JP2016212837A - 基準電圧生成回路、レギュレータ、半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、半導体装置1の全体構成例を示すブロック図である。本構成例の半導体装置1は、入力電圧Vinから電源変動や温度変動の影響を受けにくい出力電圧Vout1〜Vout3を生成して装置外部に出力する電圧リファレンスICであり、プリレギュレータ10と、基準電圧生成回路20と、レギュレータ30と、バッファ40と、不揮発性メモリ50と、を集積化して成る。なお、出力電圧Vout1〜Vout3は、後段に接続されるコンパレータやオペアンプなどのリファレンスとして好適に利用することができる。
図2は、プリレギュレータ10の一構成例を示す回路図である。本構成例のプリレギュレータ10は、バンドギャップ基準電圧源11と、オペアンプ12及び13と、抵抗14〜17と、を含む。
図3は、基準電圧生成回路20の第1構成例を示す回路図である。第1構成例の基準電圧生成回路20としては、バンドギャップ基準電圧源21を好適に用いることができる。バンドギャップ基準電圧源21は、抵抗R1〜R3(いずれもポリ抵抗)と、ダイオードD1及びD2と、オペアンプAMPと、を含む。
図5は、基準電圧生成回路20の第2構成例を示す回路図である。第2構成例の基準電圧生成回路20は、第1バンドギャップ基準電圧源21Aと、第2バンドギャップ基準電圧源21Bと、第3バンドギャップ基準電圧源21Cと、セレクタ22と、第1コンパレータ23xと、第2コンパレータ23yと、論理演算部24と、を含む。
図7は、基準電圧生成回路20の第3構成例を示す回路図である。第3構成例は、先の第1構成例(図3)をベースとしつつ、抵抗R2がポリ抵抗部R2aと拡散抵抗部R2bとを組み合わせて成る点に特徴を有する。そこで、第1構成例と同様の構成要素については、図1と同一の符号を付すことで重複した説明を割愛し、以下では、第3構成例の特徴部分について重点的な説明を行う。
図11は、基準電圧生成回路20の第4構成例を示す回路図である。第4構成例は、先の第3構成例(図7)をベースとしつつ、第2抵抗R2にトリミング機能(=ポリ抵抗部R2aと拡散抵抗部R2bとの配合比率を調整する機能)を追加した点に特徴を有する。そこで、第3構成例と同様の構成要素については、図7と同一の符号を付すことで重複した説明を割愛し、以下では、第4構成例の特徴部分について重点的な説明を行う。
図12は、基準電圧生成回路20の第5構成例を示す回路図である。第5構成例は、先の第4構成例(図11)をベースとしつつ、第1抵抗R1にも形式的なトリミング機能を追加した点に特徴を有する。そこで、第4構成例と同様の構成要素については、図11と同一の符号を付すことで重複した説明を割愛し、以下では、第5構成例の特徴部分について重点的な説明を行う。
図13は、レギュレータ30の第1構成例を示す回路図である。第1構成例のレギュレータ30は、オペアンプAMP1と、抵抗ラダーRL1と、スイッチ群SW1と、デコーダDEC1と、を含む。なお、デコーダDEC1に入力されるトリミング信号Strimは、不揮発性メモリ50から読み出される。
図14は、レギュレータ30の第2構成例を示す回路図である。第2構成例のレギュレータ30は、オペアンプAMP2と、抵抗ラダーRL2と、スイッチ群SW2と、デコーダDEC2と、を含む。なお、デコーダDEC2に入力されるトリミング信号Strimは、不揮発性メモリ50から読み出される。
図15は、レギュレータ30の第3構成例を示す回路図である。第3構成例のレギュレータ30は、オペアンプAMP3と、抵抗ラダーRL3と、スイッチ群SW31及びSW32と、デコーダDEC3と、を含む。なお、デコーダDEC3に入力されるトリミング信号Strimは、不揮発性メモリ50から読み出される。
なお、本明細書中に開示されている種々の技術的特徴は、上記実施形態のほか、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。例えば、バイポーラトランジスタとMOS電界効果トランジスタとの相互置換や、各種信号の論理レベル反転は任意である。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
