JP2016210990A5

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Publication number: JP2016210990A5
Application number: JP2016095578A
Authority: JP
Filing date: 2016-05-11
Publication date: 2019-05-09
Anticipated expiration: 2036-05-11

Claims

少なくとも５０モル％のエキソ−オレフィン含量を有するポリブテンの調製のための方法であって、該方法は、
イソブテンまたはイソブテン含有モノマー混合物を、ルイス塩基と複合体化したルイス酸触媒と、非極性重合媒体中で接触させる工程、ならびに
開始剤を用いて、該イソブテンまたはイソブテン含有モノマー混合物の重合を開始する工程
を含み、該ルイス酸触媒は、式ＭＲ”_mＹ_n
（式中、Ｍは、Ａｌ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｈｆ、ＺｒまたはＷから選択される金属であり；Ｒ”は、ヒドロカルビル（hydrocarbyl）基であり；Ｙはハロゲンであり；ｍは０または１〜５の整数であり；ｎは１〜６の整数であり、但し、ｍ＋ｎは金属Ｍの原子価と等しい）
のルイス酸であり；該ルイス塩基は、ジヒドロカルビルエーテルであり、各エーテルヒドロカルビル基は、独立して、Ｃ₁〜Ｃ₈ヒドロカルビルから選択され、該エーテルヒドロカルビル基の１つまたは各々は、電子求引基で置換され；該開始剤は、ＨＣｌ、Ｈ₂Ｏまたは式ＲＯＨ
（式中、Ｒは安定なカルボカチオンを形成し得るヒドロカルビル基であり、ヒドロキシル基に対して基Ｒを連結する炭素は、第３級(tertiary)またはベンジル性(benzylic)である）
の化合物である、方法。
該非極性重合媒体が、飽和Ｃ₄炭化水素、不飽和Ｃ₄炭化水素、およびそれらの混合物から選択される、請求項１記載の方法。
該イソブテンまたはイソブテン含有モノマー混合物が、
純粋なイソブテン；
約５％〜約５０％のブテン−１、約２％〜約４０％のブテン−２、約２％〜約６０％のイソブタン、約２％〜約２０％のｎ−ブタン、および約０．５％までのブタジエンを含むＣ₄精製所カット（refinery cut）、ここで、全てのパーセントは、Ｃ₄精製所カットの全質量に基づく質量による；または
純粋なイソブテンおよび該Ｃ₄精製所カットの混合物
から選択される、請求項１記載の方法。
実質的にまたは完全に非極性の溶媒中でのイソブテンまたはイソブテン含有モノマー混合物の重合を触媒し、少なくとも５０モル％のエキソ−オレフィン含量を有するポリブテン生成物を提供するための触媒−開始剤系（system）であって、該触媒は、ルイス塩基と複合体化したルイス酸触媒を含み、該ルイス酸触媒は、式ＭＲ”_mＹ_n
（式中、Ｍは、Ａｌ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｈｆ、ＺｒまたはＷから選択される金属であり；Ｒ”は、ヒドロカルビル（hydrocarbyl）基であり；Ｙはハロゲンであり；ｍは０または１〜５の整数であり；ｎは１〜６の整数であり、但し、ｍ＋ｎは金属Ｍの原子価と等しい）
のルイス酸であり；該ルイス塩基は、ジヒドロカルビルエーテルであり、各エーテルヒドロカルビル基は、独立して、Ｃ₁〜Ｃ₈ヒドロカルビルから選択され、該エーテルヒドロカルビル基の１つまたは各々は、電子求引基で置換され；重合は開始剤を用いて開始され、該開始剤は、ＨＣｌ、Ｈ₂Ｏまたは式ＲＯＨ
（式中、Ｒは安定なカルボカチオンを形成し得るヒドロカルビル基であり、ヒドロキシル基に対して基Ｒを連結する炭素は、第３級(tertiary)またはベンジル性(benzylic)である）
の化合物であり、該開始剤は、触媒複合体の導入とは別々におよび該導入に続いて反応混合物に導入される、触媒−開始剤系。
ＭがＡｌまたはＦｅであり、Ｒ”がＣ₁〜Ｃ₈アルキル基である、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
ＹがＣｌまたはＢｒである、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
該エーテルヒドロカルビル基の１つまたは各々が、エーテル基の酸素原子に隣接する炭素原子以外の炭素原子において該電子求引基で置換される、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
該エーテルヒドロカルビル基が、アルキル基である、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
該電子求引基がハロゲン原子である、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
該ルイス酸と該ルイス塩基が、該ルイス酸を溶媒に溶解し溶液を形成し、次いで、該溶液に該ルイス塩基を添加することによって、複合体化される、請求項１９記載の触媒−開始剤系。
該開始剤が、触媒複合体とは別々に反応混合物に導入される、請求項１９記載の触媒−開始剤系。