JP2016225388A - バックグラインドテープ - Google Patents
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Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記基材と、上記粘着剤層との間に、帯電防止層をさらに備え、該帯電防止層が、上記帯電防止材を含む。
1つの実施形態においては、上記基材が、帯電防止材を含み、該帯電防止材が、該基材中の上記被研削領域以外の領域に存在する。
本発明のバックグラインドテープは、半導体ウエハのバックグラインド工程に用いられるテープであって、基材と、該基材の片側に配置された粘着剤層とを備え、該基材が、バックグラインド工程において研削される被研削領域を有し、該バックグラインドテープ中の該被研削領域以外の部分に、帯電防止材を含む。帯電防止材を含むバックグラインドテープは、被着体である半導体ウエハに形成された回路等が、電気的な作用により破損することを防止し得る。
上記基材を構成する材料としては、任意の適切な材料が選択され得る。基材を構成する材料としては、例えば、樹脂系材料(例えば、シート状、ネット状、織布、不織布、発泡シート)、紙、金属等が挙げられる。基材は、単層であってもよく、同一材料または異なる材料から構成される複層であってもよい。基材層を構成する樹脂の具体例としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリイミド、セルロース系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテル、ポリスチレン系樹脂(ポリスチレンなど)、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホンおよびこれらの架橋体等が挙げられる。
C−1.帯電防止層
上記のとおり、1つの実施形態においては、帯電防止材を含む帯電防止層が特定の箇所に配置される。この実施形態における帯電防止層としては、例えば、樹脂を含む帯電防止層(形態(1a))、金属または金属酸化物から構成される帯電防止層(形態(1b))等が挙げられる。
1つの実施形態においては、帯電防止層は、帯電防止材およびバインダー樹脂を含む(形態(1a−1))。
上記形態(1b)において、帯電防止層は、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な金属または金属酸化物から形成される。金属としては、例えば、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、およびそれらの合金又は混合物が挙げられる。なかでも好ましくは、アルミニウムである。また、金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム等が挙げられる。
上記のとおり、1つの実施形態においては、上記基材に帯電防止材を含有させる。この実施形態に用いられる基材としては、上記樹脂から構成される基材が挙げられる。帯電防止材としては、任意の適切な帯電防止材が用いられ得る。例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の導電性ポリマー;上記C−1項で挙げた帯電防止剤等が用いられ得る。
上記粘着剤層は、任意の適切な粘着剤により形成され得る。粘着剤としては、活性エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等の硬化型粘着剤;ポリオレフィン系粘着剤;アクリル系粘着剤;スチレン系粘着剤等が挙げられる。好ましくは、硬化型樹脂をベースポリマーとして含む硬化型粘着剤(より好ましくは、活性エネルギー線硬化型粘着剤)が用いられる。
エチルアクリレート50重量部と、ブチルアクリレート50重量部と、アクリル酸3重量部と、トルエン50重量部とを混合し、これらのモノマーを共重合させて、数平均分子量100万のアクリル系樹脂を含む樹脂液を得た。固形分100重量部を含む上記樹脂液に、エポキシ系架橋剤(三菱ガス化学社製、商品名「テトラッドC」)0.5重量部と、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」2重量部とを添加して、粘着剤を得た。
得られた粘着剤を、離型処理されたセパレーターに塗布して、粘着剤層(厚み:50μm)を形成した。
帯電防止層と基材との積層体(パナック社製、商品名「パナクレア AS−B」、厚み:50μm)の該帯電防止層側に、上記粘着剤層を転写して、バックグラインドテープ(基材/帯電防止層/粘着剤層)を得た。なお、上記積層体は、PET基材(厚み:50μm)の片面に、帯電防止処理が施されたものである。
帯電防止層と基材との積層体(パナック社製、商品名「パナクレア AS−B」)に代えて、帯電防止層と基材との積層体(ジェイフィルム社製、商品名「エペルフィルム」、厚み:32μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてバックグラインドテープ(基材/帯電防止層/粘着剤層)を得た。なお、この実施例で用いた積層体は、PET基材(厚み:12μm)と、帯電防止材を含むポリエチレン樹脂層(帯電防止層、厚み:20μm)との積層体である。
帯電防止層と基材との積層体(パナック社製、商品名「パナクレア AS−B」)に代えて、帯電防止フィルム(東レ社製、商品名「トレファン2548」、厚み:60μm)を用い、該帯電防止フィルムの片面に上記粘着剤層を転写したこと以外は、実施例1と同様にしてバックグラインドテープ(帯電防止材を含む基材/粘着剤層)を得た。なお、この実施例で用いた帯電防止フィルムは、帯電防止材を含むポリプロピレンフイルムである。
実施例1と同様にして、粘着剤を得た。得られた粘着剤を離型処理されたセパレーターに塗布して、粘着剤層(厚み:50μm)を形成した。
帯電防止層と基材との積層体(パナック社製、商品名「パナクレア AS−B」、厚み:50μm)の該基材側に、上記粘着剤層を転写して、バックグラインドテープ(帯電防止層/基材/粘着剤層)を得た。
(1)評価用サンプルの作製
得られたバックグラインドテープを、常温下で、2kgローラーを用いて、非感光性ポリイミドコーティングが施されたシリコンミラーウエハ(6インチ、CZ、P型、結晶方位<100>)に貼り付けた。その後、バックグラインドテープのシリコンミラーウエハとは反対側(すなわち、貼着面とは反対側)を、サーフェスプレーナー(Disco社製、商品名「DFS3910」)を用いて研削した。研削厚みは20μmとした。
(2)剥離帯電量測定
上記サンプルを作製して30分後、貼り付けたバックグライドテープを引き剥がし、その際にシリコンミラーウエハ表面で発生する帯電量を測定した。測定環境は、23℃、65%RHとした。引き剥がし条件は、引き剥がし速度10m/min、引き剥がし角度180°とした。帯電量の測定には、Electro−tech systems Inc社製のスタティックメータ(Model 212)を用い、シリコンミラーウエハからの距離を10cmとして測定した。
結果を表1に示す。
20 粘着剤層
30 帯電防止層
100 バックグラインドテープ
Claims (3)
- 半導体ウエハのバックグラインド工程に用いられる、バックグラインドテープであって、
基材と、該基材の片側に配置された粘着剤層とを備え、
該基材が、該バックグラインド工程において研削される被研削領域を有し、
該バックグラインドテープ中の該被研削領域以外の部分に、帯電防止材を含む、
バックグラインドテープ。 - 前記基材と、前記粘着剤層との間に、帯電防止層をさらに備え、
該帯電防止層が、前記帯電防止材を含む、
請求項1に記載のバックグラインドテープ。 - 前記基材が、前記帯電防止材を含み、
該帯電防止材が、該基材中の前記被研削領域以外の領域に存在する、
請求項1または2に記載のバックグラインドテープ。
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