10 プリレギュレータ
11 バンドギャップ基準電圧源
12、13 オペアンプ
14〜17 抵抗
20 基準電圧生成回路
21、21A〜21C バンドギャップ基準電圧源
22 セレクタ
22A〜22C PMOSFET
23x、23y コンパレータ
24 論理演算部
24a ANDゲート
24b NANDゲート
24c ORゲート
30 レギュレータ
40 バッファ
50 不揮発性メモリ
100 半導体装置
101 半導体基板
102 第1低濃度n型拡散領域
103 高濃度n型拡散領域
104 第2低濃度n型拡散領域(トンネル領域)
105 シリサイド電極
106 配線
107 絶縁層
108 素子分離領域
109 浮遊ゲート領域
R1、R2、R3 抵抗
D1、D2 ダイオード
AMP オペアンプ
N1〜N8 NMOSFET
INV1〜INV4 インバータ
R1a、R1b、R2a ポリ抵抗部
R2b 拡散抵抗部
r1〜r10 要素抵抗
TRIM1、TRIM2 トリミング部
RL1〜RL3 抵抗ラダー
R11、R12 抵抗
R13 抵抗列
R13(1)〜R13(m) 抵抗
R21、R22 抵抗
R23 抵抗列
R23(1)〜R23(n) 抵抗
R31、R32 抵抗列
R31(1)〜R31(i) 抵抗
R32(1)〜R32(j) 抵抗
R33、R34 抵抗
SW1、SW2、SW31、SW32 スイッチ群
P1()、P2()、P31()、P32() PMOSFET
AMP1〜AMP3 オペアンプ
DEC1〜DEC3 デコーダ
Claims (31)
- 第1基準電圧を生成する第1基準電圧源と、
前記第1基準電圧とは温度特性の異なる第2基準電圧を生成する第2基準電圧源と、
前記第1基準電圧と前記第2基準電圧とを比較して第1比較信号を生成する第1コンパレータと、
前記第1比較信号に応じて前記第1基準電圧と前記第2基準電圧の一方を基準電圧として選択出力するセレクタと、
を有することを特徴とする基準電圧生成回路。 - 前記第1基準電圧及び前記第2基準電圧のいずれとも温度特性の異なる第3基準電圧を生成する第3基準電圧源と、
前記第2基準電圧と前記第3基準電圧とを比較して第2比較信号を生成する第2コンパレータと、
前記第1比較信号と前記第2比較信号から切替信号を生成する論理演算部と、
をさらに有し、
前記セレクタは、前記切替信号に応じて前記第1基準電圧、前記第2基準電圧、及び、前記第3基準電圧のいずれかを前記基準電圧として選択出力することを特徴とする請求項1に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第1基準電圧は−20℃付近で極大となり、前記第2基準電圧は+40℃付近で極大となり、前記第3基準電圧は+100℃付近で極大となることを特徴とする請求項2に記載の基準電圧生成回路。
- 各基準電圧源は、いずれもバンドギャップ基準電圧源であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の基準電圧生成回路。
- 各基準電圧源は、
アンプと、
前記アンプの出力端と前記アンプの第1入力端との間に接続された第1抵抗と、
前記アンプの出力端と前記アンプの第2入力端との間に接続された第2抵抗と、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された第3抵抗と、
前記アンプの第1入力端と接地端との間に接続された第1ダイオードと、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された複数並列の第2ダイオードと、
を各々含むことを特徴とする請求項4に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第2抵抗と前記第3抵抗の抵抗比は、各基準電圧源毎に異なることを特徴とする請求項5に記載の基準電圧生成回路。
- アンプと、
前記アンプの出力端と前記アンプの第1入力端との間に接続された第1抵抗と、
前記アンプの出力端と前記アンプの第2入力端との間に接続された第2抵抗と、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された第3抵抗と、
