets in einer Beschichtungs atmosphäre hergestellt wird, deren Sauerstoffgehalt niedriger eingestellt ist, als er zur Herstellung einer vollständig oxidierten ITO-Schicht erforderlich wäre.

26. Thermisch vorgespannte u/o gebogene Glasscheibe mit einer Sonnenschutz- u/o Low-E- Beschichtung, die nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 15-25 hergestellt wurde.