JP2016204727A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空排気機構と、ロール状のフィルム基材4を巻き出す巻き出しロール11と、フィルム基材4を巻き取る巻き取りロール19と、巻き出しロール11と巻き取りロール19との間に設置した温調ロール15と、搬送されるフィルム基材4の温調ロール4とは反対の面側に設置したフィルム基材4への膜形成機構とを備える成膜装置1。膜形成機構1が、フィルム基材4に成膜を行う為のマグネトロンスパッタリングカソード21と、スパッタリングカソードの前後にフィルム基材4を表面側から加熱するランプヒーター20、22とを配置し、少なくとも一方のランプヒーターは照射角度可変のリフレクターを有し、フィルム基材4を加熱しつつ連続で成膜を行う成膜装置1。
【選択図】図1
Description
(1)真空排気機構と、ロール状のフィルム基材を巻き出す巻き出しロールと、前記フィルム基材を巻き取る巻き取りロールと、前記巻き出しロールと前記巻き取りロールとの間に設置された温調ロールと、前記温調ロール上を搬送されるフィルム基材の前記温調ロールとは反対の面側に設置された該フィルム基材への膜形成機構とを備える成膜装置であって、以下の(i)〜(v)のいずれかを満たす成膜装置。
(i)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(ii)前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(iii)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(iv)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(v)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(2)前記リフレクター(C)が平行光型リフレクター、集光型リフレクターまたはパラボラ型リフレクターのいずれかである(1)に記載の成膜装置。
(3)前記リフレクター(D)が平行光型リフレクター、集光型リフレクターまたはパラボラ型リフレクターのいずれかである(1)または(2)に記載の成膜装置。
(4)前記ランプヒーター(A)および/または前記ランプヒーター(B)が0.8〜2.5μmにピーク波長をもつ赤外ヒーターである(1)〜(3)のいずれかに記載の成膜装置。
(5)前記ランプヒーター(A)および/または前記ランプヒーター(B)がハロゲンランプヒーターである(1)〜(3)のいずれかに記載の成膜装置。
(6)前記膜形成機構がスパッタリング法による膜形成機構である(1)〜(5)のいずれかに記載の成膜装置。
本発明の成膜装置は、図1に示すようにロール状のフィルム基材の巻き出しと巻き取りを行う巻出・巻取室2とフィルム基材に成膜を行う成膜室3からなることが好ましい。巻出・巻取室2と成膜室3は、それぞれ図示しない真空排気機構に接続されていることが好ましい。巻出・巻取室2と成膜室3がそれぞれ別々の真空排気機構に接続されていることにより、それぞれの部屋を効率良く減圧下にすることができる。真空排気機構は、成膜装置内を減圧してその状態を維持するため、ドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオコイル等の種々の真空排気機構が具備されることが好ましい。
本発明のランプヒーターに関して説明する。
(i)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(ii)前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(iii)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(iv)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(v)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する。
本発明の成膜装置で用いられる膜形成機構は、成膜装置内においてフィルム基材が熱負けしにくく薄膜を形成することができるものであれば特に限定されず、スパッタリング法、プラズマCVD法、真空蒸着法、イオンプレーティング法による膜形成機構などを用いることができる。その中でも良質な薄膜を得やすいという観点より、スパッタリング法やプラズマCVD法による膜形成機構を用いることが好ましい。様々な酸化物薄膜を形成することができる観点より、スパッタリング法による膜形成機構を用いることがより好ましい。また、ロール・ツー・ロール方式で搬送されるフィルム基材表面に連続的に効率良く成膜処理を施すことができる観点から、スパッタリング法による膜形成機構としてマグネトロンスパッタリングカソードを用いることがより好ましい。
本発明の成膜装置で成膜されるフィルム基材は、有機高分子化合物を含むフィルム基材であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマーを含むフィルムなどを使用することができる。高分子フィルム基材を構成するポリマーは、ホモポリマー、コポリマーのいずれでもよいし、また、単独のポリマーであってもよいし複数のポリマーをブレンドして用いてもよい。
2 巻出・巻取室
3 成膜室
4、25、30 フィルム基材
11 巻き出しロール
12、18 張力センサーロール
13、14 巻き出し側ガイドロール
15 温調ロール
16、17 巻き取り側ガイドロール
19 巻き取りロール
20 照射角度可変のリフレクター(C)を有するランプヒーター(A)
21 マグネトロンスパッタリングカソード
22 照射角度可変のリフレクター(D)を有するランプヒーター(B)
23 平行光型リフレクター
24、29 ランプヒーター
26、31 ランプヒーターの照射光
27、32 リフレクターからの反射光
28 集光型リフレクター
Claims (6)
- 真空排気機構と、ロール状のフィルム基材を巻き出す巻き出しロールと、前記フィルム基材を巻き取る巻き取りロールと、前記巻き出しロールと前記巻き取りロールとの間に設置された温調ロールと、前記温調ロール上を搬送されるフィルム基材の前記温調ロールとは反対の面側に設置された該フィルム基材への膜形成機構とを備える成膜装置であって、以下の(i)〜(v)のいずれかを満たす成膜装置。
(i)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(ii)前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(iii)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有する
(iv)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する
(v)前記膜形成機構の巻き出し側にランプヒーター(A)および前記膜形成機構の巻き取り側にランプヒーター(B)を有し、該ランプヒーター(A)が照射角度可変のリフレクター(C)を有し、該ランプヒーター(B)が照射角度可変のリフレクター(D)を有する - 前記リフレクター(C)が平行光型リフレクター、集光型リフレクターまたはパラボラ型リフレクターのいずれかである請求項1に記載の成膜装置。
- 前記リフレクター(D)が平行光型リフレクター、集光型リフレクターまたはパラボラ型リフレクターのいずれかである請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記ランプヒーター(A)および/または前記ランプヒーター(B)が0.8〜2.5μmにピーク波長をもつ赤外ヒーターである請求項1〜3のいずれかに記載の成膜装置。
- 前記ランプヒーター(A)および/または前記ランプヒーター(B)がハロゲンランプヒーターである請求項1〜3のいずれかに記載の成膜装置。
- 前記膜形成機構がスパッタリング法による膜形成機構である請求項1〜5のいずれかに記載の成膜装置。
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- 2015-04-28 JP JP2015091196A patent/JP6481486B2/ja active Active
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