前記アンプの第1入力端と接地端との間に接続された第1ダイオードと、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された複数並列の第2ダイオードと、
を有し、
前記第1抵抗及び前記第2抵抗の一方は、
第1抵抗部と、
前記第1抵抗部とは異なる温度特性を備えた第2抵抗部と、
トリミング信号に応じて前記第1抵抗部及び前記第2抵抗部の各抵抗値を合成抵抗値不変で調整する第1トリミング部と、
を含むことを特徴とする基準電圧生成回路。 - 前記第2抵抗部は、第1抵抗値を持つ第1要素抵抗と、前記第1抵抗値とは異なる第2抵抗値を持つ第2要素抵抗とを含み、
前記第1抵抗部は、前記第1抵抗値を持つ第3要素抵抗と、前記第2抵抗値を持つ第4要素抵抗とを含み、
前記第1トリミング部は、前記第1要素抵抗に並列接続された第1トランジスタと、前記第2要素抵抗に並列接続された第2トランジスタと、前記第3要素抵抗に並列接続された第3トランジスタと、前記第4要素抵抗に並列接続された第4トランジスタとを含み、
前記第1トランジスタと前記第4トランジスタがオンするときには、前記第2トランジスタと前記第3トランジスタがオフし、前記第1トランジスタと前記第4トランジスタがオフするときには、前記第2トランジスタと前記第3トランジスタがオンすることを特徴とする請求項7に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第1抵抗部は、第3抵抗値を持つ第5要素抵抗をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の基準電圧生成回路。
- 前記第1抵抗及び前記第2抵抗の他方は、
前記第1抵抗部と同一の温度特性を備えた第3抵抗部及び第4抵抗部と、
前記トリミング信号に応じて前記第3抵抗部及び前記第4抵抗部の各抵抗値を合成抵抗値不変で調整する第2トリミング部と、
を含むことを特徴とする請求項6〜請求項9の何れか一項に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第3抵抗部は、前記第1抵抗値を持つ第6要素抵抗と、前記第2抵抗値を持つ第7要素抵抗とを含み、
前記第4抵抗部は、前記第1抵抗値を持つ第8要素抵抗と、前記第2抵抗値を持つ第9要素抵抗と、を含み、
前記第2トリミング部は、前記第6要素抵抗に並列接続された第5トランジスタと、前記第7要素抵抗に並列接続された第6トランジスタと、前記第8要素抵抗に並列接続された第7トランジスタと、前記第9要素抵抗に並列接続された第8トランジスタとを含み、
前記第5トランジスタと前記第8トランジスタがオンするときには、前記第6トランジスタと前記第7トランジスタがオフし、前記第5トランジスタと前記第8トランジスタがオフするときには、前記第6トランジスタと前記第7トランジスタがオンすることを特徴とする請求項10に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第3抵抗部は、前記第3抵抗値を持つ第10要素抵抗をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の基準電圧生成回路。
- アンプと、
前記アンプの出力端と前記アンプの第1入力端との間に接続された第1抵抗と、
前記アンプの出力端と前記アンプの第2入力端との間に接続された第2抵抗と、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された第3抵抗と、
前記アンプの第1入力端と接地端との間に接続された第1ダイオードと、
前記アンプの第2入力端と接地端との間に接続された複数並列の第2ダイオードと、
を有し、
前記第1抵抗及び前記第2抵抗の一方は、ポリ抵抗部と拡散抵抗部とを組み合わせて成ることを特徴とする基準電圧生成回路。 - 前記第1抵抗と前記第2抵抗は、いずれも同一の抵抗値を持つように設計されていることを特徴とする請求項13に記載の基準電圧生成回路。
- 前記拡散抵抗部の抵抗値は、温度変化に対して極小値を持つことを特徴とする請求項13または請求項14に記載の基準電圧生成回路。
- 前記拡散抵抗部は、
p型の半導体基板に形成された一対の第1低濃度n型拡散領域と、
前記一対の第1低濃度n型拡散領域に各々形成された一対の高濃度n型拡散領域と、
前記一対の第1低濃度n型拡散領域に挟まれる形で前記半導体基板に形成された第2低濃度n型拡散領域と、
前記一対の高濃度n型拡散領域に各々形成された一対の電極と、
を含むことを特徴とする請求項13〜請求項15のいずれか一項に記載の基準電圧生成回路。 - 前記第2低濃度n型拡散領域は、前記拡散抵抗部の抵抗値が温度変化に対して極小値を持つように、その不純物濃度が調整されていることを特徴とする請求項16に記載の基準電圧生成回路。
- 前記拡散抵抗部は、不揮発性メモリを形成する浮遊ゲート型のセルトランジスタを流用して形成されていることを特徴とする請求項13〜請求項17のいずれか一項に記載の基準電圧生成回路。
- 帰還電圧が基準電圧と一致するように増幅電圧を出力するアンプと、
前記増幅電圧を分圧して前記帰還電圧を生成する抵抗ラダーと、
前記抵抗ラダーに含まれる第1抵抗列の両端ノードまたは中間ノードから一つを選択して定電圧の出力端に接続する第1スイッチ群と、
前記抵抗ラダーに含まれる第2抵抗列に対して並列接続された第2スイッチ群と、
トリミング信号に応じて前記第1スイッチ群及び前記第2スイッチ群を制御するデコーダと、
を有することを特徴とするレギュレータ。 - 前記第1抵抗列を形成する複数の第1抵抗は、いずれも同一の抵抗値を持つことを特徴とする請求項19に記載のレギュレータ。
- 前記第2抵抗列を形成する複数の第2抵抗は、それぞれ、異なる抵抗値を持つことを特徴とする請求項19または請求項20に記載のレギュレータ。
- 前記第2抵抗列を形成する複数の第2抵抗は、いずれも、前記第1抵抗列を形成する複数の第1抵抗よりも高い抵抗値を持つことを特徴とする請求項19〜請求項21のいずれか一項に記載のレギュレータ。
- 前記複数の第1抵抗は、いずれも5kΩ未満の抵抗値を持ち、
前記複数の第2抵抗は、いずれも5kΩ以上の抵抗値を持つ、
ことを特徴とする請求項22に記載のレギュレータ。 - 前記抵抗ラダーは、
前記アンプの出力端と前記帰還電圧の出力端との間に接続された前記第1抵抗列及び前記第2抵抗列のほかに、
前記アンプの出力端と前記帰還電圧の出力端との間に接続された第3抵抗と、
前記帰還電圧の出力端と接地端との間に接続された第4抵抗と、
を含むことを特徴とする請求項19〜請求項23の何れか一項に記載のレギュレータ。 - 請求項1〜請求項18のいずれか一項に記載の基準電圧生成回路を有することを特徴とする半導体装置。
- 入力電圧から第1内部電源電圧と第2内部電源電圧を生成するプリレギュレータと、
前記第1内部電源電圧から定電圧を生成するレギュレータと、
をさらに有し、
前記基準電圧生成回路は、前記プリレギュレータから前記第2内部電源電圧の供給を受けて前記基準電圧を生成し、
前記レギュレータは、前記定電圧またはこれに応じた帰還電圧が前記基準電圧と一致するように出力帰還制御を行うことを特徴とする請求項25に記載の半導体装置。 - 請求項19〜請求項24のいずれか一項に記載のレギュレータを有することを特徴とする半導体装置。
- 入力電圧から第1内部電源電圧と第2内部電源電圧を生成するプリレギュレータと、
前記プリレギュレータから前記第2内部電源電圧の供給を受けて前記基準電圧を生成する基準電圧生成回路と、
をさらに有し、
前記レギュレータは、前記帰還電圧が前記基準電圧と一致するように、前記第1内部電源電圧から前記定電圧を生成することを特徴とする請求項27に記載の半導体装置。 - 前記定電圧の入力を受けてバッファ電圧を出力するバッファをさらに有することを特徴とする請求項26または請求項28に記載の半導体装置。
- 前記第1内部電源電圧、前記定電圧、及び、前記バッファ電圧の少なくとも一つを外部出力することを特徴とする請求項29に記載の半導体装置。
- トリミング信号を不揮発的に格納する不揮発性メモリをさらに有することを特徴とする請求項25〜請求項30のいずれか一項に記載の半導体装置。
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